JP2016536249A - 多結晶シリコンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
異なる予備ろ過セットアップを備える空気処理システムから、ルーフに取り付けられたクラスU15(クラス100)のPTFE膜を備える浮遊粒子フィルターを有するクリーンルームへ空気を供給する。
空気処理システム中、ガラス繊維から構成されるクラスG4の粗塵フィルターはステージ1にあり、10重量%よりも高いホウ素含有量を有するガラス繊維から構成されるクラスM6の細塵フィルターはステージ2にある。
空気処理システム中、ガラス繊維から構成されるクラスG4の粗塵フィルターがステージ1にあり、10重量%よりも高いホウ素含有量を有するガラス繊維から構成されるクラスM6の細塵フィルターはステージ2にある。
空気処理システム中、合成ポリプロピレン製のクラスG4の粗塵フィルターがステージ1にあり、合成ポリエステル材料製のクラスM6の細塵フィルターがステージ2にある。
空気処理システム中、合成ポリエステル材料製のクラスM6のフィルターがある。
空気処理システム中、合成ポリエステル材料製のクラスM6のフィルターがある。
Claims (10)
- 少なくとも1つの支持体上に多結晶シリコンを堆積させて少なくとも1つの多結晶シリコンロッドを得ること、またはシリコン粒子上に多結晶シリコンを堆積させて多結晶シリコン細粒を得ることを含み、
個々の堆積はクラス1〜100,000のクリーンルーム内の反応器中で行われ、
ろ過空気はクリーンルーム中へ導入され、前記空気は、最初に1μm以上の粒子を分離する少なくとも1つのフィルターに通過させた後、1μm未満の粒子を分離する浮遊粒子フィルターに通過させることによりろ過される、多結晶シリコンの製造方法。 - 1μm以上の粒子を分離する膜は、1〜10μmのサイズの粒子用の細塵フィルターである、請求項1に記載の方法。
- 前記細塵フィルターの上流に結合された粗塵フィルターが、10μmよりも大きい粒子を分離する、請求項2に記載の方法。
- 前記浮遊粒子フィルターが、PTFE膜を備えた浮遊粒子フィルターである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記細塵フィルターおよび粗塵フィルターが、ポリエステル繊維またはポリプロピレン布帛から構成される、PTFE膜を備えたマットを含んでなり、個々のフィルターは、0.1重量%未満のホウ素およびリン、0.01重量%未満のヒ素、アルミニウムおよび硫黄、ならびに0.1重量%未満のスズを含む、請求項2〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 全ての接着剤およびマットが装着されるフレームが、0.1重量%未満のホウ素およびリン、0.01重量%未満のヒ素およびアルミ、ならびに0.1重量%未満のスズを含む、請求項5に記載の方法。
- 少なくとも1つの多結晶シリコンロッドを、粉砕システムにより塊へ粉砕し、前記多結晶シリコンロッドの多結晶シリコン塊への粉砕は、堆積の場合と同様に、クラス1〜100,000のクリーンルーム内で行われ、前記堆積と同じフィルターが用いられる、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 多結晶シリコン塊または多結晶シリコン細粒を分類し、分類のシステムは、堆積の場合と同様に、クラス1〜100,000のクリーンルーム内で行われ、前記堆積と同じフィルターが用いられる、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記多結晶シリコン塊をクリーニングシステム中で湿式化学的処理へ供し、好ましくはドライヤーによる乾燥操作へ供し、前記クリーニングシステムおよびドライヤーは、クラス1〜100,000のクリーンルームで行われ、前記堆積と同じフィルターが用いられる、請求項7に記載の方法。
- 前記多結晶シリコン塊をプラスチックバックに包装し、前記包装システムはクラス1〜100,000のクリーンルーム内で行われ、前記堆積と同じフィルターが用いられるが、ただし、湿式化学的処理、および、好ましくはそれに続く、多結晶シリコン塊の乾燥操作、クリーニングシステムからの任意の輸送ラインおよび/または包装システムも、クラス1〜100,000のクリーンルームで行われ、前記堆積と同じフィルターが用いられる、請求項7〜9のいずれか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102013221826.5 | 2013-10-28 | ||
DE201310221826 DE102013221826A1 (de) | 2013-10-28 | 2013-10-28 | Verfahren zur Herstellung von polykristallinem Silicium |
PCT/EP2014/072328 WO2015062880A1 (de) | 2013-10-28 | 2014-10-17 | Verfahren zur herstellung von polykristallinem silicium |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016536249A true JP2016536249A (ja) | 2016-11-24 |
JP6301465B2 JP6301465B2 (ja) | 2018-03-28 |
Family
ID=51743434
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016526916A Expired - Fee Related JP6301465B2 (ja) | 2013-10-28 | 2014-10-17 | 多結晶シリコンの製造方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9771651B2 (ja) |
EP (1) | EP3063092A1 (ja) |
JP (1) | JP6301465B2 (ja) |
KR (1) | KR101844911B1 (ja) |
CN (1) | CN105829246B (ja) |
DE (1) | DE102013221826A1 (ja) |
MY (1) | MY176742A (ja) |
TW (1) | TWI531693B (ja) |
WO (1) | WO2015062880A1 (ja) |
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-
2013
- 2013-10-28 DE DE201310221826 patent/DE102013221826A1/de not_active Withdrawn
-
2014
- 2014-10-17 MY MYPI2016000581A patent/MY176742A/en unknown
- 2014-10-17 US US15/032,227 patent/US9771651B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2014-10-17 EP EP14786183.5A patent/EP3063092A1/de not_active Withdrawn
- 2014-10-17 JP JP2016526916A patent/JP6301465B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-10-17 CN CN201480059376.8A patent/CN105829246B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-10-17 KR KR1020167010514A patent/KR101844911B1/ko active IP Right Grant
- 2014-10-17 WO PCT/EP2014/072328 patent/WO2015062880A1/de active Application Filing
- 2014-10-23 TW TW103136564A patent/TWI531693B/zh not_active IP Right Cessation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201520384A (zh) | 2015-06-01 |
KR101844911B1 (ko) | 2018-05-18 |
KR20160049048A (ko) | 2016-05-04 |
TWI531693B (zh) | 2016-05-01 |
MY176742A (en) | 2020-08-20 |
US9771651B2 (en) | 2017-09-26 |
JP6301465B2 (ja) | 2018-03-28 |
CN105829246A (zh) | 2016-08-03 |
DE102013221826A1 (de) | 2015-04-30 |
WO2015062880A1 (de) | 2015-05-07 |
EP3063092A1 (de) | 2016-09-07 |
US20160273099A1 (en) | 2016-09-22 |
CN105829246B (zh) | 2018-04-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170615 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |