JP2017001218A - 部材の表面の撥水処理方法 - Google Patents
部材の表面の撥水処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017001218A JP2017001218A JP2015115201A JP2015115201A JP2017001218A JP 2017001218 A JP2017001218 A JP 2017001218A JP 2015115201 A JP2015115201 A JP 2015115201A JP 2015115201 A JP2015115201 A JP 2015115201A JP 2017001218 A JP2017001218 A JP 2017001218A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- repellent treatment
- exposure
- water
- water repellent
- exposure step
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1606—Coating the nozzle area or the ink chamber
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0046—Photosensitive materials with perfluoro compounds, e.g. for dry lithography
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/325—Non-aqueous compositions
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
【解決手段】 部材の表面の撥水処理方法であって、感光性樹脂層の表面にフッ素原子を有する化合物を含有する材料を付与し材料層を有する部材を形成する工程と、前記部材を露光装置で露光して前記部材に潜像を形成する第1の露光工程と、前記潜像を形成した部材を現像する現像工程と、前記現像工程の後に前記部材を露光装置で露光する第2の露光工程と、を有することを特徴とする部材の表面の撥水処理方法。
【選択図】 図5
Description
まず、図4(a)に示すように、シリコンで形成された基板1の上に、下層8a及び上層8bで構成された感光性樹脂層8を形成した。
・部材の表面の露光量;1.5J/cm2(波長:270〜400nm)
・加熱条件:140℃、4分
第2の露光工程の後、部材10に対して、140℃、4分の加熱(仮硬化)を行った。続いて、基板1にドライエッチングによって供給口を形成し、部材10に紫外光を照射した後で乳酸メチルに浸漬し、下層8bを除去した。
実施例1に対して、比較例1では第2の露光工程を行わなかった。これ以外は実施例1と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。仮硬化後に、純水の部材10の表面に対する接触角を同様にして測定したところ、91°であった。
実施例2では、仮硬化の後で、かつ本硬化の前に、第2の露光工程を行った。即ち、図5に示す(B)のタイミングで第2の露光工程を行った。これ以外は実施例1と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。
実施例2に対して、比較例2では第2の露光工程を行わなかった。これ以外は実施例2と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。第2の露光工程を行った後に、純水の部材10の表面に対する接触角を同様にして測定したところ、92°であった。
実施例3では、本硬化の後に第2の露光工程を行った。即ち、図5に示す(C)のタイミングで第2の露光工程を行った。また、第2の露光工程において、部材の表面の露光量を2.0J/cm2とした。これ以外は実施例1と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。
実施例3に対して、比較例3では第2の露光工程を行わなかった。これ以外は実施例3と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。第2の露光工程を行った後に、純水の部材10の表面に対する接触角を同様にして測定したところ、92°であった。
Claims (14)
- 部材の表面の撥水処理方法であって、
感光性樹脂層の表面にフッ素原子を有する化合物を含有する材料を付与し、前記感光性樹脂層の表面側に前記材料を含有する材料層を有する部材を形成する工程と、
前記部材を露光装置で露光して前記部材に潜像を形成する第1の露光工程と、
前記潜像を形成した部材を現像する現像工程と、
前記現像工程の後に前記部材を露光装置で露光する第2の露光工程と、
を有することを特徴とする部材の表面の撥水処理方法。 - 前記第1の露光工程における前記部材の表面の露光量は1.0J/cm2以下である請求項1に記載の部材の表面の撥水処理方法。
- 前記第1の露光工程と前記第2の露光工程とによる前記部材の表面の合計の露光量は1.5J/cm2以上である請求項1または2に記載の部材の表面の撥水処理方法。
- 前記第2の露光工程を行うことで、純水の前記部材の表面に対する接触角が、前記第2の露光工程を行わない場合と比較して3°以上高くなる請求項1乃至3のいずれか1項に記載の部材の表面の撥水処理方法。
- 前記第2の露光工程では、前記部材の表面に対して1時間以内に1.0J/cm2以上の露光量で露光を行う請求項1乃至4のいずれか1項に記載の部材の表面の撥水処理方法。
- 前記部材には、120℃以上160℃以下で2分以上20分以下の加熱を行う仮硬化と、170℃以上220℃以下で30分以上120分以下の加熱を行う本硬化とを行う請求項1乃至5のいずれか1項に記載の部材の表面の撥水処理方法。
- 前記第2の露光工程の後に仮硬化を行う請求項1乃至6のいずれか1項に記載の部材の表面の撥水処理方法。
- 前記第2の露光工程の前に仮硬化を行う請求項1乃至6のいずれか1項に記載の部材の表面の撥水処理方法。
- 前記第2の露光工程の後に本硬化を行う請求項1乃至8のいずれか1項に記載の部材の表面の撥水処理方法。
- 前記第2の露光工程の前に本硬化を行う請求項1乃至8のいずれか1項に記載の部材の表面の撥水処理方法。
- 前記感光性樹脂層はネガ型感光性樹脂層である請求項1乃至10のいずれか1項に記載の部材の表面の撥水処理方法。
- 前記フッ素原子を有する化合物は加水分解性シラン化合物の縮合物である請求項1乃至11のいずれか1項に記載の部材の表面の撥水処理方法。
- 前記加水分解性シラン化合物はエポキシ基を有する加水分解性シラン化合物を含む加水分解性シラン化合物の縮合物である請求項12に記載の部材の表面の撥水処理方法。
- 液体吐出ヘッドの吐出口が開口する吐出口面の撥水処理方法であって、請求項1乃至13のいずれか1項に記載の部材の表面の撥水処理方法によって、吐出口形成部材の吐出口が開口する表面の撥水処理を行うことを特徴とする液体吐出ヘッドの吐出口面の撥水処理方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015115201A JP6632225B2 (ja) | 2015-06-05 | 2015-06-05 | 吐出口面の撥水処理方法 |
US15/172,005 US10274826B2 (en) | 2015-06-05 | 2016-06-02 | Method for imparting water repellency to surface of member |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015115201A JP6632225B2 (ja) | 2015-06-05 | 2015-06-05 | 吐出口面の撥水処理方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017001218A true JP2017001218A (ja) | 2017-01-05 |
JP2017001218A5 JP2017001218A5 (ja) | 2018-07-05 |
JP6632225B2 JP6632225B2 (ja) | 2020-01-22 |
Family
ID=57452892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015115201A Active JP6632225B2 (ja) | 2015-06-05 | 2015-06-05 | 吐出口面の撥水処理方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10274826B2 (ja) |
JP (1) | JP6632225B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003019805A (ja) * | 2002-05-08 | 2003-01-21 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
JP2003277472A (ja) * | 2002-01-17 | 2003-10-02 | Canon Inc | エポキシ樹脂組成物 |
US20080170101A1 (en) * | 2007-01-17 | 2008-07-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ink-jet printhead and manufacturing method thereof |
JP2010023525A (ja) * | 2009-11-02 | 2010-02-04 | Canon Inc | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
JP2012131212A (ja) * | 2010-03-31 | 2012-07-12 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58220754A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-22 | Canon Inc | インクジエツト記録ヘツド |
EP0779337B1 (en) * | 1995-06-13 | 2001-10-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Fluorine-containing epoxy resin composition highly soluble in solvents |
US6472129B2 (en) * | 1998-03-10 | 2002-10-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Fluorine-containing epoxy resin composition, and surface modification process, ink jet recording head and ink jet recording apparatus making use of the same |
JP2001162804A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-19 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド、ヘッドカートリッジおよび液体吐出装置 |
CN1208388C (zh) * | 2002-01-17 | 2005-06-29 | 佳能株式会社 | 环氧树脂组合物、表面处理方法、液体喷射记录头和液体喷射记录装置 |
JP3963456B2 (ja) * | 2003-06-16 | 2007-08-22 | キヤノン株式会社 | 感光性樹脂組成物およびこれを用いたインクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
JP4320620B2 (ja) * | 2003-08-11 | 2009-08-26 | ブラザー工業株式会社 | ノズルプレートの製造方法 |
US7196136B2 (en) * | 2004-04-29 | 2007-03-27 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | UV curable coating composition |
US20080007595A1 (en) * | 2006-07-10 | 2008-01-10 | John William Krawczyk | Methods of Etching Polymeric Materials Suitable for Making Micro-Fluid Ejection Heads and Micro-Fluid Ejection Heads Relating Thereto |
US7971964B2 (en) * | 2006-12-22 | 2011-07-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and method for manufacturing the same |
US8075094B2 (en) * | 2008-07-09 | 2011-12-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head and process for producing the same |
JP4857354B2 (ja) * | 2009-03-13 | 2012-01-18 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
US8409454B2 (en) * | 2009-04-01 | 2013-04-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Production process for structure and production process for liquid discharge head |
KR101313974B1 (ko) * | 2009-09-02 | 2013-10-01 | 캐논 가부시끼가이샤 | 액체 토출 헤드 |
JP5495954B2 (ja) * | 2010-05-31 | 2014-05-21 | キヤノン株式会社 | 微細パターンの製造方法 |
JP5501167B2 (ja) * | 2010-09-08 | 2014-05-21 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP5701000B2 (ja) * | 2010-10-07 | 2015-04-15 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
JP5828702B2 (ja) * | 2011-07-26 | 2015-12-09 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP6000715B2 (ja) * | 2011-09-29 | 2016-10-05 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP5591361B2 (ja) * | 2012-04-18 | 2014-09-17 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド |
JP5959941B2 (ja) * | 2012-05-31 | 2016-08-02 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP6168825B2 (ja) * | 2013-04-11 | 2017-07-26 | キヤノン株式会社 | コーティング材料、コーティング及びその製造方法、並びにインクジェットヘッド及びその製造方法 |
-
2015
- 2015-06-05 JP JP2015115201A patent/JP6632225B2/ja active Active
-
2016
- 2016-06-02 US US15/172,005 patent/US10274826B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003277472A (ja) * | 2002-01-17 | 2003-10-02 | Canon Inc | エポキシ樹脂組成物 |
JP2003019805A (ja) * | 2002-05-08 | 2003-01-21 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
US20080170101A1 (en) * | 2007-01-17 | 2008-07-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ink-jet printhead and manufacturing method thereof |
JP2010023525A (ja) * | 2009-11-02 | 2010-02-04 | Canon Inc | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
JP2012131212A (ja) * | 2010-03-31 | 2012-07-12 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10274826B2 (en) | 2019-04-30 |
JP6632225B2 (ja) | 2020-01-22 |
US20160357106A1 (en) | 2016-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5591361B2 (ja) | インクジェット記録ヘッド | |
TWI300517B (en) | Photosensitive resin composition, method of forming level difference pattern using the photosensitive resin composition, and method of producing ink jet head | |
US7485412B2 (en) | Ink jet head manufacturing method and ink jet head manufactured by the manufacturing method | |
JP5084630B2 (ja) | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法、構造体およびその製造方法 | |
TWI341847B (en) | Resin composition, resin cured product, and liquid discharge head | |
JP6207212B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
US20110244393A1 (en) | Photosensitive resin composition and method for producing liquid discharge head | |
JP2016150522A (ja) | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 | |
JP5495954B2 (ja) | 微細パターンの製造方法 | |
JP5783854B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法、および液体吐出ヘッド | |
JP2011252967A5 (ja) | ||
JP7413039B2 (ja) | 液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP5959941B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2018051883A (ja) | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 | |
JP7071179B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP6632225B2 (ja) | 吐出口面の撥水処理方法 | |
JP6821467B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法及び液体吐出ヘッド | |
JP7297442B2 (ja) | 微細構造体の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP5859070B2 (ja) | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 | |
JP2016038468A (ja) | 感光性樹脂層のパターニング方法 | |
JP6333016B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2010240873A (ja) | インクジェットヘッドの製造方法およびインクジェットヘッド | |
JP2014136402A (ja) | 微細構造体の形成方法およびインクジェットヘッドの製造方法 | |
JP2020106698A (ja) | 感光性組成物、並びにその用途としてのコーティング膜の製造方法、光造形物の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP5932250B2 (ja) | 構造体の製造方法および液体吐出ヘッドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180522 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180522 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190312 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190510 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191112 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191210 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6632225 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |