JP2016532286A - オプトエレクトロニクス半導体エレメント及びオプトエレクトロニクス半導体エレメントの製造方法 - Google Patents
オプトエレクトロニクス半導体エレメント及びオプトエレクトロニクス半導体エレメントの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016532286A JP2016532286A JP2016517368A JP2016517368A JP2016532286A JP 2016532286 A JP2016532286 A JP 2016532286A JP 2016517368 A JP2016517368 A JP 2016517368A JP 2016517368 A JP2016517368 A JP 2016517368A JP 2016532286 A JP2016532286 A JP 2016532286A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor element
- optoelectronic semiconductor
- semiconductor chip
- molded body
- contact layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/62—Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/52—Encapsulations
- H01L33/54—Encapsulations having a particular shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/005—Processes
- H01L33/0095—Post-treatment of devices, e.g. annealing, recrystallisation or short-circuit elimination
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/483—Containers
- H01L33/486—Containers adapted for surface mounting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/568—Temporary substrate used as encapsulation process aid
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/04105—Bonding areas formed on an encapsulation of the semiconductor or solid-state body, e.g. bonding areas on chip-scale packages
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/18—High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/19—Manufacturing methods of high density interconnect preforms
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/18—High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/23—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
- H01L2224/25—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of a plurality of high density interconnect connectors
- H01L2224/251—Disposition
- H01L2224/2518—Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/82—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected by forming build-up interconnects at chip-level, e.g. for high density interconnects [HDI]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/93—Batch processes
- H01L2224/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L2224/96—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being encapsulated in a common layer, e.g. neo-wafer or pseudo-wafer, said common layer being separable into individual assemblies after connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
- H01L2924/1815—Shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2933/00—Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2933/0008—Processes
- H01L2933/0033—Processes relating to semiconductor body packages
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2933/00—Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2933/0008—Processes
- H01L2933/0033—Processes relating to semiconductor body packages
- H01L2933/005—Processes relating to semiconductor body packages relating to encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2933/00—Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2933/0008—Processes
- H01L2933/0033—Processes relating to semiconductor body packages
- H01L2933/0066—Processes relating to semiconductor body packages relating to arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/52—Encapsulations
Abstract
Description
・それぞれの放射通過面が共通の支持体上に位置するように設けられた複数のオプトエレクトロニクス半導体チップから成る接合体を準備するステップと、
・複数のオプトエレクトロニクス半導体チップを成形材料へ埋め込み、これにより、半導体チップの側面及び裏側の面を成形材料によって覆い、各半導体チップに、半導体チップの側面に位置しかつそれぞれ半導体チップの最小寸法よりも大きな第1の寸法及び第2の寸法を有する成形材料の突出部分領域を対応させるステップと、
・共通の支持体を剥離させるステップと、
・第1のコンタクト層及び第2のコンタクト層を形成するために成形材料上に第1の金属化部及び第2の金属化部を設けるステップと、
・複数のオプトエレクトロニクス半導体エレメントへの個別化を行うステップと
を含む。
Claims (18)
- オプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)であって、
放射の大部分が通過する放射通過面(1A)と該放射通過面(1A)に対して横断方向に位置する複数の側面(1B)と該放射通過面(1A)の反対側に位置する裏側の面(1C)とを含むオプトエレクトロニクス半導体チップ(1)と、
放射通過側の主面(2A)と複数の側面(2B)と裏側の主面(2C)とを含む成形体(2)と、
前記成形体(2)上に設けられた、前記半導体チップ(1)の電気的接続のための第1のコンタクト層(3A)及び第2のコンタクト層(3B)と、
前記放射通過面(1A)に対して横断方向に位置する、前記半導体エレメント(100)の実装のための実装面(4)と
を備え、
前記オプトエレクトロニクス半導体チップ(1)は部分的に前記成形体(2)に埋め込まれており、前記成形体(2)は、前記半導体チップ(1)の少なくとも2つの前記側面(2B)と前記裏側の面(1C)とを少なくとも部分的に覆う成形材料(200)から形成されており、
前記成形体(2)は突出部分領域(8A,8B)を有しており、該突出部分領域は、前記半導体チップ(1)の所定の側面(1B)に位置し、かつ、それぞれ前記半導体チップ(1)の最小寸法(D)より大きい第1の寸法(T)及び第2の寸法(B)を有する、
ことを特徴とするオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 前記半導体チップ(1)の前記放射通過面(1A)と前記成形体(2)の前記放射通過側の主面(2A)とは、前記半導体エレメント(100)の放射通過側の面(100A)のそれぞれ一部を形成しており、
前記放射通過側の面(100A)は、前記半導体エレメント(100)を放射通過側で外部へ向かって画定している、
請求項1記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 前記突出部分領域(8A,8B)の前記第1の寸法(T)及び前記第2の寸法(B)は、前記半導体チップ(1)の前記最小寸法(D)の少なくとも2倍の大きさである、
請求項1又は2記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 前記第1のコンタクト層(3A)及び前記第2のコンタクト層(3B)は、それぞれ、前記成形体(2)の前記放射通過側の主面(2A)から、前記成形体(2)の、前記実装面(4)に対して横断方向に位置する側面(2B)まで延在している、
請求項1から3までのいずれか1項記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 前記成形体(2)は、前記オプトエレクトロニクス半導体チップ(1)の前記裏側の面(1C)から前記成形体(2)の前記裏側の主面(2C)まで延在する開口(5)を有する、
請求項1から4までのいずれか1項記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 前記開口(5)は、その下側では前記半導体チップ(1)の前記裏側の面(1C)によって、さらに、その周側では少なくとも部分的に前記成形体(2)の少なくとも1つの内面(2D)によって、画定されている、
請求項5記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 前記第1のコンタクト層(3A)は前記成形体(2)の前記裏側の主面(2C)から前記開口(5)内へ延在している、
請求項5又は6記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 前記第1のコンタクト層(3A)は、前記成形体(2)の前記内面(2D)及び前記オプトエレクトロニクス半導体チップ(1)の前記裏側の面(1C)に被着されている、
請求項7記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 前記開口(5)に充填物(11)が設けられており、
前記第1のコンタクト層(3A)は前記充填物(11)と前記成形体(2)との間に配置されている、
請求項5から8までのいずれか1項記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 前記成形体(2)は単層で形成されている、
請求項1から9までのいずれか1項記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 第3のコンタクト層(3C)が設けられており、
前記成形体(2)が2層で形成されており、
前記第3のコンタクト層(3C)は前記成形体(2)の第1の層(21)と第2の層(22)との間に設けられている、
請求項1から4までのいずれか1項記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 前記第1のコンタクト層(3A)と前記半導体チップ(1)の前記裏側の面(1C)とが前記第3のコンタクト層(3C)を介して相互に接続されている、
請求項11記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 前記半導体エレメント(100)の前記実装面(4)の少なくとも一部は、前記成形体(2)の所定の側面(2B)によって形成されており、
2つの前記コンタクト層(3A,3B)の少なくとも一方は、前記所定の側面(2B)まで延在している、
請求項1から12までのいずれか1項記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 前記半導体エレメント(100)の前記実装面(4)の一部は、前記オプトエレクトロニクス半導体チップ(1)の所定の側面(1B)によって形成されている、
請求項1から13までのいずれか1項記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)。 - 請求項1から14までのいずれか1項記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)の製造方法であって、
それぞれの放射通過面(1A)が共通の支持体(40)上に位置するように設けられた複数のオプトエレクトロニクス半導体チップ(1)から成る接合体を準備するステップと、
前記複数のオプトエレクトロニクス半導体チップ(1)を成形材料(200)へ埋め込み、これにより、前記半導体チップ(1)の側面(1B)及び裏側の面(1C)を前記成形材料(200)によって覆い、各半導体チップ(1)に、前記半導体チップ(1)の所定の側面(1B)に位置しかつそれぞれ前記半導体チップ(1)の最小寸法(D)よりも大きな第1の寸法(T)及び第2の寸法(B)を有する前記成形材料の突出部分領域(8A,8B)を対応させる、ステップと、
前記共通の支持体(40)を剥離させるステップと、
第1のコンタクト層(3A)及び第2のコンタクト層(3B)を形成するために前記成形材料上に第1の金属化部及び第2の金属化部を設けるステップと、
複数のオプトエレクトロニクス半導体エレメントへの個別化を行うステップと
を含む
ことを特徴とする方法。 - 請求項15記載のオプトエレクトロニクス半導体エレメント(100)の製造方法であって、前記成形材料(200)に、前記オプトエレクトロニクス半導体チップ(1)の前記裏側の面(1C)まで延在する複数の開口(5)を形成する方法。
- 前記成形材料(200)を閉じた層として設け、
前記複数の開口(5)を、前記成形材料(200)をレーザーアブレーションによって除去することで形成する、
請求項16記載の方法。 - 前記成形材料(200)を、中断部を有する層として設ける、
請求項16記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102013110733.8A DE102013110733A1 (de) | 2013-09-27 | 2013-09-27 | Optoelektronisches Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements |
DE102013110733.8 | 2013-09-27 | ||
PCT/EP2014/068001 WO2015043851A1 (de) | 2013-09-27 | 2014-08-25 | Optoelektronisches halbleiterbauelement und verfahren zur herstellung eines optoelektronischen halbleiterbauelements |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016532286A true JP2016532286A (ja) | 2016-10-13 |
JP6223555B2 JP6223555B2 (ja) | 2017-11-01 |
Family
ID=51398625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016517368A Active JP6223555B2 (ja) | 2013-09-27 | 2014-08-25 | オプトエレクトロニクス半導体エレメント及びオプトエレクトロニクス半導体エレメントの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9780269B2 (ja) |
JP (1) | JP6223555B2 (ja) |
CN (1) | CN105594002B (ja) |
DE (2) | DE102013110733A1 (ja) |
WO (1) | WO2015043851A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102013114345A1 (de) * | 2013-12-18 | 2015-06-18 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements |
DE102014118349B4 (de) | 2014-12-10 | 2023-07-20 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung einer Mehrzahl von Halbleiterbauelementen |
DE102015111492B4 (de) | 2015-07-15 | 2023-02-23 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Bauelemente und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen |
DE102015219824A1 (de) * | 2015-10-13 | 2017-05-04 | Osram Gmbh | Verfahren zum Herstellen einer elektronischen Baugruppe und Elektronische Baugruppe |
JP6384533B2 (ja) * | 2015-12-21 | 2018-09-05 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
DE102016101652A1 (de) | 2016-01-29 | 2017-08-03 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Bauelement mit Seitenkontakten |
DE102016103059A1 (de) * | 2016-02-22 | 2017-08-24 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements |
DE102016125430A1 (de) * | 2016-12-22 | 2018-06-28 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Oberflächenmontierbarer Halbleiterlaser, Anordnung mit einem solchen Halbleiterlaser und Betriebsverfahren hierfür |
DE102017115780A1 (de) * | 2017-07-13 | 2019-01-17 | Tdk Electronics Ag | Leuchtdiodenbauteil, Leuchtdiodenanordnung und Verfahren zur Herstellung eines Leuchtdiodenbauteils |
DE102018111175A1 (de) * | 2018-05-09 | 2019-11-14 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Pixel, Multipixel-LED-Modul und Herstellungsverfahren |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0621268A (ja) * | 1991-01-18 | 1994-01-28 | Nippon Steel Corp | Tabパッケージ |
JPH08242019A (ja) * | 1995-03-06 | 1996-09-17 | Shichizun Denshi:Kk | チップ型発光ダイオード |
JPH10150138A (ja) * | 1996-11-15 | 1998-06-02 | Citizen Electron Co Ltd | 下面電極付き側面使用電子部品 |
JP2000196000A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-14 | Rohm Co Ltd | チップ電子部品及びその製造方法 |
JP2002313914A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-25 | Sony Corp | 配線形成方法及びこれを用いた素子の配列方法、画像表示装置の製造方法 |
JP2003168762A (ja) * | 2001-12-03 | 2003-06-13 | Sony Corp | 電子部品及びその製造方法 |
JP2004127962A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Mitsui High Tec Inc | 半導体装置の樹脂封止方法 |
JP2004363279A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Sony Corp | 光電変換装置の製造方法、並びにその製造に用いる疑似ウェーハの製造方法 |
JP2013506985A (ja) * | 2009-10-01 | 2013-02-28 | エクセリタス カナダ,インコーポレイテッド | 横向きあるいは上向きデバイス配置のラミネートリードレスキャリアパッケージングを備えた光電子デバイス |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10156386B4 (de) | 2001-11-16 | 2007-08-09 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterchips |
DE10237084A1 (de) * | 2002-08-05 | 2004-02-19 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Leiterrahmens und Verfahren zum Herstellen eines oberflächenmontierbaren Halbleiterbauelements |
JP2005159296A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-16 | Sharp Corp | オプトデバイスのパッケージ構造 |
KR100719282B1 (ko) * | 2005-12-20 | 2007-05-17 | 서울반도체 주식회사 | 탑 뷰 및 사이드 뷰 공용 발광 다이오드 |
KR101047801B1 (ko) | 2008-12-29 | 2011-07-07 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 디바이스 패키지 및 그 제조방법 |
DE102010046257A1 (de) | 2010-09-22 | 2012-03-22 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements |
DE102011077898A1 (de) | 2011-06-21 | 2012-12-27 | Osram Ag | LED-Leuchtvorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer LED-Leuchtvorrichtung |
-
2013
- 2013-09-27 DE DE102013110733.8A patent/DE102013110733A1/de not_active Withdrawn
-
2014
- 2014-08-25 CN CN201480053518.XA patent/CN105594002B/zh active Active
- 2014-08-25 DE DE112014004422.9T patent/DE112014004422B4/de active Active
- 2014-08-25 WO PCT/EP2014/068001 patent/WO2015043851A1/de active Application Filing
- 2014-08-25 US US15/022,535 patent/US9780269B2/en active Active
- 2014-08-25 JP JP2016517368A patent/JP6223555B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0621268A (ja) * | 1991-01-18 | 1994-01-28 | Nippon Steel Corp | Tabパッケージ |
JPH08242019A (ja) * | 1995-03-06 | 1996-09-17 | Shichizun Denshi:Kk | チップ型発光ダイオード |
JPH10150138A (ja) * | 1996-11-15 | 1998-06-02 | Citizen Electron Co Ltd | 下面電極付き側面使用電子部品 |
JP2000196000A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-14 | Rohm Co Ltd | チップ電子部品及びその製造方法 |
JP2002313914A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-25 | Sony Corp | 配線形成方法及びこれを用いた素子の配列方法、画像表示装置の製造方法 |
JP2003168762A (ja) * | 2001-12-03 | 2003-06-13 | Sony Corp | 電子部品及びその製造方法 |
JP2004127962A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Mitsui High Tec Inc | 半導体装置の樹脂封止方法 |
JP2004363279A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Sony Corp | 光電変換装置の製造方法、並びにその製造に用いる疑似ウェーハの製造方法 |
JP2013506985A (ja) * | 2009-10-01 | 2013-02-28 | エクセリタス カナダ,インコーポレイテッド | 横向きあるいは上向きデバイス配置のラミネートリードレスキャリアパッケージングを備えた光電子デバイス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20160225964A1 (en) | 2016-08-04 |
CN105594002B (zh) | 2018-04-17 |
US9780269B2 (en) | 2017-10-03 |
DE112014004422A5 (de) | 2016-06-16 |
DE102013110733A1 (de) | 2015-04-02 |
JP6223555B2 (ja) | 2017-11-01 |
DE112014004422B4 (de) | 2022-09-08 |
WO2015043851A1 (de) | 2015-04-02 |
CN105594002A (zh) | 2016-05-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6223555B2 (ja) | オプトエレクトロニクス半導体エレメント及びオプトエレクトロニクス半導体エレメントの製造方法 | |
TWI529974B (zh) | 具有模製波長轉換層之發光裝置 | |
JP5334966B2 (ja) | 光電構成素子の製造方法 | |
JP6161709B2 (ja) | 複数のオプトエレクトロニクス半導体素子を製造するための方法 | |
JP5175885B2 (ja) | 白色光発光ダイオードチップ及びその製造方法 | |
JP6114463B2 (ja) | 半導体部品および半導体部品の製造方法 | |
JP6261718B2 (ja) | 発光半導体素子および発光半導体素子の製造方法 | |
JP6185415B2 (ja) | 半導体発光装置 | |
KR101426433B1 (ko) | 반도체 발광소자를 제조하는 방법 | |
JP6106755B2 (ja) | 組込み保護ダイオードを備えるオプトエレクトロニクスコンポーネントおよびその製造方法 | |
KR20100063130A (ko) | 유리 커버를 포함한 복사 방출 소자 및 그 제조 방법 | |
KR101660020B1 (ko) | 웨이퍼 레벨 발광 다이오드 패키지 및 그것을 제조하는 방법 | |
JP2013535828A (ja) | 放射放出半導体チップ及び放射放出半導体チップの製造方法 | |
KR101291092B1 (ko) | 반도체 소자 구조물을 제조하는 방법 | |
KR101654339B1 (ko) | 웨이퍼 레벨 발광 다이오드 패키지 및 그것을 제조하는 방법 | |
JP2018508984A (ja) | 複数のオプトエレクトロニクス半導体素子を製造する方法およびオプトエレクトロニクス半導体素子 | |
KR101772550B1 (ko) | 반도체 발광소자 | |
CN104966777A (zh) | 半导体发光装置及其制造方法 | |
KR101873505B1 (ko) | 웨이퍼 레벨 발광 다이오드 패키지 | |
KR101863549B1 (ko) | 반도체 발광소자 | |
KR20150069228A (ko) | 파장변환층을 갖는 발광 다이오드 및 그것을 제조하는 방법 | |
KR101979826B1 (ko) | 발광 다이오드 패키지 | |
KR101299563B1 (ko) | 반도체 소자 구조물을 제조하는 방법 | |
KR101855189B1 (ko) | 반도체 발광소자 | |
KR20170030125A (ko) | 반도체 발광소자 및 이의 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160518 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160518 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170313 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170321 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170620 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170904 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171003 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6223555 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |