JP2016527518A - 変位デバイスおよび方法とそれに関連付けられた運動を検出し推定するための装置 - Google Patents
変位デバイスおよび方法とそれに関連付けられた運動を検出し推定するための装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016527518A JP2016527518A JP2016532170A JP2016532170A JP2016527518A JP 2016527518 A JP2016527518 A JP 2016527518A JP 2016532170 A JP2016532170 A JP 2016532170A JP 2016532170 A JP2016532170 A JP 2016532170A JP 2016527518 A JP2016527518 A JP 2016527518A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stator
- stage
- sensor
- synchronization
- magnetization
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/12—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means
- G01D5/14—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing the magnitude of a current or voltage
- G01D5/142—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing the magnitude of a current or voltage using Hall-effect devices
- G01D5/145—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing the magnitude of a current or voltage using Hall-effect devices influenced by the relative movement between the Hall device and magnetic fields
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D2205/00—Indexing scheme relating to details of means for transferring or converting the output of a sensing member
- G01D2205/90—Two-dimensional encoders, i.e. having one or two codes extending in two directions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
Landscapes
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Linear Motors (AREA)
- Control Of Linear Motors (AREA)
- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
Abstract
Description
図1Aと1Bは、特定の実施形態による変位デバイス100のそれぞれ部分的概略的側面図および上面図である。変位デバイス100は、可動ステージ110とステータ120からなる。可動ステージ110は、1つ以上の磁石アレイ112からなる。ステータ120は、2次元(2D)センサーアレイ500と、複数のコイル122からなる。ステータ120は、可動ステージ110に隣接して位置していても良く、可動ステージと全体的に平行に向き付けられていても良い。図2A、2B、2Cは、ステータ120および/またはコイル122に対するセンサーアレイ500の異なる位置を示した、特定の実施形態による図1の変位デバイス100のそれぞれ部分的概略的側面図である。センサーアレイ500は、ステータ120の上(図2A)、下(図2B)または内(図2C)に位置していても良い。下でより詳細に説明されるように、センサーアレイ500中の各センサー501は、磁場における変動に感度を有する磁場センサーである。センサー501は、制限はされないが、ホール効果磁場センサー、磁気的抵抗センサー、および/または磁束密度を測定することができるその他の好適なタイプの磁場センサーからなっていても良い。下でより詳細に説明されるように、コイル122の各々は、ステータ120の作業領域124(即ち、その上で可動ステージ110が動くことができるステータ120の領域)において、コイル122が線形的に引き延ばされたコイルトレース126を実効的に提供する(図3C参照)ように、特定の寸法に沿って引き延ばされている。
X磁石アレイ112Aとその磁化セグメンツ114Aの特性は、ステージ−X方向とステージ−Y方向がスワップされていることを除けば、Y磁石アレイ112Bとその磁化セグメンツ114Bのものと同様であっても良い。例えば、磁化セグメンツ114Aの磁化方向は、ステージ−Y方向に沿って周期(または波長)λをもった空間的周期性を有する;ステージ−Y方向におけるX磁石アレイ112Aの幅Wxyは、Wxy=Nmλ、ここでNmは正の整数、で与えられる;様々な磁化セグメンツ114Aの磁化方向は、ステージ−X方向と直交する方向に向き付けられている;様々な磁化セグメンツ114Aのステージ−Y方向の幅がλ/(2Nt)(外側セグメンツA、Iについて)かまたはλ/Nt(内部セグメンツB、C、D、E,F、G、Hについて)のどちらかであり、
ここでNtは磁石アレイ112Aにおける異なる磁化方向の数を表す;および磁化セグメンツ114Aの磁化が、中央のX−Z平面118について鏡像対称的である。上述したように、いくつかの実施形態では、X磁化セグメンツ114Aの引き延ばし方向の長さ(例えば、描かれた実施形態におけるLxx)は、それらのそれぞれの幅(例えば、λ/(2Nt)またはλ/Nt)の少なくとも2倍(いくつかの実施形態では、少なくとも4倍)であっても良い。図3Eはまた、X磁化セグメンツ114Aのステージ−Z方向の高さHxzも示している。上述したように、いくつかの実施形態では、X磁化セグメンツ114Aの引き延ばし方向の長さ(例えば、描かれた実施形態におけるLxx)は、それらのそれぞれのステージ−Z方向の高さ(例えば、高さHxz)の少なくとも2倍(いくつかの実施形態では、少なくとも4倍)であっても良い。
追加の持ち上げおよび/または釣り上げ磁石、静圧気体軸受、ローラー軸受、スライディング軸受、等々(図示せず)を使って維持されることができる。
PX=nλX/N、
PY=mλY/M、
ここでλXはY磁石アレイ112(例えば、アレイ112B、112D)のステージ−X向き磁気的空間的周期;λYはX磁石アレイ112(例えば、アレイ112A、112C)のステージ−Y向き磁気的空間的周期;n、m、NおよびMは正の整数;n、Nはn/Nが整数ではないように選択、m、Mはm/Mが整数ではないように選択、に一般に従って設定される。下でより詳細に説明されるように、センサーピッチPx、Py
と磁気的周期λX、λYの間の関係のこの選択(磁石アレイ112の幅の好適な選択、例えば、Y磁石アレイの幅Wyx=NmyλxとX磁石アレイの幅Wxy=Nmxλy、NmyとNmxは正の整数、と一緒に)は、位置検出を補助し得るセンサー行/列の同期合計化/平均化を許容し得て;ステータ−X向きセンサー行の合計/平均がY磁石アレイ(例えば、Y磁石アレイ112B、112D)には感度を有しなくすることを許容し得て、従ってY磁石アレイの場からのインパクト無しにX磁石アレイ(例えば、磁石アレイ112A、112C)の位置の決定を許容し;ステータ−Y向きセンサー列の合計/平均がX磁石アレイ(例えば、X磁石アレイ112A、112C)には感度を有しなくすることを許容し得て、従ってX磁石アレイの場からのインパクト無しにY磁石アレイ(例えば、磁石アレイ112B、112D)の位置の決定を許容する。
ステータ120とそのコイルアレイの追加の詳細がここで提供される。上述した通り、ステータ120は、作業領域124中で全体的に線形に向き付けられたコイルトレース126の複数の層128からなる。各層128は、お互いと全体的に揃えられた(例えば、同じ方向で全体的に線形に引き延ばされた)コイルトレース126からなる。図3A−3Eの描かれた実施形態では、垂直に隣接する層128(即ち、ステータ−Z方向でお互いに隣り合う層128)は、お互いに対して直交して向き付けられたコイルトレース126からなる。例えば、層128A、128C(図3C)中のコイルトレース126Yは、ステータ−Y方向と平行に全体的に線形に向き付けられており、層128B、128D中のコイルトレース126Xは、ステータ−X方向と平行に全体的に線形に向き付けられている。ステータ120中のコイルトレース126の層128の数は、描かれた実施形態に示されている4つのトレースに限定される必要はないということが理解されるであろう。一般に、ステータ120は、コイルトレース126の層128のあらゆる好適な数からなっていても良い。更には、垂直に隣接する層128中のコイルトレース126の向きがお互いとは異なることは要求ではない。いくつかの実施形態は、Y向きトレース126Yの多数の垂直に隣接する層128に続いてX向きコイルトレース126Xの多数の垂直に隣接する層128からなっていても良い。
隣接するPCB基板上の導電体を電気的に接続するためのその他の好適なブリッジコンポーネンツ等を使って、エッジにおいて作られても良い。いくつかの実施形態では、そのようなブリッジコンポーネンツは、PCB基板の下に位置していても良く(例えば、可動ステージ110と反対側で)、いくつかの実施形態では、そのようなブリッジコンポーネンツは、追加的または代替的にPCB基板の上かまたはPCB基板のサイド上に位置していても良い。PCBsがステータ−Xおよび/またはステータ−Y方向でお互いと隣接して接続された時、コイル122の端部ターミナル(図示せず)は、ドライブエレクトロニクスへの書き込みの容易さのためにステータ120の周縁においてかまたはその近くに位置していても良い。このやり方でPCBsをお互いと接続することは、様々な応用のためにステータ−Xおよびステータ−Y寸法の両方において容易に拡張されることを変位デバイス100に許容する。PCBsがステータ−Xおよび/またはステータ−Y寸法においてお互いと接続された時、コイル122の総数は、ステータ120の作業領域124のステータX−Y寸法と共に線形的に増加する(所謂「レーストラック」コイルデザインが関与するいくつかの従来技術においてそうであるような、2次関数的にではなく)。いくつかの実施形態では、PCB基板に隣接するステータX−Y上のコイルトレース126は、コイルトレース126を通して電流を駆動するための増幅器(図示せず)の数を削減するために、お互いと直列に接続されても良い。いくつかの実施形態では、PCB基板に隣接するステータX−Y上のコイルトレース126は、マルチステージ作動のための柔軟性を増加するためと発熱を削減するために別々の増幅器によって個別に制御されても良い。
図4Aと4B(集合的に、図4)は、図3の変位デバイス100の可動ステージ110で使われ得て、多数の磁石アレイパラメータを示すのに有用である、磁石アレイ112のレイアウトの概略的部分断面図である。図4Aの磁石アレイ112A、112B、112C、112Dのレイアウトは、図3Bの磁石アレイ112A、112B、112C、112Dのものと同じであるということが観察されることができる。図4Bの磁石アレイ112A、112B、112C、112Dのレイアウトは、図4Aと3Bに示された磁石アレイ112A、112B、112C、112Dのものと同様である。このセクションにおける議論は、図4Aと4Bに示されたレイアウトの両方に適用される。
上述した通り、図4Aと4Bは、特定の実施形態に従った変位デバイス100の可動ステージ110に使われ得る磁石アレイ112のレイアウトを示す。特定の実施形態に従って、磁石アレイ112を可動ステージ110上に配置する時、X磁石アレイ112A、112Cの対応するY向きエッジ(即ち、アレイの同じそれぞれのサイド上のY向きエッジ)の間の間隔は、Wxy+Txで与えられても良く、(図4の実施形態の場合には)、この間隔はWxy+Tx=NSλ/2、ここでNSは正の整数、λはX磁石アレイ112A、112Cの磁気的周期、で与えられても良い。同様に、特定の実施形態に従って、Y磁石アレイ112B、112Dの対応するX向きエッジ(即ち、アレイの同じそれぞれのサイド上のX向きエッジ)の間の間隔は、Wyx+Tyで与えられても良く、(図4の実施形態の場合には)、この間隔はWyx+Ty=NSλ/2、ここでNSは正の整数、λはY磁石アレイ112B、112Dの磁気的周期、で与えられても良い。隣接する平行な磁石アレイ112(例えば、図4の実施形態の場合にはX磁石アレイ112AとX磁石アレイ112CのようなX磁石アレイ112のペア、および/または図4の実施形態の場合にはY磁石アレイ112BとY磁石アレイ112DのようなY磁石アレイ112のペア)の間隔がこの特徴を有するようにデザインされると、各平行な磁石アレイ112についてのアクティブコイルトレース126における電流分布は、平行な磁石アレイ112が同じ磁化パターン(図7A)を有しかつNSが偶数であるかまたは平行な磁石アレイ112が反対の磁化パターン(図7B)を有しかつNSが奇数であるならば、空間的分布において(即ち、位相において)実質的に同様であることができる。
図9は、センサーアレイ500と磁場センサー501の分布をより詳細に描く。図9の実施形態におけるセンサーアレイ500のセンサー501は、第1の拡張方向(例えば、ステータ−X方向)に向き付けられた等間隔の全体的に平行なライン505と第2の拡張方向(例えば、ステータ−Y方向)に向き付けられた等間隔の全体的に平行なライン507の間の交差点において全体的に位置する。アレイ500の第1の拡張方向(ライン505)と第2の拡張方向(ライン507)がお互いと直交していることが望ましくても良い。但し、一般に、センサーアレイ500の2つの拡張方向は、あらゆる非平行な関係であることができる。描かれた実施形態では、アレイ500中のセンサー501は、ステータ−X向きセンサー行とステータ−Y向き列に配置されており、ここでステータ−X向きセンサー行は、ピッチPxでお互いから離されたステータ−X向きセンサー行におけるセンサー501の各隣接したペアをもった、対応するライン505に沿って(例えば、対応するステータ−X方向に沿って)お互いと全体的に揃えられており、ステータ−Y向き列は、ピッチPyでお互いから離されたステータ−Y向きセンサー列におけるセンサー501の各隣接したペアをもった、対応するライン507に沿って(例えば、対応するステータ−Y方向に沿って)お互いと全体的に揃えられている。2Dアレイのための図9の実施形態のアレイ500中のセンサー501は、Ei,jでラベル付けされても良く、ここでiは行インデックス(ステータ−Y方向におけるセンサーの位置を含んだ)であり、jは列インデックス(ステータ−X方向におけるセンサーの位置を含んだ)である。いくつかの実施形態では、センサー501は、ステータ120の作業領域124に渡って分布していても良い。
PX=nλX/N (1a)
PY=mλY/M (1b)
ここでλXはY磁石アレイ112(例えば、アレイ112B、112D)のステージ−X向き磁気的空間的周期;λYはX磁石アレイ112(例えば、アレイ112A、112C)のステージ−Y向き磁気的空間的周期;n、m、NおよびMは正の整数;n、Nはn/Nが整数ではないように選択、m、Mはm/Mが整数ではないように選択、に一般に従って設定される。例えば、PXは、λX/2、または3λX/2、または5λX/2、またはλX/3、または2λX/3、または4λX/3、または5λX/3、または7λX/3、またはλX/4、または3λX/4、等々に設定されることができ、PYは、λY/2、または3λY/2、または5λY/2、またはλY/3、または2λY/3、または4λY/3、または5λY/3、または7λY/3、またはλY/4、または3λY/4、等々に設定されることができる。下でより詳細に説明されるように、センサーピッチPx、Pyと磁気的周期λX、λYの間の関係のこの選択(磁石アレイ112の幅の好適な選択、例えば、Y磁石アレイの幅Wyx=NmyλxとX磁石アレイの幅Wxy=Nmxλy、NmyとNmxは正の整数、と一緒に)は、位置検出を補助し得るセンサー行/列の同期合計化/平均化を許容し得て;ステータ−X向きセンサー行の合計/平均がY磁石アレイ(例えば、Y磁石アレイ112B、112D)には感度を有しなくすることを許容し得て、従ってY磁石アレイの場からのインパクト無しにX磁石アレイ(例えば、磁石アレイ112A、112C)の位置の決定を許容し;ステータ−Y向きセンサー列の合計/平均がX磁石アレイ(例えば、X磁石アレイ112A、112C)には感度を有しなくすることを許容し得て、従ってX磁石アレイの場からのインパクト無しにY磁石アレイ(例えば、磁石アレイ112B、112D)の位置の決定を許容する。いくつかの実施形態では、ステータ−X方向の行(例えば、ライン505に沿って向き付けられた行)の少なくとも2つは、ステータ−Y方向において距離1/4λYだけお互いから間隔を空けられている。同様に、いくつかの実施形態では、ステータ−Y方向の列(例えば、ライン507に沿って向き付けられた列)の少なくとも2つは、ステータ−X方向において距離1/4λXだけお互いから間隔を空けられている。いくつかの実施形態では、ステータ−X方向の行(例えば、ライン505に沿って向き付けられた行)の少なくとも2つは、ステータ−Y方向において距離g1/4λY、ここでgは0より大きい奇数の整数、だけお互いから間隔を空けられている。同様に、いくつかの実施形態では、ステータ−Y方向の列(例えば、ライン507に沿って向き付けられた列)の少なくとも2つは、ステータ−X方向において距離h1/4λX、ここでhは0より大きい奇数の整数、だけお互いから間隔を空けられている。
列平均
A=(1/n1)(A1+A2+A3+A4+…+An1) (3a)
A’=(1/n2)(A1’+A2’+A3’+A4’+…+An2) (3b)
B=(1/n3)(B1+B2+B3+B4+…+An3) (3c)
B’=(1/n4)(B1’+B2’+B3’+B4’+…+An4) (3d)
ここでn1、n2、n3、n4は、各対応するセットにおける同期列値の数、であると定義しても良い。同期合計値は、合計をn1、n2、n3、n4で割る必要が無いこと以外は、同期平均値を決定することと同様のやり方で決定されても良いことが理解されるであろう。
x=atan2(B−B’、A−A’)λ/2π
ここでatan2は2つの引数をもったアークタンジェント関数、で導出されることができる。特に、atan2(y、x)は、(−π、π]のレンジに渡って(ラジアンで);
A=(1/n5)(A1+A2+A3+A4+…+An5) (8a)
B=(1/n6)(B1+B2+B3+B4+…+An6) (8b)
ここでn5、n6は各同期平均値における同期列値の数、に変形されることができる。同期合計値は、合計をn5、n6で割る必要が無いこと以外は、同期平均値を決定することと同様のやり方で決定されても良いことが理解されるであろう。Y磁石アレイ112Bのステータ−Xおよびステータ−Z位置は、
ステータ−X磁場同期平均:
Ax=(1/n7)(A1x+A2x+A3x+A4x+…+An7) (10a)
ステータ−Z磁場同期平均:
Az=(1/n8)(A1z+A2z+A3z+A4z+…+An8) (10b)
ここでAix(i=1,2,...)は、ステータ−X方向の磁場感度に対応するセンサー出力のステータ−Y向きセンサー列に渡る平均を表し、Aiz(i=1,2,...)は、ステータ−Z方向の磁場感度に対応するセンサー出力のステータ−Y向きセンサー列に渡る平均を表し、AxはAix(i=1,2,...)の同期平均値であり、AzはAiz(i=1,2,...)の同期平均値であり、n7、n8は各同期平均値における同期列値の数、に従って決定されることができる。同期合計値は、合計をn7、n8で割る必要が無いこと以外は、同期平均値を決定することと同様のやり方で決定されても良いことが理解されるであろう。Y磁石アレイ112Bのステータ−Xおよびステータ−Z位置は、
A=(1/n9)(A1+A2+A3+A4+…+An9) (12a)
B=(1/n10)(B1+B2+B3+B4+…+Bn10) (12b)
C=(1/n11)(C1+C2+C3+C4+…+Cn11) (12c)
ここでn9、n10、n11は各同期平均値における同期列値の数、に従ってY磁石アレイのステータ−Xおよびステータ−Z位置を決定するのに使われても良い。同期合計値は、合計をn9、n10、n11で割る必要が無いこと以外は、同期平均値を決定することと同様のやり方で決定されても良いことが理解されるであろう。
Xc=X−a1cos(2πx/λ)−b1sin(2πx/λ)
−a2cos(4πx/λ)−b2sin(4πx/λ)
Zc=Z−c1cos(2πx/λ)−d1sin(2πx/λ)
−c2cos(4πx/λ)−d2sin(4πx/λ)
ここでXとZは上記の方法を使って決定されたステータ−Xおよびステータ−Z位置、XcとZcはエラー訂正後の決定されたステータ−Xおよびステータ−Z位置、a1、a2、b1、b2、c1、c2、d1、d2は実験的に校正されることができる定数係数、である。同様の訂正方法が、X磁石アレイ112A、112Cのステータ−Xおよびステータ−Z位置に適用されることができる。
フォトリトグラフィ、自動化アッセンブリーシステム等々のような、或る応用では、1つ以上の可動ステージを同時に且つ独立に制御する要望があり得る。これは、例えば、対応する複数の独立に制御可能なステータを提供し、各ステータ上で1つの可動ステージの動きを制御することによって、達成されても良い。いくつかの状況では、可動ステージを入れ替えること(例えば、1つの可動ステージを1つのステータから別のステータに動かすこと)が望ましい。いくつかの応用では、可動ステージ110を多数の異なるステージを通して動かすことが望ましくても良い。図20は、この目的のために好適な装置460を概略的に描く。描かれた実施形態では、可動ステージ110A−110Dがいくつかのステータ120A−120Fの間で動き、いくつかの応用では、何らかの動作のために各ステータ120において停止しても良い。一般に、あらゆる好適な数の可動ステージ110と、あらゆる好適な数(可動ステージ110の数より大きい)のステータ120があっても良い。各ステータ120A−120F上では、ここで記載されるタイプの位置推定システムが、対応する可動ステージ110A−110Dの位置を制御するために、制御システムの一部として使われても良い。いくつかの実施形態では、精密な位置制御は、ステータ120A−120Fの内側だけで要求されても良い。従って、ステータからステータへの運動(例えば、ステータ120A−120Fの間での可動ステージ110A−110Dの運動)は、室内GPS、ステレオカメラ等々のような、比較的安価な位置測定システムによってガイドされても良い。
図21Aは、別の実施形態による変位デバイス600を概略的に描く。変位デバイス600は、複数の磁石アレイ612からなる可動ステージ(明示せず)からなる。描かれた実施形態では、変位デバイス600は、3つの磁石アレイ612(612A、612B、612Cとラベル付けされた)からなる。各磁石アレイ612A、612B、612Cは、ステージX−Y平面における特定の向きで全体的に線形に引き延ばされた、対応する複数の磁化セグメンツ614A、614B、614Cからなり、例えば、磁石アレイ612Aの磁化セグメンツ614Aは、線形な引き延ばしの1つの向きを有し、磁石アレイ612Bの磁化セグメンツ614Bは、線形な引き延ばしの第2の向きを有し、磁石アレイ612Cの磁化セグメンツ614Cは、線形な引き延ばしの第3の向きを有する。ここに記載されたその他の変位デバイスでそうであるように、磁化セグメンツ614A、614B、614Cの磁化方向は、それらが物理的に引き延ばされている方向と全体的に直交していても良い。それらの相対的な向きを別にして、磁石アレイ612と磁化セグメンツ614の特性は、磁石アレイ112と磁化セグメンツ114について上述したものと同様であっても良い。
とhが量Om2だけサブアレイbとgに対して(描かれたビューにおいて右向きに)シフトされ、サブアレイdとe(一緒にサブアレイd−e)が量Om1だけサブアレイbとgに対して(描かれたビューにおいて右向きに)シフトされ、サブアレイcとfが量2Om2+Om1だけサブアレイbとgに対して(描かれたビューにおいて右向きに)シフトされる。描かれた実施形態の各サブアレイa、b、c、d−e、f、g、hは、ステージ−X寸法の幅Wmを有する。ラインA−A上の(磁石アレイ112のステージ−Y寸法Lmの中心における)鏡像対称性は、図23C、23Dの磁石アレイ112上のモーメントおよび/または力妨害を削減するかまたは最小化する。図23B、23Cの配置によって減衰された高調波は、2Om1と2Om2に等しい空間的波長を有する。例えば、Om1=λ/10とOm2=λ/26に設定することにより、磁場の5次および13次高調波が、コイルトレースを使った力生成とまたセンサーアレイ500から決定された列/行合計/平均値の両方との関係で、減衰される。一般に、Om1=λ(M−0.5)/p、Om2=λ(N−0.5)/ qに設定することは、λ/pとλ/qの波長(空間的周期)、ここでMとNは任意の整数、の高調波磁場から結果として得られる妨害モーメント/力を顕著に最小化する。
・ 図23と24の実施形態に示された磁石アレイはY磁石アレイであるが、X磁石アレイが同様の特性を提供されていることもできることが理解されるであろう。また、図23と24の実施形態に示された磁石アレイは、磁化の特定のパターンを有する。一般に、これらの磁石アレイは、例えば、図5と6に示されたもののいずれかのような、あらゆる好適な磁化パターンを提供されていても良い。
・ 可動ステージ110上の磁石アレイ112の運動によって誘起された渦電流を最小化または削減する目的のために、コイルトレース126は比較的狭く作られていても良い。いくつかの実施形態では、各コイルトレース126は、複数のサブトレース126’からなっていても良い。そのような実施形態が、(上面図で)図25Aと(断面図で)25Bに概略的に示されている。図25Aのコイルトレース126A、126B、126Cでは、各コイルトレース126A、126B、126Cは、複数の対応するサブトレース126A’、126B’、126C’(集合的に、サブトレース126’)からなり、そこでは各サブトレース126’は、その対応するコイル126の幅Wcの分数である幅Tcを有する。各サブトレース126’は、その対応するトレース126を通して流れる電流の一部だけを担う。図25Aの実施形態における各サブトレース126’は、幅Tfの絶縁体によってその隣接するサブトレース126’から絶縁されているが、絶縁体の幅Tfがコイルトレース126内で均一である必要は一般的にはなく、高い表面フィルファクターを達成するためにTfを最小化する望みがある。一般に、トレース幅Wc、サブトレース幅Tc、および絶縁体幅Tfに依存して、あらゆる好適な数のサブトレース126’が各トレース126中に設けられていても良い。各対応するコイルトレース126のサブトレース126’は、それらの端部において(例えば、描かれた実施形態の場合にはステータ−Y寸法の端部において)並列に電気的に接続されていても良い。サブトレース126’がお互いと接続されている領域は、デバイス100の作業領域の外側、即ち、可動ステージ110の運動の範囲の外側、であっても良いが、これは必要ではない。その他の実施形態では、サブトレース126’は、お互いと直列に接続されていても良い。コイルサブトレース126’は、既知のPCB作製技術を使って作製されていても良い。図25Bは、1つの特定のトレース126とその対応するサブトレース126’の断面図を示す。
・ コイルトレース126は、PCB技術以外の技術を使って作製されていても良い。全体的に線形に引き延ばされるような形状にあるかまたはそうであり得るあらゆる導電体が、コイルトレース126を提供するのに使われても良い。図26Aと26Bは、丸い断面を有するコイルトレース126からなる、ステータ120の作業領域124におけるコイル122をもった一例を示す。図26Bは、X向きトレース126XとY向きトレース126Yの交番する層128を提供するために、どのようにトレース126がXおよびY方向で全体的に線形に引き延ばされるかの詳細を示す。図26Aと26Bに示された各トレース126は、様々な断面の更なるサブトレースから作り上げられていても良い。図26Cは一例を示し、そこでは円形の断面を有するトレース126が、円形の断面を有する複数のサブトレース126’からなる。このトレースを実装するための1つの一般的な方法は、外部絶縁体をもった標準のマルチフィラメントワイヤを使うことであろう。図26Dは、円形の断面のサブトレース126’をもった、長方形の断面を有するコイルトレース126の一例を示す。
・ 描かれた実施形態では、異なる層128上のコイルトレース126は、お互いと同じであるように示されている。いくつかの実施形態では、異なる層128上のコイルトレース126および/または異なる向き(例えば、X向きとY向き)のコイルトレース126が、お互いとは異なる性質を有していても良い。非限定的な例として、X向きコイルトレース126は、第1のコイル幅Wc1および/またはコイルピッチPc1を有していても良く、Y向きコイルトレース126は、X向きコイルトレース126のものと同じかまたは異なり得る、第2のコイル幅Wc2および/またはコイルピッチPc2を有していても良い。コイルトレース126のその他の性質は、追加的にかまたは代替的に、お互いと異なっていることができる。同様に、磁石アレイ112(例えば、異なる向きの磁石アレイ112(例えば、X磁石アレイとY磁石アレイ112)または同じ向きもった磁石アレイ112でさえも)は、お互いと同じであるように示されている。いくつかの実施形態では、異なる磁石アレイ112が、お互いとは異なる性質を有していても良い。非限定的な例として、X磁石アレイ112は、第1のコイル幅Wm1および/または空間的周期λ1を有することができ、Y磁石アレイ112は、第2のコイル幅Wm2および/または空間的周期λ2を有していても良い。磁石アレイ112のその他の性質は、追加的にかまたは代替的に、お互いと異なっていることができる。
・ この記載と付随する請求項では、エレメンツ(層128、コイルトレース126、可動ステージ110、磁石アレイ112および/または2Dセンサーアレイのセンサー501のような)は、一方向においてかまたは沿って、お互いと重複すると言われる。たとえば、異なる層128からのコイルトレース126は、ステータ−Z方向においてかまたは沿って、お互いと重複しても良い。一方向(例えば、ステータ−Z方向)においてかまたは沿って、2つ以上のオブジェクトが重複すると記載される時、この用法は、その方向に延びているライン(例えば、ステータ−Z方向向きのライン)が2つ以上のオブジェクトと交差するように描かれることができることを意味すると理解されるべきである。この記載と付随する請求項では、エレメンツ(センサー501のような)は、一方向においてかまたは沿って、お互いと揃えられると言われる。例えば、ステータ−Y向きセンサー列におけるセンサー501は、ステータ−Y方向においてお互いと揃えられているように記載されても良い。一方向(例えば、ステータ−Y方向)においてかまたは沿って、2つ以上のオブジェクトが揃えられると記載される時、この用法は、その方向のライン(例えば、ステータ−Y方向向きのライン)が2つ以上のオブジェクトと交差するように描かれることができることを意味すると理解されるべきである。
・ ここに提供された記載と図面では、可動ステージは、対応するステータのX、YおよびZ軸と同じであるそれらのX、YおよびZ軸で静止しているように示されている。この慣習は、簡潔のためにこの開示では採用されている。可動ステージは、そのステータに対して動くことができる(またそのようにデザインされている)ことがこの開示から当然理解されるであろうし、その場合、可動ステージのステージ−X、ステージ−Yおよびステージ−Z方向/軸は、そのステータのステータ−X、ステータ−Yおよびステータ−Z方向/軸とはもはや同じで(または揃っていて)なくても良い。従って、この記載とそれに続く請求項では、ステータのX、YおよびZ軸は、ステータ−X軸、ステータ−Y軸およびステータ−Z軸と呼ばれても良く、可動ステージのX、YおよびZ軸は、ステージ−X軸、ステージ−Y軸およびステージ−Z軸と呼ばれても良い。対応する方向は、(ステータ−X軸と平行な)ステータ−X方向、(ステータ−Y軸と平行な)ステータ−Y方向、(ステータ−Z軸と平行な)ステータ−Z方向、(ステージ−X軸と平行な)ステージ−X方向、(ステージ−Y軸と平行な)ステージ−Y方向、(ステージ−Z軸と平行な)ステージ−Z方向、と呼ばれても良い。ステータ軸との関係で定義された方向、位置および平面は、ステータ方向、ステータ位置およびステータ平面と一般的に呼ばれても良く、ステージ軸との関係で定義された方向、位置および平面は、ステージ方向、ステージ位置およびステージ平面と呼ばれても良い。
・ 上の記載では、ステータは、電流を運んでいるコイルトレースと、2Dセンサーアレイからなり、可動ステージは、磁石アレイからなる。これが反転されることができる、即ち、ステータが磁石アレイからなることができ、可動ステージが電流を運んでいるコイルトレースと2Dセンサーアレイからなることができる、ということが当然可能である。また、コンポーネント(例えば、ステータまたは可動テーブル)が実際に動いているかどうか、またはコンポーネントが実際に静止しているかどうかは、そこからコンポーネントが観察されるところの参照フレームに依存する。例えば、ステータは、可動ステージの参照フレームに対して動くことができ、またはステータと可動ステージの両方は、外部参照フレームに対して動くことができる。従って、これの続く請求項では、ステータと可動ステージという用語と(ステータおよび/またはステージX、Y、Z方向、ステータおよび/またはステージX、Y、Z軸等々を含んだ)それらへの言及は、文脈が文字通りの解釈を特定に要求しない限り、文字通り解釈されるべきではない。しかも、文脈が特定に要求しない限り、可動ステージ(とその方向、軸等々)が、ステータ(とその方向、軸等々)に対して動くことができること、またはステータ(とその方向、軸等々)が可動ステージ(とその方向、軸等々)に対して動くことができること、が理解されるべきである。
・ 上の記載では、数々のステップが平均値を計算することを含む。例えば、いくつかのステップは、行または列の出力の平均値を計算することを要求する一方、その他のステップは、複数の行または列の同期平均値を計算することを要求する。平均値を計算することの代わりに、これらのステップの各々では代わりに合計値を計算することで十分であるということが理解されるべきである。つまり、もしステップ中の全てのその他の平均もまた平均される代わりに合計されるだけであれば、合計されている値の数で割ることは不要である。
・ ここに記載された磁石アレイとセンサーの行と列の空間的に周期的な性質のために、概念が記載されることができる様々な数学的に等価なやり方があり得て、そのような数学的な等価性は、磁石アレイ、センサー行および/またはセンサー列の空間的な周期性に帰することが可能である、ということが当業者によって理解されるであろう。文脈がそうではないと命じない限り、ここで使われた特定の特徴の数学的記載は、磁石アレイ、センサー行および/またはセンサー列の空間的な周期性のために、異なって表現された数学的に等価な特徴を組み込んでいると考えられるべきである。
Claims (68)
- 可動ステージの位置を推定するための装置であって、
複数のステータ−Y向きセンサー列と複数のステータ−X向きセンサー行を提供するように、お互いに対して配置されたセンサーのアレイを含むステータであって、
各ステータ−Y向きセンサー列は、ステータ−Y方向においてお互いと全体的に揃えられた複数のセンサーと、ピッチPyでステータ−Y方向においてお互いから間隔を空けられた各ステータ−Y向きセンサー列中のセンサーの少なくとも1つのペアを含み、
各ステータ−X向きセンサー行は、ステータ−X方向においてお互いと全体的に揃えられた複数のセンサーと、ピッチPxでステータ−X方向においてお互いから間隔を空けられた各ステータ−X向きセンサー行中のセンサーの少なくとも1つのペアを含むものと、
ステージ−Y方向において全体的に線形に引き延ばされた複数の第1の磁化セグメントを含んだ第1のY磁石アレイを含む可動ステージであって、各第1の磁化セグメントはステージ−Y方向の長さLyyを有し、磁化方向はステージ−Y方向と全体的に直交し、複数の第1の磁化セグメントの磁化方向は、第1のY磁石アレイのステージ−X方向の幅Wyxに渡る第1の磁気的空間的周期λxを顕示しているものと、
センサーの各々からの出力に基づいた情報を受け取るように接続され、可動ステージのステータ−X方向の位置を決定するために情報を使うように構成されたコントローラと、を含み、
ピッチPxは、Px=nλx/N、ここでnとNは整数、n/Nは非整数、と全体的に整合している、
装置。 - 各第1の磁化セグメントのステージ−Y方向の長さLyyは、Lyy=NyyPy、ここでNyyは正の整数、と全体的に整合している、請求項1またはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- ステータ−X方向がステータ−Y方向と直交する、請求項1−2のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- 複数のステータ−Y向きセンサー列が第1と第2のステータ−Y向きセンサー列を含み、第1のステータ−Y向きセンサー列は第2のステータ−Y向きセンサー列からステータ−X方向においてg1/4λx、ここでgは0より大きい奇整数、の距離だけ間隔を空けられている、請求項1−3のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- コントローラは、第1のステータ−Y向きセンサー列の出力の第1の合計に基づいておよび第2のステータ−Y向きセンサー列の出力の第2の合計に基づいて、可動ステージのステータ−X方向の位置を決定するように構成されている、請求項1−4のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- コントローラは、複数の合計値に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定するように構成されており、各合計値は対応するステータ−Y向きセンサー列からの出力の合計を含む、請求項1−5のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- コントローラは、複数の平均値に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定するように構成されており、各平均値は対応するステータ−Y向きセンサー列からの出力の平均を含む、請求項1−6のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- コントローラは、複数の同期合計値に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定するように構成されており、各同期合計値は同期列値の合計を含み、各同期列値は対応する同期ステータ−Y向きセンサー列からの出力の合計または平均に基づいており、各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列は他の対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔Nxλx、ここでNxは正の整数、だけ離されている、請求項1−7のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- コントローラは、複数の同期平均値に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定するように構成されており、各同期平均値は同期列値の平均を含み、各同期列値は対応する同期ステータ−Y向きセンサー列からの出力の合計または平均に基づいており、各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列は他の対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔Nxλx、ここでNxは正の整数、だけ離されている、請求項1−8のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- 複数の同期合計値は第1の同期合計値Aと第2の同期合計値Bを含み、第1の同期合計値Aを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列は、第2の同期合計値Bを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔(λx/4)+sλx、ここでsは整数、だけ離されており、コントローラは、第1の同期合計値Aと第2の同期合計値Bに基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定するように構成されている、請求項8またはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- 複数の同期合計値は第1の同期合計値Aと第2の同期合計値Bと第3の同期合計値A’と第4の同期合計値B’を含み、第1の同期合計値Aを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列は、第2の同期合計値Bを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔(λx/4)+sλx、ここでsは整数、だけ離されており、第3の同期合計値A’を生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔(λx/2)+pλx、ここでpは整数、だけ離されており、第4の同期合計値B’を生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔(3λx/4)+rλx、ここでrは整数、だけ離されており、コントローラは、第1、第2、第3および第4の同期合計値A、B、A’、B’に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定するように構成されている、請求項8またはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- コントローラは、可動ステージのステータ−Z方向の位置を決定するために情報を使うように構成されており、ステータ−Z方向は、ステータ−Y方向とステータ−X方向の両方と全体的に直交する、請求項1−11のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- センサーのアレイがグリッドパターンに配列され、各ステータ−Y向きセンサー列は、ステータ−Y方向に向き付けられた対応するステータ−Yラインに沿って揃えられ、各ステータ−X向きセンサー行は、ステータ−X方向に向き付けられた対応するステータ−Xラインに沿って揃えられ、ステータ−Xおよびステータ−Y方向はお互いと全体的に直交し、1つのセンサーが、各ステータ−Yラインと各ステータ−Xラインの交点に位置している、請求項1−14のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- 各ステータ−Y向きセンサー列における複数のセンサー中の隣接するセンサーは、ステータ−X方向においてオフセット量2Sxだけお互いからオフセットされており、オフセット量2Sxは第1の磁気的空間的周期λxに基づいている、請求項1−14のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- Sxは、Sx=λx/(4*K)、ここでKは3以上の正の整数、と全体的に整合している、請求項16またはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- 各センサーは複数のサブユニットを含み、各サブユニットは、1つ以上の非平行な方向における磁束に感度があり、少なくともサブユニットのペアの間のステータ−X方向の距離Slは、第1の磁気的空間的周期λxに基づいている、請求項1−17のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- Slは、Sl=λx((ν/5)+(1/10))、ここでνは非負の整数、で与えられている、請求項18またはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- コントローラは、ステータの1つ以上のコイルを通して流れる電流によって生成された磁場を補償するために、ステータ−X方向の位置を決定するための情報を使う前のセンサーからの出力に基づいて情報を調節するように構成されている、請求項1−19のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- 可動ステージは、ステージ−X方向において全体的に線形に引き延ばされた複数の第2の磁化セグメントを含んだ第1のX磁石アレイを含み、各第2の磁化セグメントはステージ−X方向の長さLxxを有し、磁化方向はステージ−X方向と全体的に直交し、複数の第2の磁化セグメントの磁化方向は、第1のX磁石アレイのステージ−Y方向の幅Wxyに渡る第2の磁気的空間的周期λyを顕示しており、コントローラは、可動ステージのステータ−Y方向の位置を決定するために情報を使うように構成されている、請求項1−20のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- ピッチPyは、Py=mλy/M、ここでmとMは整数、m/Mは非整数、と全体的に整合している、請求項21またはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- 各第2の磁化セグメントのステージ−X方向の長さLxxは、Lxx=NxxPx、ここでNxxは整数、と全体的に整合している、請求項21−22のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- 各第1の磁化セグメントのステージ−Y方向の長さLyyは、そのステージ−X方向の幅の少なくとも2倍である、請求項1−23のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- 第1の磁石アレイのステージ−X方向の幅Wyxは、Wyx=Nmyλx、ここでNmyは正の整数、と全体的に整合している、請求項1−24のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- 可動ステージは、ステージ−Y方向において全体的に線形に引き延ばされた複数の第3の磁化セグメントを含んだ第2のY磁石アレイを含み、各第3の磁化セグメントはステージ−Y方向の長さLyyを有し、磁化方向はステージ−Y方向と全体的に直交し、複数の第3の磁化セグメントの磁化方向は、第2のY磁石アレイの、ステージ−X方向の幅Wyxに渡る第1の磁気的空間的周期λxを顕示している、請求項1−25のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- 複数の同期合計値は第1の同期合計値Aと第2の同期合計値Bと第3の同期合計値Cを含み、第1の同期合計値Aを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列は、第2の同期合計値Bを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔(λx/3)+sλx、ここでsは整数、だけ離されており、第3の同期合計値Cを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔(2λx/3)+rλx、ここでrは整数、だけ離されており、コントローラは、第1、第2および第3の同期合計値A、B、Cに基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定するように構成されている、請求項8またはここでのあらゆるその他の請求項の装置。
- 可動ステージの位置を推定するための方法であって、
複数のステータ−Y向きセンサー列と複数のステータ−X向きセンサー行を提供するように、お互いに対して配置されたセンサーのアレイを含むステータを提供することであって、
各ステータ−Y向きセンサー列は、ステータ−Y方向においてお互いと全体的に揃えられた複数のセンサーと、ピッチPyでステータ−Y方向においてお互いから間隔を空けられた各ステータ−Y向きセンサー列中のセンサーの少なくとも1つのペアを含み、
各ステータ−X向きセンサー行は、ステータ−X方向においてお互いと全体的に揃えられた複数のセンサーと、ピッチPxでステータ−X方向においてお互いから間隔を空けられた各ステータ−X向きセンサー行中のセンサーの少なくとも1つのペアを含むことと、
ステージ−Y方向において全体的に線形に引き延ばされた複数の第1の磁化セグメントを含んだ第1のY磁石アレイを含む可動ステージを提供することであって、各第1の磁化セグメントはステージ−Y方向の長さLyyを有し、磁化方向はステージ−Y方向と全体的に直交し、複数の第1の磁化セグメントの磁化方向は、第1のY磁石アレイのステージ−X方向の幅Wyxに渡る第1の磁気的空間的周期λxを顕示していることと、
ピッチPxが、Px=nλx/N、ここでnとNは整数、n/Nは非整数、と全体的に整合するように、各ステータ−X向きセンサー行におけるセンサーの間隔を空けることと、
センサーの各々からの出力に基づいた情報を取得して、情報に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することと、
を含む方法。 - 各第1の磁化セグメントのステージ−Y方向の長さLyyが、Lyy=NyyPy、ここでNyyは正の整数、と全体的に整合するように、各ステータ−Y向きセンサー列におけるセンサーの間隔を空けることを含む、請求項28またはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- ステータ−X方向がステータ−Y方向と直交する、請求項28−29のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 複数のステータ−Y向きセンサー列が第1と第2のステータ−Y向きセンサー列を含み、方法が、第1のステータ−Y向きセンサー列を第2のステータ−Y向きセンサー列からステータ−X方向においてg1/4λx、ここでgは0より大きい奇整数、の距離だけ間隔を空けることを含む、請求項28−30のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することは、第1のステータ−Y向きセンサー列の出力の第1の合計に基づいておよび第2のステータ−Y向きセンサー列の出力の第2の合計に基づいて、可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することを含む、請求項31またはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することは、複数の合計値に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することを含み、各合計値は対応するステータ−Y向きセンサー列からの出力の合計を含む、請求項28−32のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することは、複数の平均値に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することを含み、各平均値は対応するステータ−Y向きセンサー列からの出力の平均を含む、請求項28−33のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 可動ステージのステータ−X方向に位置を決定することは、複数の同期合計値に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することを含み、各同期合計値は同期列値の合計を含み、各同期列値は対応する同期ステータ−Y向きセンサー列からの出力の合計または平均に基づいており、各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列は他の対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔Nxλx、ここでNxは正の整数、だけ離されている、請求項28−34のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することは、複数の同期平均値に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することを含み、各同期平均値は同期列値の平均を含み、各同期列値は対応する同期ステータ−Y向きセンサー列からの出力の合計または平均に基づいており、各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列は他の対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔Nxλx、ここでNxは正の整数、だけ離されている、請求項28−35のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 複数の同期合計値は第1の同期合計値Aと第2の同期合計値Bを含み、第1の同期合計値Aを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列は、第2の同期合計値Bを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔(λx/4)+sλx、ここでsは整数、だけ離されており、方法が、第1の同期合計値Aと第2の同期合計値Bに基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することを含む、請求項35またはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 複数の同期合計値は第1の同期合計値Aと第2の同期合計値Bと第3の同期合計値A’と第4の同期合計値B’を含み、第1の同期合計値Aを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列は、第2の同期合計値Bを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔(λx/4)+sλx、ここでsは整数、だけ離されており、第3の同期合計値A’を生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔(λx/2)+pλx、ここでpは整数、だけ離されており、第4の同期合計値B’を生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔(3λx/4)+rλx、ここでrは整数、だけ離されており、方法が、第1、第2、第3および第4の同期合計値A、B、A’、B’に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することを含む、請求項35またはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 情報に基づいて可動ステージのステータ−Z方向の位置を決定することを含み、ステータ−Z方向は、ステータ−Y方向とステータ−X方向の両方と全体的に直交する、請求項28−38のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- センサーのアレイをグリッドパターンに配列することを含み、各ステータ−Y向きセンサー列は、ステータ−Y方向に向し付けられた対応するステータ−Yラインに沿って揃えられ、各ステータ−X向きセンサー行は、ステータ−X方向に向き付けられた対応するステータ−Xラインに沿って揃えられ、ステータ−Xおよびステータ−Y方向はお互いと全体的に直交し、1つのセンサーが、各ステータ−Yラインと各ステータ−Xラインの交点に位置している、請求項28−41のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 各ステータ−Y向きセンサー列における複数のセンサー中の隣接するセンサーを、ステータ−X方向においてオフセット量2Sxだけお互いからオフセットすることを含み、オフセット量2Sxは第1の磁気的空間的周期λxに基づいている、請求項28−41のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- Sxは、Sx=λx/(4*K)、ここでKは3以上の正の整数、と全体的に整合している、請求項43またはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 複数のサブユニットを含む各センサーを提供することを含み、各サブユニットは、1つ以上の非平行な方向における磁束に感度があり、少なくともサブユニットのペアの間のステータ−X方向の距離Slは、第1の磁気的空間的周期λxに基づいている、請求項28−44のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- Slは、Sl=λx((ν/5)+(1/10))、ここでνは非負の整数、で与えられている、請求項45またはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- ステータの1つ以上のコイルを通して流れる電流によって生成された磁場を補償するために、ステータ−X方向の位置を決定するための情報を使う前のセンサーからの出力に基づいて情報を調節することを含む、請求項28−46のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- ステージ−X方向において全体的に線形に引き延ばされた複数の第2の磁化セグメントを含んだ第1のX磁石アレイをもった可動ステージを提供することであって、各第2の磁化セグメントはステージ−X方向の長さLxxを有し、磁化方向はステージ−X方向と全体的に直交し、複数の第2の磁化セグメントの磁化方向は、第1のX磁石アレイのステージ−Y方向の幅Wxyに渡る第2の磁気的空間的周期λyを顕示していることと、情報に基づいて可動ステージのステータ−Y方向の位置を決定することを含む、請求項28−47のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- ピッチPyが、Py=mλy/M、ここでmとMは整数、m/Mは非整数、と全体的に整合するように、各ステータ−Y向きセンサー列におけるセンサーの間隔を空けることを含む、請求項48またはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 各第2の磁化セグメントのステージ−X方向の長さLxxが、Lxx=NxxPx、ここでNxxは整数、と全体的に整合するように、各ステータ−Y向きセンサー列におけるセンサーの間隔を空けることを含む、請求項48−49のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 各第1の磁化セグメントのステージ−Y方向の長さLyyは、そのステージ−X方向の幅の少なくとも2倍である、請求項28−50のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 第1の磁石アレイのステージ−X方向の幅Wyxは、Wyx=Nmyλx、ここでNmyは正の整数、と全体的に整合している、請求項28−51のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- ステージ−Y方向において全体的に線形に引き延ばされた複数の第3の磁化セグメントを含んだ第2のY磁石アレイをもった可動ステージを提供することを含み、各第3の磁化セグメントはステージ−Y方向の長さLyyを有し、磁化方向はステージ−Y方向と全体的に直交し、複数の第3の磁化セグメントの磁化方向は、第2のY磁石アレイの、ステージ−X方向の幅Wyxに渡る第1の磁気的空間的周期λxを顕示している、請求項28−52のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 複数の同期合計値は第1の同期合計値Aと第2の同期合計値Bと第3の同期合計値Cを含み、第1の同期合計値Aを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列は、第2の同期合計値Bを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔(λx/3)+sλx、ここでsは整数、だけ離されており、第3の同期合計値Cを生成するのに使われた各対応する同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔(2λx/3)+rλx、ここでrは整数、だけ離されており、方法が、第1、第2および第3の同期合計値A、B、Cに基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することを含む、請求項35またはここでのあらゆるその他の請求項の方法。
- 可動ステージの位置を推定するための装置であって、
複数のステータ−Y向きセンサー列と複数のステータ−X向きセンサー行を提供するように、お互いに対して配置されたセンサーのアレイを含むステータであって、
各ステータ−Y向きセンサー列は、ステータ−Y方向においてお互いと全体的に揃えられた複数のセンサーと、ピッチPyでステータ−Y方向においてお互いから間隔を空けられた各ステータ−Y向きセンサー列中のセンサーの少なくとも1つのペアを含み、
各ステータ−X向きセンサー行は、ステータ−X方向においてお互いと全体的に揃えられた複数のセンサーと、ピッチPxでステータ−X方向においてお互いから間隔を空けられた各ステータ−X向きセンサー行中のセンサーの少なくとも1つのペアを含むものと、
ステージ−Y方向において全体的に線形に引き延ばされた複数の第1の磁化セグメントを含んだ第1のY磁石アレイを含む可動ステージであって、各第1の磁化セグメントはステージ−Y方向の長さLyyを有し、磁化方向はステージ−Y方向と全体的に直交し、複数の第1の磁化セグメントの磁化方向は、第1のY磁石アレイのステージ−X方向の幅Wyxに渡る第1の磁気的空間的周期λxを顕示しているものと、
センサーの各々からの出力に基づいた情報を受け取るように接続され、可動ステージのステータ−X方向の位置を決定するために情報を使うように構成されたコントローラと、を含み、
各第1の磁化セグメントのステージ−Y方向の長さLyyは、Lyy=NyyPy、ここでNyyは正の整数、と全体的に整合している、
装置。 - ピッチPxは、Px=nλx/N、ここでnとNは整数、n/Nは非整数、と全体的に整合している、請求項55またはここでのあらゆるその他の請求項による装置。
- ピッチPxは、Px=nxλx、ここでnxは正の整数、と全体的に整合しており、各センサーは、対応する第1の方向に向き付けられた磁場に感度がある第1の出力と、対応する第2の方向に向き付けられた磁場に感度がある第2の出力を提供し、第2の方向は第1の方向と非平行である、請求項55またはここでのあらゆるその他の請求項による装置。
- コントローラは、
第1の同期列値の合計を含んだ第1の同期合計値であって、各第1の同期列値は対応する第1の同期ステータ−Y向きセンサー列からのセンサーの第1の出力の合計または平均に基づいており、各対応する第1の同期ステータ−Y向きセンサー列は他の対応する第1の同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔Nx1λx、ここでNx1は正の整数、だけ離されているものと、
第2の同期列値の合計を含んだ第2の同期合計値であって、各第2の同期列値は対応する第2の同期ステータ−Y向きセンサー列からのセンサーの第2の出力の合計または平均に基づいており、各対応する第2の同期ステータ−Y向きセンサー列は他の対応する第2の同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔Nx2λx、ここでNx2は正の整数、だけ離されているものと、
に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定するように構成されている、請求項57またはここでのあらゆるその他の請求項による装置。 - 請求項3−27のいずれかの特徴、特徴の組み合わせ、または特徴のサブコンビネーションのいずれかを含む、請求項55−58のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項による装置。
- 可動ステージの位置を推定するための方法であって、
複数のステータ−Y向きセンサー列と複数のステータ−X向きセンサー行を提供するように、お互いに対して配置されたセンサーのアレイを含むステータを提供することであって、
各ステータ−Y向きセンサー列は、ステータ−Y方向においてお互いと全体的に揃えられた複数のセンサーと、ピッチPyでステータ−Y方向においてお互いから間隔を空けられた各ステータ−Y向きセンサー列中のセンサーの少なくとも1つのペアを含み、
各ステータ−X向きセンサー行は、ステータ−X方向においてお互いと全体的に揃えられた複数のセンサーと、ピッチPxでステータ−X方向においてお互いから間隔を空けられた各ステータ−X向きセンサー行中のセンサーの少なくとも1つのペアを含むことと、
ステージ−Y方向において全体的に線形に引き延ばされた複数の第1の磁化セグメントを含んだ第1のY磁石アレイを含む可動ステージを提供することであって、各第1の磁化セグメントはステージ−Y方向の長さLyyを有し、磁化方向はステージ−Y方向と全体的に直交し、複数の第1の磁化セグメントの磁化方向は、第1のY磁石アレイのステージ−X方向の幅Wyxに渡る第1の磁気的空間的周期λxを顕示していることと、
各第1の磁化セグメントのステージ−Y方向の長さLyyが、Lyy=NyyPy、ここでNyyは整数、と全体的に整合するように、各ステータ−Y向きセンサー列におけるセンサーの間隔を空けることと、
センサーの各々からの出力に基づいた情報を取得して、情報に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することと、
を含む方法。 - ピッチPxが、Px=nλx/N、ここでnとNは整数、n/Nは非整数、と全体的に整合するように、各ステータ−X向きセンサー行におけるセンサーの間隔を空けることを含む、請求項60またはここでのあらゆるその他の請求項による方法。
- 各センサーは、対応する第1の方向に向けられた磁場に感度がある第1の出力と、対応する第2の方向に向けられた磁場に感度がある第2の出力を提供し、第2の方向は第1の方向と非平行であり、方法は、ピッチPxが、Px=nxλx、ここでnxは正の整数、と全体的に整合するように、各ステータ−X向きセンサー行におけるセンサーの間隔を空けることを含む、請求項60またはここでのあらゆるその他の請求項による方法。
- 第1の同期列値の合計を含んだ第1の同期合計値であって、各第1の同期列値は対応する第1の同期ステータ−Y向きセンサー列からのセンサーの第1の出力の合計または平均に基づいており、各対応する第1の同期ステータ−Y向きセンサー列は他の対応する第1の同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔Nx1λx、ここでNx1は正の整数、だけ離されているものと、
第2の同期列値の合計を含んだ第2の同期合計値であって、各第2の同期列値は対応する第2の同期ステータ−Y向きセンサー列からのセンサーの第2の出力の合計または平均に基づいており、各対応する第2の同期ステータ−Y向きセンサー列は他の対応する第2の同期ステータ−Y向きセンサー列から、ステータ−X向き間隔Nx2λx、ここでNx2は正の整数、だけ離されているものと、
に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することを含む、請求項62またはここでのあらゆるその他の請求項による方法。 - 請求項30−54のいずれかの特徴、特徴の組み合わせ、または特徴のサブコンビネーションのいずれかを含む、請求項60−63のいずれか1つまたはここでのあらゆるその他の請求項による方法。
- 可動ステージの位置を推定するための装置であって、
複数のステータ−Y向きセンサー列と複数のステータ−X向きセンサー行を提供するように、お互いに対して配置されたセンサーのアレイを含むステータと、
ステージ−Y方向において全体的に線形に引き延ばされた複数の第1の磁化セグメントを含んだ第1のY磁石アレイを含む可動ステージであって、各第1の磁化セグメントはステージ−Y方向の長さLyyを有し、磁化方向はステージ−Y方向と全体的に直交し、複数の第1の磁化セグメントの磁化方向は、第1のY磁石アレイのステージ−X方向の幅Wyxに渡る第1の磁気的空間的周期λxを顕示しているものと、
グリッドパターンに配列されたセンサーのアレイであって、各ステータ−Y向きセンサー列は、ステータ−Y方向においてお互いから間隔を空けられ、ステータ−Y方向に向き付けられた対応するステータ−Yラインに沿って全体的に揃えられた複数のセンサーを含み、各ステータ−X向きセンサー行は、ステータ−X方向においてお互いから間隔を空けられ、ステータ−X方向に向き付けられた対応するステータ−Xラインに沿って全体的に揃えられた複数のセンサーを含み、ステータ−Xおよびステータ−Y方向はお互いと全体的に直交し、1つのセンサーが、各ステータ−Yラインと各ステータ−Xラインの交点に位置しているものと、
センサーの各々からの出力に基づいた情報を受け取るように接続され、
第1のステータ−Y向きセンサー列におけるセンサーの第1のセットからの出力の第1の合計と、
第2のステータ−Y向きセンサー列におけるセンサーの第2のセットからの出力の第2の合計と、
に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定するために情報を使うように構成されたコントローラと、
を含む装置。 - 請求項1−27のいずれかの特徴、特徴の組み合わせ、または特徴のサブコンビネーションのいずれかを含む、請求項65による装置。
- 可動ステージの位置を推定するための方法であって、
複数のステータ−Y向きセンサー列と複数のステータ−X向きセンサー行を提供するように、お互いに対して配置されたセンサーのアレイを含むステータを提供することと、
ステージ−Y方向において全体的に線形に引き延ばされた複数の第1の磁化セグメントを含んだ第1のY磁石アレイを含む可動ステージを提供することであって、各第1の磁化セグメントはステージ−Y方向の長さLyyを有し、磁化方向はステージ−Y方向と全体的に直交し、複数の第1の磁化セグメントの磁化方向は、第1のY磁石アレイのステージ−X方向の幅Wyxに渡る第1の磁気的空間的周期λxを顕示していることと、
センサーのアレイをグリッドパターンに配列することであって、各ステータ−Y向きセンサー列は、ステータ−Y方向においてお互いから間隔を空けられ、ステータ−Y方向に向き付けられた対応するステータ−Yラインに沿って全体的に揃えられた複数のセンサーを含み、各ステータ−X向きセンサー行は、ステータ−X方向においてお互いから間隔を空けられ、ステータ−X方向に向き付けられた対応するステータ−Xラインに沿って全体的に揃えられた複数のセンサーを含み、ステータ−Xおよびステータ−Y方向はお互いと全体的に直交し、1つのセンサーが、各ステータ−Yラインと各ステータ−Xラインの交点に位置していることと、
センサーの各々からの出力に基づいた情報を受け取ることと、
第1のステータ−Y向きセンサー列におけるセンサーの第1のセットからの出力の第1の合計と、
第2のステータ−Y向きセンサー列におけるセンサーの第2のセットからの出力の第2の合計と、
に基づいて可動ステージのステータ−X方向の位置を決定することと、
を含む方法。 - 請求項28−54のいずれかの特徴、特徴の組み合わせ、または特徴のサブコンビネーションのいずれかを含む、請求項67による方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201361862520P | 2013-08-06 | 2013-08-06 | |
US61/862,520 | 2013-08-06 | ||
US201462008519P | 2014-06-06 | 2014-06-06 | |
US62/008,519 | 2014-06-06 | ||
PCT/CA2014/050739 WO2015017933A1 (en) | 2013-08-06 | 2014-08-06 | Displacement devices and methods and apparatus for detecting and estimating motion associated with same |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016527518A true JP2016527518A (ja) | 2016-09-08 |
JP2016527518A5 JP2016527518A5 (ja) | 2017-09-14 |
JP6373992B2 JP6373992B2 (ja) | 2018-08-15 |
Family
ID=52460453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016532170A Active JP6373992B2 (ja) | 2013-08-06 | 2014-08-06 | 変位デバイスおよび方法とそれに関連付けられた運動を検出し推定するための装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US10222237B2 (ja) |
EP (1) | EP3014219B1 (ja) |
JP (1) | JP6373992B2 (ja) |
CN (1) | CN105452812B (ja) |
WO (1) | WO2015017933A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019082750A1 (ja) * | 2017-10-24 | 2019-05-02 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 平面モータシステム、制御装置、及び、移動方法 |
WO2020111035A1 (ja) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | 日本精機株式会社 | 位置検出装置用磁石ユニット及び位置検出装置 |
Families Citing this family (63)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4033645A1 (en) | 2011-10-27 | 2022-07-27 | The University of British Columbia | Displacement devices and methods for fabrication, use and control of same |
EP3014219B1 (en) | 2013-08-06 | 2017-10-11 | The University Of British Columbia | Displacement devices and methods and apparatus for detecting and estimating motion associated with same |
WO2015179962A1 (en) * | 2014-05-30 | 2015-12-03 | The University Of British Columbia | Displacement devices and methods for fabrication, use and control of same |
EP3584913B1 (en) | 2014-06-07 | 2023-08-02 | The University of British Columbia | Systems for controllably moving multiple moveable stages in a displacement device |
EP3155712A4 (en) | 2014-06-14 | 2018-02-21 | The University Of British Columbia | Displacement devices, moveable stages for displacement devices and methods for fabrication, use and control of same |
US10130807B2 (en) | 2015-06-12 | 2018-11-20 | Cochlear Limited | Magnet management MRI compatibility |
US20160381473A1 (en) | 2015-06-26 | 2016-12-29 | Johan Gustafsson | Magnetic retention device |
CN107852082B (zh) | 2015-07-06 | 2020-05-26 | 不列颠哥伦比亚大学 | 用于在位移装置上可控制地移动一个或多个可移动台的方法和系统 |
US10917730B2 (en) | 2015-09-14 | 2021-02-09 | Cochlear Limited | Retention magnet system for medical device |
US9872115B2 (en) * | 2015-09-14 | 2018-01-16 | Cochlear Limited | Retention magnet system for medical device |
DE102016002420B4 (de) * | 2016-03-02 | 2017-11-30 | TE Connectivity Sensors Germany GmbH | Verfahren zur Bestimmung der Position eines Magneten relativ zu einer Sensorzelle |
DE102016206905A1 (de) * | 2016-04-22 | 2017-10-26 | Festo Ag & Co. Kg | Sensorsystem und Verfahren zur Ermittlung einer Position eines Messelements längs eines Bewegungswegs |
DE102016215212A1 (de) | 2016-08-16 | 2018-02-22 | Robert Bosch Gmbh | Bewegungsvorrichtung mit magnetischer Positionsbestimmung und Datenübertragungsvorrichtung |
US11647678B2 (en) | 2016-08-23 | 2023-05-09 | Analog Devices International Unlimited Company | Compact integrated device packages |
DE102016220573A1 (de) | 2016-10-20 | 2018-04-26 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen einer Position und/oder Orientierung eines frei schwebenden Elements |
US10697800B2 (en) * | 2016-11-04 | 2020-06-30 | Analog Devices Global | Multi-dimensional measurement using magnetic sensors and related systems, methods, and integrated circuits |
US11595768B2 (en) | 2016-12-02 | 2023-02-28 | Cochlear Limited | Retention force increasing components |
DE102016224951A1 (de) | 2016-12-14 | 2018-06-14 | Robert Bosch Gmbh | Beförderungsvorrichtung mit einem Stator zur kontrollierten Beförderung eines Transportkörpers relativ zum Stator |
CN106706222A (zh) * | 2017-01-09 | 2017-05-24 | 北京中昌天盛科技有限公司 | 检测系统及方法 |
WO2018176137A1 (en) | 2017-03-27 | 2018-10-04 | Planar Motor Incorporated | Robotic devices and methods for fabrication, use and control of same |
US11223303B2 (en) * | 2017-06-19 | 2022-01-11 | Nikon Research Corporation Of America | Motor with force constant modeling and identification for flexible mode control |
DE102017131324A1 (de) | 2017-12-27 | 2019-06-27 | Beckhoff Automation Gmbh | Statormodul und Planarantriebssystem |
DE102017131321B4 (de) | 2017-12-27 | 2020-03-12 | Beckhoff Automation Gmbh | Statoreinheit und Statormodul |
DE102017131326A1 (de) | 2017-12-27 | 2019-06-27 | Beckhoff Automation Gmbh | Statormodul |
DE102017131304A1 (de) | 2017-12-27 | 2019-06-27 | Beckhoff Automation Gmbh | Statormodul |
DE102017131314A1 (de) | 2017-12-27 | 2019-06-27 | Beckhoff Automation Gmbh | Statormodul |
DE102017131320A1 (de) | 2017-12-27 | 2019-06-27 | Beckhoff Automation Gmbh | Planarantriebssystem, Statormodul und Sensormodul |
US11628275B2 (en) | 2018-01-31 | 2023-04-18 | Analog Devices, Inc. | Electronic devices |
CN108490390B (zh) * | 2018-02-28 | 2022-05-17 | 北京理工大学 | 一种移动磁源定位装置 |
DE102018209401A1 (de) | 2018-06-13 | 2019-12-19 | Robert Bosch Gmbh | Beförderungsvorrichtung mit Sicherheitsfunktion |
DE102018209403A1 (de) | 2018-06-13 | 2019-12-19 | Robert Bosch Gmbh | Aus Unterbaugruppen zusammengesetzte Bewegungsvorrichtung |
DE102018209402A1 (de) | 2018-06-13 | 2019-12-19 | Robert Bosch Gmbh | Bewegungsvorrichtung mit entkoppelten Positionsreglern |
DE102018117953B3 (de) | 2018-07-25 | 2019-11-07 | Beckhoff Automation Gmbh | Statoreinheit |
DE102018118004B3 (de) * | 2018-07-25 | 2019-11-07 | Beckhoff Automation Gmbh | Statoreinheit |
DE102018117981A1 (de) * | 2018-07-25 | 2020-01-30 | Beckhoff Automation Gmbh | Statoreinheit und Statormodul |
US10944314B2 (en) | 2018-08-08 | 2021-03-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Transport system, mover, control apparatus, and control method |
JP6938457B2 (ja) | 2018-08-08 | 2021-09-22 | キヤノン株式会社 | 搬送システム、可動子、制御装置及び制御方法 |
CN112840542A (zh) | 2018-10-13 | 2021-05-25 | 普拉那汽车公司 | 用于识别磁性动子的系统和方法 |
DE102018218666A1 (de) * | 2018-10-31 | 2020-04-30 | Robert Bosch Gmbh | Bewegungsvorrichtung mit Positionsbestimmungssystem |
DE102018129731A1 (de) | 2018-11-26 | 2020-05-28 | Beckhoff Automation Gmbh | Verfahren zum Antreiben eines Läufers eines Planarantriebssystems |
DE102018129732A1 (de) * | 2018-11-26 | 2020-05-28 | Beckhoff Automation Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Vermeiden einer Kollision beim Antreiben von wenigstens zwei Movern auf einer Antriebsfläche |
DE102018129739A1 (de) | 2018-11-26 | 2020-05-28 | Beckhoff Automation Gmbh | Vorrichtung zum Antreiben von wenigstens einem Mover auf einer Antriebsfläche |
DE102018129727A1 (de) | 2018-11-26 | 2020-05-28 | Beckhoff Automation Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Vermeiden einer Kollision beim Antreiben von wenigstens zwei Movern auf einer Antriebsfläche |
DE102018129738A1 (de) | 2018-11-26 | 2020-05-28 | Beckhoff Automation Gmbh | Vorrichtung und Verfahren für eine Pfadplanung für einen Mover einer Antriebsvorrichtung |
US10838023B2 (en) * | 2019-01-25 | 2020-11-17 | Aktiebolaget Skf | High performance magnetic ring and sensor arrangement |
CN109660064B (zh) * | 2019-01-29 | 2024-05-17 | 苏州隐冠半导体技术有限公司 | 一种基于混合位移传感器和平面电机的位移装置 |
CN111490642B (zh) * | 2019-01-29 | 2022-05-20 | 苏州隐冠半导体技术有限公司 | 一种基于霍尔效应传感器和平面电机的位移装置 |
US11152823B2 (en) * | 2019-04-01 | 2021-10-19 | Spark Connected LLC | Translation unit for wireless power transfer |
AT523217A1 (de) * | 2019-11-27 | 2021-06-15 | B & R Ind Automation Gmbh | Transporteinrichtung |
TW202137866A (zh) | 2020-02-20 | 2021-10-01 | 美商布魯克斯自動機械公司 | 基板處理裝置 |
EP3883124A1 (de) | 2020-03-19 | 2021-09-22 | Beckhoff Automation GmbH | Verfahren zum steuern eines planarantriebssystems und planarantriebssystem |
EP3890171A1 (de) * | 2020-04-02 | 2021-10-06 | Beckhoff Automation GmbH | Verfahren zum steuern eines planarantriebssystems und planarantriebssystem |
DE102020204749A1 (de) | 2020-04-15 | 2021-10-21 | Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Beförderungsvorrichtung |
DE102020115449A1 (de) * | 2020-06-10 | 2021-12-16 | Beckhoff Automation Gmbh | Verfahren zum Steuern eines Planarantriebssystems und Planarantriebssystem |
CN112054649A (zh) * | 2020-09-18 | 2020-12-08 | 复旦大学 | 一种磁悬浮运动台 |
CN112234800B (zh) * | 2020-12-14 | 2021-03-09 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 一种位移装置及磁浮平面电机 |
DE102020135153A1 (de) | 2020-12-30 | 2022-06-30 | Fl Technology Gmbh | Logistikfläche und Verfahren zum Betreiben einer solchen |
CN113091729B (zh) * | 2021-03-19 | 2023-07-14 | 北京控制工程研究所 | 一种磁悬浮旋转扫描载荷舱的径向位姿估计方法和系统 |
DE102021130313A1 (de) * | 2021-11-19 | 2023-05-25 | Beckhoff Automation Gmbh | Verfahren zum Betreiben eines linearen Antriebssystems und lineares Antriebssystem |
JP2023086105A (ja) | 2021-12-09 | 2023-06-21 | ベーウントエル・インダストリアル・オートメイション・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 平面モータを稼働させるための方法 |
DE102022105619A1 (de) | 2022-03-10 | 2023-09-14 | Baumann Maschinenbau Solms Gmbh & Co.Kg | Anordnung sowie Verfahren zum Bearbeiten blattförmigen Guts |
DE102022105597B3 (de) | 2022-03-10 | 2023-03-30 | Baumann Maschinenbau Solms Gmbh & Co.Kg | Verfahren und Anordnung zum Anordnen von Nutzen |
DE102022105622A1 (de) | 2022-03-10 | 2023-09-14 | Baumann Maschinenbau Solms Gmbh & Co.Kg | Verfahren zum Sortieren von Nutzen und Anordnung zum Bearbeiten von bedruckten Bogen |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002112526A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-04-12 | Nikon Corp | 平面モータ、ステージ位置決めシステム、露光装置 |
JP2004047981A (ja) * | 2002-04-23 | 2004-02-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
US20110084637A1 (en) * | 2004-03-12 | 2011-04-14 | Seiko Epson Corporation | Motor and drive control system thereof |
JP2011517766A (ja) * | 2007-06-27 | 2011-06-16 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | 多次元位置センサ |
WO2013059934A1 (en) * | 2011-10-27 | 2013-05-02 | The University Of British Columbia | Displacement devices and methods for fabrication, use and control of same |
Family Cites Families (111)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3376578A (en) | 1966-05-31 | 1968-04-02 | Bruce A. Sawyer | Magnetic positioning device |
NL7302941A (ja) | 1973-03-02 | 1974-09-04 | ||
JPS58175020A (ja) | 1982-04-05 | 1983-10-14 | Telmec Co Ltd | 二次元精密位置決め装置 |
US4654571A (en) | 1985-09-16 | 1987-03-31 | Hinds Walter E | Single plane orthogonally movable drive system |
US4835424A (en) | 1987-03-23 | 1989-05-30 | Megamation Incorporated | Platen laminated in mutually perpendicular direction for use with linear motors and the like |
US5125347A (en) | 1989-10-30 | 1992-06-30 | Hitachi, Ltd. | Power supply system for a linear motor type transportation system |
US5196745A (en) | 1991-08-16 | 1993-03-23 | Massachusetts Institute Of Technology | Magnetic positioning device |
JP2714502B2 (ja) | 1991-09-18 | 1998-02-16 | キヤノン株式会社 | 移動ステージ装置 |
US5334892A (en) | 1992-12-22 | 1994-08-02 | Anorad Corporation | Positioning device for planar positioning |
JPH086642A (ja) | 1994-06-20 | 1996-01-12 | Brother Ind Ltd | 平面モータの位置決め装置 |
US5925956A (en) | 1995-06-30 | 1999-07-20 | Nikon Corporation | Stage construction incorporating magnetically levitated movable stage |
AUPN422295A0 (en) | 1995-07-18 | 1995-08-10 | Bytecraft Research Pty. Ltd. | Control system |
US5777402A (en) | 1996-06-24 | 1998-07-07 | Anorad Corporation | Two-axis motor with high density magnetic platen |
US5886432A (en) | 1997-04-28 | 1999-03-23 | Ultratech Stepper, Inc. | Magnetically-positioned X-Y stage having six-degrees of freedom |
US6441514B1 (en) | 1997-04-28 | 2002-08-27 | Ultratech Stepper, Inc. | Magnetically positioned X-Y stage having six degrees of freedom |
JP4164905B2 (ja) | 1997-09-25 | 2008-10-15 | 株式会社ニコン | 電磁力モータ、ステージ装置および露光装置 |
US6003230A (en) | 1997-10-03 | 1999-12-21 | Massachusetts Institute Of Technology | Magnetic positioner having a single moving part |
US6876105B1 (en) | 1998-02-26 | 2005-04-05 | Anorad Corporation | Wireless encoder |
US7170241B1 (en) | 1998-02-26 | 2007-01-30 | Anorad Corporation | Path module for a linear motor, modular linear motor system and method to control same |
EP1063756A4 (en) | 1998-03-13 | 2001-06-13 | Nikon Corp | METHOD FOR PRODUCING A LINEAR MOTOR, LINEAR MOTOR, CARRIER SYSTEM WITH SUCH A LINEAR MOTOR, AND EXPOSURE SYSTEM |
JP4352445B2 (ja) | 1998-03-19 | 2009-10-28 | 株式会社ニコン | 平面モータ装置、ステージ装置、露光装置及びその製造方法、並びにデバイス及びその製造方法 |
US6252234B1 (en) | 1998-08-14 | 2001-06-26 | Nikon Corporation | Reaction force isolation system for a planar motor |
US6097114A (en) | 1998-08-17 | 2000-08-01 | Nikon Corporation | Compact planar motor having multiple degrees of freedom |
US6144118A (en) | 1998-09-18 | 2000-11-07 | General Scanning, Inc. | High-speed precision positioning apparatus |
US6208045B1 (en) | 1998-11-16 | 2001-03-27 | Nikon Corporation | Electric motors and positioning devices having moving magnet arrays and six degrees of freedom |
US6835941B1 (en) | 1998-11-30 | 2004-12-28 | Nikon Corporation | Stage unit and its making method, and exposure apparatus and its making method |
WO2000046911A1 (fr) | 1999-02-04 | 2000-08-10 | Nikon Corporation | Dispositif a moteur plat et procede d'entrainement correspondant, unite d'activation et procede d'entrainement correspondant, appareil d'exposition et procede correspondant et dispositif avec procede de fabrication correspondant |
TW466542B (en) | 1999-02-26 | 2001-12-01 | Nippon Kogaku Kk | A stage device and a method of manufacturing same, a position controlling method, an exposure device and a method of manufacturing same, and a device and a method of manufacturing same |
US6590355B1 (en) * | 1999-06-07 | 2003-07-08 | Nikon Corporation | Linear motor device, stage device, and exposure apparatus |
US6144119A (en) | 1999-06-18 | 2000-11-07 | Nikon Corporation | Planar electric motor with dual coil and magnet arrays |
TWI248718B (en) | 1999-09-02 | 2006-02-01 | Koninkl Philips Electronics Nv | Displacement device |
US6398812B1 (en) | 2000-02-10 | 2002-06-04 | Medidea, Llc | Shoulder prosthesis with anatomic reattachment features |
US6437463B1 (en) | 2000-04-24 | 2002-08-20 | Nikon Corporation | Wafer positioner with planar motor and mag-lev fine stage |
US6445093B1 (en) * | 2000-06-26 | 2002-09-03 | Nikon Corporation | Planar motor with linear coil arrays |
US6452292B1 (en) * | 2000-06-26 | 2002-09-17 | Nikon Corporation | Planar motor with linear coil arrays |
US6885430B2 (en) | 2000-11-16 | 2005-04-26 | Nikon Corporation | System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly |
TWI258914B (en) | 2000-12-27 | 2006-07-21 | Koninkl Philips Electronics Nv | Displacement device |
US6670730B2 (en) | 2001-04-12 | 2003-12-30 | Ballado Investments Inc. | Multi-phase linear motor with induction coils arranged on an axis perpendicular to the direction of motion |
US20020149270A1 (en) | 2001-04-12 | 2002-10-17 | Hazelton Andrew J. | Planar electric motor with two sided magnet array |
US6650079B2 (en) * | 2001-06-01 | 2003-11-18 | Nikon Corporation | System and method to control planar motors |
WO2003026838A1 (en) | 2001-09-24 | 2003-04-03 | Agency For Science, Technology And Research | Decoupled planar positioning system |
US6710495B2 (en) | 2001-10-01 | 2004-03-23 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Multi-phase electric motor with third harmonic current injection |
JP3916048B2 (ja) | 2002-01-10 | 2007-05-16 | 株式会社安川電機 | リニアモータ |
DE60332681D1 (de) * | 2002-01-22 | 2010-07-08 | Ebara Corp | Trägerplattevorrichtung |
EP1357434A1 (en) * | 2002-04-23 | 2003-10-29 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US6777896B2 (en) * | 2002-07-09 | 2004-08-17 | Nikon Corporation | Methods and apparatus for initializing a planar motor |
CN2754214Y (zh) * | 2002-10-23 | 2006-01-25 | 雅马哈株式会社 | 磁传感器及磁铁阵列 |
JP4227452B2 (ja) | 2002-12-27 | 2009-02-18 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置、及びその位置決め装置を利用した露光装置 |
US7224252B2 (en) | 2003-06-06 | 2007-05-29 | Magno Corporation | Adaptive magnetic levitation apparatus and method |
US7057370B2 (en) | 2003-06-21 | 2006-06-06 | Igor Victorovich Touzov | Ultra-fast precision motor with X, Y and Theta motion and ultra-fast optical decoding and absolute position detector |
JP4478470B2 (ja) | 2004-01-26 | 2010-06-09 | キヤノン株式会社 | 位置決めステージ装置 |
JP3981669B2 (ja) * | 2004-03-02 | 2007-09-26 | セイコーエプソン株式会社 | モータ及びモータの駆動システム |
JP2005253179A (ja) | 2004-03-03 | 2005-09-15 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2005268608A (ja) | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステージ装置 |
US7536161B2 (en) | 2004-03-31 | 2009-05-19 | Silicon Laboratories Inc. | Magnetically differential input |
WO2006075291A2 (en) * | 2005-01-17 | 2006-07-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Displacement device |
US7882701B2 (en) | 2005-01-18 | 2011-02-08 | Massachusetts Institute Of Technology | Microfabricated mechanical frequency multiplier |
JP2006211812A (ja) | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP4738829B2 (ja) | 2005-02-09 | 2011-08-03 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置 |
US7550890B2 (en) | 2005-08-23 | 2009-06-23 | Seagate Technology Llc | Motor assembly with an integrated flexible printed circuit |
JP2007068256A (ja) | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Canon Inc | ステージ装置の制御方法 |
US7459808B2 (en) | 2005-11-15 | 2008-12-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and motor |
US7541699B2 (en) | 2005-12-27 | 2009-06-02 | Asml Netherlands B.V. | Magnet assembly, linear actuator, planar motor and lithographic apparatus |
TWI454859B (zh) | 2006-03-30 | 2014-10-01 | 尼康股份有限公司 | 移動體裝置、曝光裝置與曝光方法以及元件製造方法 |
KR101444632B1 (ko) * | 2006-09-01 | 2014-09-26 | 가부시키가이샤 니콘 | 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 디바이스 제조 방법, 그리고 캘리브레이션 방법 |
US7504794B2 (en) | 2006-11-29 | 2009-03-17 | Chiba Precision Co., Ltd. | Planar motor |
US7633070B2 (en) | 2006-12-18 | 2009-12-15 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Substrate processing apparatus and method |
US20100167556A1 (en) | 2007-04-19 | 2010-07-01 | Nikon Corporation | Three degree of movement mover and method for controlling a three degree of movement mover |
US20080285005A1 (en) * | 2007-05-15 | 2008-11-20 | Jean-Marc Gery | System and method for measuring and mapping a sideforce for a mover |
DE102007024602A1 (de) | 2007-05-25 | 2008-11-27 | Etel S.A. | Planarmotor |
DE102007038845A1 (de) | 2007-08-16 | 2009-03-19 | Dorma Gmbh + Co. Kg | Anordnung von Statormodulen in einem Linearmotor |
JP2009060773A (ja) | 2007-09-04 | 2009-03-19 | Canon Inc | 駆動装置およびそれを用いた平面モータおよびそれを用いた露光装置 |
US20090195195A1 (en) | 2008-02-03 | 2009-08-06 | Lieh-Feng Huang | Position Feedback Device for a Linear Motor |
JP2009253090A (ja) | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Canon Inc | 位置決めステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2010004684A (ja) | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Canon Inc | モータ装置、製造方法、露光装置及びデバイスの製造方法 |
WO2010021168A1 (ja) * | 2008-08-19 | 2010-02-25 | 株式会社安川電機 | リニアモータ装置 |
US7965010B2 (en) | 2008-09-03 | 2011-06-21 | Bose Corporation | Linear motor with patterned magnet arrays |
US20100090545A1 (en) * | 2008-10-09 | 2010-04-15 | Binnard Michael B | Planar motor with wedge shaped magnets and diagonal magnetization directions |
US8492934B2 (en) | 2009-03-23 | 2013-07-23 | Nikon Corporation | Coil variations for an oval coil planar motor |
JP5430204B2 (ja) | 2009-04-01 | 2014-02-26 | キヤノン株式会社 | リニアモータおよびそれを用いたステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
US7808133B1 (en) | 2009-04-21 | 2010-10-05 | Asm Assembly Automation Ltd. | Dual-axis planar motor providing force constant and thermal stability |
JP4941790B2 (ja) * | 2009-08-28 | 2012-05-30 | 村田機械株式会社 | 移動体システム |
JP5486874B2 (ja) * | 2009-08-28 | 2014-05-07 | Thk株式会社 | 分散配置リニアモータおよび分散配置リニアモータの制御方法 |
AU2010295220B2 (en) | 2009-09-21 | 2012-07-19 | Soderberg, Rod F. Mr | A matrix material comprising magnetic particles for use in hybrid and electric vehicles |
CN101750187B (zh) * | 2010-01-19 | 2011-04-06 | 清华大学 | 一种基于磁钢阵列的运动平台二维定位方法 |
US9465305B2 (en) | 2010-05-18 | 2016-10-11 | Nikon Corporation | Method for determining a commutation offset and for determining a compensation map for a stage |
KR101211222B1 (ko) * | 2010-07-23 | 2012-12-11 | 한양대학교 산학협력단 | 이동체 움직임 감지 장치 및 방법 |
US8593016B2 (en) | 2010-12-03 | 2013-11-26 | Sri International | Levitated micro-manipulator system |
CN201956875U (zh) | 2011-01-27 | 2011-08-31 | 东南大学 | 梯形线圈型永磁无铁直线电机 |
JP5649058B2 (ja) | 2011-02-02 | 2015-01-07 | 独立行政法人理化学研究所 | アンジュレータ磁石列およびアンジュレータ |
NL2008696A (en) | 2011-05-25 | 2012-11-27 | Asml Netherlands Bv | A multi-stage system, a control method therefor, and a lithographic apparatus. |
US9030057B2 (en) | 2011-06-24 | 2015-05-12 | Nikon Corporation | Method and apparatus to allow a plurality of stages to operate in close proximity |
US20130140372A1 (en) | 2011-06-30 | 2013-06-06 | Nikon Corporation | Temperature control of a mover with active bypass, predictive feedforward control, and phase change housing |
US20130164687A1 (en) | 2011-06-30 | 2013-06-27 | Michael B. Binnard | Hybrid cooling and thermal shield for electromagnetic actuators |
EP2568582B1 (de) | 2011-09-12 | 2014-06-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Elektrische Maschine |
CN102501224B (zh) * | 2011-09-30 | 2016-01-27 | 中南大学 | 一种平面型磁浮直线运动平台 |
CN103033786B (zh) * | 2011-10-08 | 2015-07-08 | 中国科学院空间科学与应用研究中心 | 一种三轴矢量磁强计正交校准方法及装置 |
EP2882082A4 (en) | 2012-07-31 | 2015-12-09 | Shanghai Microelectronics Equi | LINEAR MOTOR AND PLATFORM DEVICE |
US8736133B1 (en) | 2013-03-14 | 2014-05-27 | Boulder Wind Power, Inc. | Methods and apparatus for overlapping windings |
EP3014219B1 (en) | 2013-08-06 | 2017-10-11 | The University Of British Columbia | Displacement devices and methods and apparatus for detecting and estimating motion associated with same |
US10084364B2 (en) | 2013-10-05 | 2018-09-25 | Nikon Research Corporation Of America | Power minimizing controller for a stage assembly |
US10261419B2 (en) | 2014-05-22 | 2019-04-16 | Nikon Corporation | Magnet array for moving magnet planar motor |
WO2015179962A1 (en) | 2014-05-30 | 2015-12-03 | The University Of British Columbia | Displacement devices and methods for fabrication, use and control of same |
EP3584913B1 (en) | 2014-06-07 | 2023-08-02 | The University of British Columbia | Systems for controllably moving multiple moveable stages in a displacement device |
EP3155712A4 (en) | 2014-06-14 | 2018-02-21 | The University Of British Columbia | Displacement devices, moveable stages for displacement devices and methods for fabrication, use and control of same |
CN106660648B (zh) | 2014-07-25 | 2020-07-03 | 罗伯特·博世有限公司 | 运输设备 |
DE102014214697A1 (de) | 2014-07-25 | 2016-01-28 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung zum Befüllen eines Behältnisses |
DE102014214693A1 (de) | 2014-07-25 | 2016-01-28 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung zum Wiegen eines Behältnisses |
DE102014214694A1 (de) | 2014-07-25 | 2016-01-28 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung zum Verschließen eines Behältnisses |
DE102014214696A1 (de) | 2014-07-25 | 2016-01-28 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung zum Transport eines Behältnisses relativ zu einer Füllstation |
DE102014225171A1 (de) | 2014-12-08 | 2016-06-09 | Robert Bosch Gmbh | Sicherungssystem für eine Anordnung zum Bewegen von Transportkörpern |
-
2014
- 2014-08-06 EP EP14833852.8A patent/EP3014219B1/en active Active
- 2014-08-06 CN CN201480045532.5A patent/CN105452812B/zh active Active
- 2014-08-06 JP JP2016532170A patent/JP6373992B2/ja active Active
- 2014-08-06 WO PCT/CA2014/050739 patent/WO2015017933A1/en active Application Filing
-
2016
- 2016-02-04 US US15/016,027 patent/US10222237B2/en active Active
-
2017
- 2017-10-23 US US15/791,345 patent/US10704927B2/en active Active
-
2020
- 2020-05-29 US US16/888,599 patent/US11397097B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002112526A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-04-12 | Nikon Corp | 平面モータ、ステージ位置決めシステム、露光装置 |
JP2004047981A (ja) * | 2002-04-23 | 2004-02-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
US20110084637A1 (en) * | 2004-03-12 | 2011-04-14 | Seiko Epson Corporation | Motor and drive control system thereof |
JP2011517766A (ja) * | 2007-06-27 | 2011-06-16 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | 多次元位置センサ |
WO2013059934A1 (en) * | 2011-10-27 | 2013-05-02 | The University Of British Columbia | Displacement devices and methods for fabrication, use and control of same |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019082750A1 (ja) * | 2017-10-24 | 2019-05-02 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 平面モータシステム、制御装置、及び、移動方法 |
WO2020111035A1 (ja) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | 日本精機株式会社 | 位置検出装置用磁石ユニット及び位置検出装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180094949A1 (en) | 2018-04-05 |
US10222237B2 (en) | 2019-03-05 |
EP3014219B1 (en) | 2017-10-11 |
US10704927B2 (en) | 2020-07-07 |
US11397097B2 (en) | 2022-07-26 |
WO2015017933A1 (en) | 2015-02-12 |
CN105452812A (zh) | 2016-03-30 |
US20160161288A1 (en) | 2016-06-09 |
CN105452812B (zh) | 2019-04-30 |
JP6373992B2 (ja) | 2018-08-15 |
EP3014219A4 (en) | 2017-03-15 |
US20200370925A1 (en) | 2020-11-26 |
EP3014219A1 (en) | 2016-05-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6373992B2 (ja) | 変位デバイスおよび方法とそれに関連付けられた運動を検出し推定するための装置 | |
JP6204366B2 (ja) | 変位装置及び変位装置を製造、使用、制御する方法 | |
JP5500785B2 (ja) | 磁気センサ | |
US20170163140A1 (en) | Displacement devices, moveable stages for displacement devices and methods for fabrication, use and control of same | |
JP5464237B2 (ja) | 磁気センサ | |
JP5201493B2 (ja) | 位置検出装置及び直線駆動装置 | |
JP4900838B2 (ja) | 位置検出装置及び直線駆動装置 | |
JP2013234939A (ja) | 磁気検出装置及び磁気エンコーダ | |
JP2014095651A (ja) | 誘導型変位検出装置 | |
JP2005326373A (ja) | 磁気検出素子及びこれを用いた磁気検出器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170802 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170802 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180629 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180710 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180718 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6373992 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |