JP2016526411A - 組み合わされた磁気共鳴イメージング及び放射線治療のためのクライオスタット及びシステム - Google Patents

組み合わされた磁気共鳴イメージング及び放射線治療のためのクライオスタット及びシステム Download PDF

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Abstract

クライオスタット用のチャンバは、第1の方向に沿って互いに隔てられ及び間隔を置かれた第1及び第2の環状セクションと、第1及び第2の環状セクションの間に第1の方向に延在し、第1及び第2の環状セクションを互いに接続する第3の環状セクションと、を有する。第1及び第2の環状セクションは、対応する第1及び第2の内部ボリュームを規定し、第3の環状セクションは、第3の内部ボリュームを規定し、第3の内部ボリュームは、第1の内部ボリュームより実質的に小さく、第2の内部ボリュームより実質的に小さい。

Description

本願は、35U.S.C.119の下、2013年6月21日出願の米国特許仮出願第61/837,739号及び2013年9月26日出願の米国特許仮出願第61,882,924号の優先権を主張する。これらの出願は、参照によってここに盛り込まれるものとする。
本発明は、概して、磁気共鳴イメージング及び放射線治療ができるシステム及びこのようなシステムのためのクライオスタットに関する。
疾患を診断するための画像及び異常組織を健康組織と区別するための画像を生成する磁気共鳴(MR)イメージャ又はスキャナが開発されてきた。MRイメージャ又はスキャナは、一般に、それが動作のために必要とする大きい磁界を生成するために超電導磁石を用いる。超電導特性を実現するために、磁石は、絶対零度に近い温度で極低温環境に維持される。一般に、磁石は、クライオスタットに配置される1又は複数の導電性コイルを有し、コイルには、磁界を生成するために電流が流される。
一方、放射線ビーム(放射線治療ビーム)を患者のターゲット関心領域にフォーカスすることができ及び好適には健康組織を避けて病変組織を破壊することができる放射線治療が開発された。
健康組織の損傷を低減しつつ病変組織のより正確な処置を提供するために、MRイメージングの診断空間特定性を放射線治療ビームフォーカス技術と組み合わせることが望まれる。リアルタイムのイメージング及び放射線治療を組み合わせることによって、解剖学的構造の日々の変化だけでなく処置プロシージャ中に生じる呼吸のような身体運動をも補償する放射線治療ビーム成形が、リアルタイムに実施されることができる。
動作中、放射線治療ビームは、健康組織を避けながら、ターゲット領域(すなわち病変組織)にフォーカスされた放射線線量を堆積させるために、患者の回りを回転されることができる。放射線治療をMRイメージングと組み合わせることは、放射線治療ビームが、MRイメージャ及びスキャナで囲まれる患者に到達することを要求する。更に、放射線ビームは、放射線治療ビームによって供給されるエネルギーの大きさ及びロケーションが正確に制御されることができるように制御される知られたやり方で、MRイメージャ又はスキャナを通り抜けるべきである。
概して、最も正確なMRイメージャ又はスキャナは、超電導磁石によって生成される高磁界を使用し、超電導磁石は、通常、クライオスタット内に配置される太い超電導ワイヤ巻線、薄い金属シェル及び大きい極低温槽(例えば液体ヘリウム)で構成される。
放射線治療ビームは、それが例えばMRイメージャ又はスキャナのクライオスタット内の金属又は液体ヘリウムのような物質を通過する際に、減衰する。一定の減衰又は損失が、ある時間及び角度位置わたって保たれる場合、放射線治療ビームによって供給されるエネルギーの大きさ及びロケーションを正確に制御するために損失を補償し又は調整することが可能である。
しかしながら、MRイメージャ又はスキャナの超電導磁石システムの維持及び動作の間、ある量の極低温流体(例えば液体ヘリウム)がボイルオフし、レベルが変化し、それによって、放射線治療ビームの減衰を変えることが頻繁にある。更に、クライオスタットは、液体ヘリウムで完全には満たされないので、液体ヘリウムの量は、クライオスタット内の位置の関数として変化し、放射線治療ビームが通過しなければならない液体ヘリウムの量又はボリュームは、角度位置の関数でもありうる。その結果、放射線治療ビームの減衰は、角度位置の関数になりうる。従って、放射線治療ビームによってターゲット関心領域に供給される放射線エネルギーの量を、一定であるように、特にさまざまな角度位置で一定であるように正確に制御することは困難でありうる。
本発明の1つの見地は、放射線治療ビーム及び磁気共鳴イメージャを生成するように構成される放射線源を有する装置を供給することができ、磁気共鳴イメージャは、クライオスタットを有することができる。クライオスタットは、内側チャンバ、及び内側チャンバを実質的に囲む真空領域を有することができる。内側チャンバは、第1の方向に沿って互いに隔てられ及び間隔を置かれた第1及び第2の環状セクション、並びに第1及び第2の環状セクションの間で第1の方向に延在し、第1及び第2の環状セクションを互いに接続する第3の環状のセクションを有する。第1の方向に垂直な平面における第3の環状セクションの内部幅は、第1の環状セクションの内部幅及び第2の環状セクションの内部幅より小さいものでありうる。放射線治療ビームは、クライオスタットの第3の環状セクションを通過するように構成されることができる。
ある実施形態において、放射線源は、線形加速器を有することができる。
ある実施形態において、放射線源は、マルチリーフコリメータを有することができる。
ある実施形態において、装置は、第1及び第2の環状セクションに配置される超電導コイルを更に有することができる。超電導コイルは、第1の半導体コイルの対及び第2の半導体コイルの対を少なくとも有することができ、第1の超電導コイルは、第2の超電導コイルと比べて、第3の環状セクションのより近くに配置されることができ、各々の第1の超電導コイルの直径は、各々の第2の超電導のコイルの直径より大きいものでありうる。
ある実施形態において、放射線治療ビームは、第1の半導体コイルの対の間を通るように構成されることができる。
ある実施形態において、第1及び第2の環状セクションは、それらの中に配置される極低温流体の対応する第1及び第2の環状ボリュームを有することができ、第3の環状セクションは、その中に配置される極低温流体の第3の環状ボリュームを有することができ、第1の方向に対し垂直な平面における第3の環状ボリュームの環状深さは、第1の環状ボリュームの環状深さ及び第2の環状ボリュームの環状深さより小さいものでありうる。
ある実施形態において、装置は、第1及び第2の環状セクションの間に第1の方向に延在する管状構造を有することができる。
本発明の別の見地は、クライオスタット用チャンバを提供することができる。チャンバは、第1の方向に沿って互いに隔てられ及び間隔を置かれた第1及び第2の環状セクション、並びに第1及び第2の環状セクションの間に第1の方向に延在し、第1及び第2の環状セクションを互いに接続する第3の環状セクションを有する。第1及び第2の環状セクションは、対応する第1及び第2の内部ボリュームを規定することができ、第3の環状セクションは、第3の内部ボリュームを規定することができ、第3の内部ボリュームは、第1の内部ボリュームより実質的に小さく、第2の内部ボリュームより実質的に小さいものでありうる。
ある実施形態において、第1及び第2の環状セクションは、それらの中に配置される極低温流体の対応する第1及び第2の環状ボリュームを有することができ、第3の環状セクションは、その中に配置される極低温流体の第3の環状ボリュームを有することができ、第1の方向に対し垂直な平面における第3のボリュームの平均環状深さは、第1のボリュームの平均環状の深さ及び第2のボリュームの平均環状深さより小さいものでありうる。
ある実施形態において、極低温流体は、液体ヘリウムを含むことができる。
ある実施形態において、極低温流体は、気体ヘリウムを含むことができる。
ある実施形態において、第1の内部ボリューム及び第2の内部ボリュームの各々は、第3の内部ボリュームの10倍でありうる。
ある実施形態において、第1の内部ボリューム及び第2の内部ボリュームの各々は、第3の内部ボリュームの100倍でありうる。
ある実施形態において、チャンバは、第1及び第2の環状セクションに配置される複数の超電導コイルを有することができる。超電導コイルは、第1の半導体コイル及び第2の半導体コイルを少なくとも有することができ、第1の超電導コイルは、第2の超電導コイルと比べて、第3の環状セクションのより近くに配置されることができ、第1の超電導コイルの直径は、第2の超電導コイルの直径より大きいものでありうる。
ある実施形態において、第1の環状セクションの内部幅及び第3の環状セクションの内部幅の各々は、第2の環状セクションの内部幅の10倍より大きいものでありうる。
ある実施形態において、第1の環状セクションの内部幅及び第3の環状セクションの内部幅の各々は、第2の環状セクションの内部幅の30倍よりも大きいものでありうる。
本発明の更に別の見地は、クライオスタット用チャンバを提供することができる。チャンバは、第1の方向に沿って互いに隔てられ及び間隔を置かれた第1及び第2の環状セクション、並びに第1及び第2の環状セクション間に第1の方向に延在し、第1及び第2のセクションを互いに接続する第3の環状セクションを有することができる。第1及び第2の環状セクションは、それらの中に配置される極低温流体の対応する第1及び第2の環状ボリュームを有することができる。第3の環状セクションは、その中に配置される極低温流体の第3の環状ボリュームを有することができる。第1の方向に対し垂直な平面における第3の環状ボリュームの平均環状深さは、第1の環状ボリュームの平均環状深さ及び第2の環状ボリュームの平均環状深さより小さくてもよい。
ある実施形態において、チャンバは、第1及び第2の環状セクションに配置される複数の超電導コイルを有することができる。超電導コイルは、第1の半導体コイル及び第2の半導体コイルを少なくとも有することができ、第1の超電導コイルは、第2の超電導コイルと比べて、第3の環状セクションのより近くに配置され、第1の超電導コイルの直径は、第2の超電導コイルの直径より大きい。
ある実施形態において、第1の方向に対し垂直な平面における第1の環状セクションの内部幅及び第1の方向に対し垂直な平面における第2の環状セクションの内部幅の各々は、第1の方向に対し垂直な平面における第3の環状セクションの内部幅の10倍以上でありうる。
ある実施形態において、第1の方向に対し垂直な平面における第1の環状セクションの内部幅及び第1の方向に対し垂直な平面における第2の環状セクションの内部幅の各々は、第1の方向に対し垂直な平面における第3の環状セクションの内部幅の30倍以上でありうる。
本発明は、添付の図面に関連して考えられる以下の例示的な実施形態の詳細な説明からより容易に理解される。
磁気共鳴(MR)イメージャの例示的な実施形態を示す図。 組み合わされた磁気共鳴イメージャ及び放射線治療装置の断面図を示す図。 磁気共鳴イメージャ及び放射線治療装置を組み合わせる際に生じうる1又は複数の問題を示す図。 図3に示される1又は複数の問題を解決することができる組み合わされた磁気共鳴イメージング及び放射線治療のための装置の実施形態の断面図。 組み合わされた磁気共鳴イメージング及び放射線治療のための装置の実施形態の他の断面図。 組み合わされた磁気共鳴イメージング及び放射線治療のための装置の実施形態の他の断面図。
本発明は、本発明の実施形態が図示される添付の図面を参照してここにより詳しく記述される。しかしながら、本発明は、さまざまな異なる形式で具体化されることができ、ここに示される実施形態に制限されるものとして解釈されるべきでない。むしろ、これらの実施形態は、本発明の例を教示するものとして提供される。本開示及び請求項において、あるものが或る特定の値をおおよそ有するものとして示されるとき、それは、その値の10%以内であることを意味し、あるものが略特定の値を有するものとして示されるとき、それはその値の25%以内であることを意味する。あるものが実質的により大きいと示される場合、それは、少なくとも10%より大きいことを意味し、あるものが実質的により少ないと示される場合、それは、少なくとも10%より少ないことを意味する。
図1は、磁気共鳴(MR)イメージャ100の例示的な実施形態を示す。MRイメージャ100は、磁石102と、患者10を保持するように構成される患者テーブル104と、MRイメージャ100が画像を生成する患者10の少なくとも一部を囲むように構成される勾配コイル106と、イメージングされている患者10の少なくとも一部に無線周波数信号を印加し、磁界のアライメントを変更するように構成される無線周波数コイル108と、無線周波数信号によってもたらされる磁界の変化を検出するように構成されるスキャナ110と、を有する。
MRイメージャの一般的な動作は、良く知られており、従ってここでは繰り返されない。
図2は、組み合わされた磁気共鳴(MR)イメージャ及び放射線治療装置200の断面図を示す。装置200は、銃セクション210を有する放射線源と、放射線治療ビーム215を生成する線形加速器212とを有する。ある実施形態において、放射線源は、マルチリーフコリメータを有することもできる。装置200は更に、クライオスタット220を具備するMRイメージャを有し、クライオスタット220は、超電導磁石(図示せず)と超電導磁石を冷却する極低温流体とを有する。説明を簡単にするために、MRイメージャの、例えば勾配コイル、RFコイル等のいくつかのコンポーネントは、図2から省かれている。クライオスタット220は、外壁221及び内側ボア227を有する。MRイメージャは、患者10を保持するように構成される患者テーブル104でその中に配置される内側ボア229を有する。装置200は、フロア20内に又はフロア上に載置されることができる。
動作中、MRイメージャは、患者10の又は患者10の少なくとも関心領域12のMR画像を生成することができる。例えば、関心領域12は、放射線治療ビーム215で処置されるべき病変組織を有することができる。一方、放射線治療ビーム215は、フォーカスされる放射線線量を関心領域12に供給するために、図2に示されるようにY−Z平面内において患者10の周りを回転されることができる。装置200は、健康組織に対する損傷を低減しつつ病変組織のより正確な処置を提供するために、MRイメージングの診断空間特定性を放射線治療ビームフォーカス技術と組み合わせることができる。リアルタイムイメージング及び放射線治療を組み合わせることによって、解剖学的構造の日々の変化だけでなく呼吸のような身体運動をもリアルタイムに補償するビーム成形が、実施されることができ、それにより放射線治療ビームのより正確な供給を生成する。
図3は、磁気共鳴(MR)イメージャ及び放射線治療装置を組み合わせる際に生じる1又は複数の問題を概略的に示す。図3は、放射線治療ビーム315を生成する放射線源310、及びMRイメージャのクライオスタット320を示し、放射線治療ビーム315は、例えば放射線治療ビーム315で処置されるべき患者の病変組織のような関心領域12に到達するために、クライオスタットを通り抜けなければならない。説明を簡単にするために、例えば勾配コイル、RFコイル等のMRイメージャのコンポーネントは、図3から省かれている。
クライオスタット320は、真空領域321によって囲まれる又は実質的に(すなわち少なくとも90%は)囲まれる内側チャンバ322を有する。内側チャンバ322の内部には、超電導コイル328と極低温流体323とを有する超電導磁石が配置される。ある実施形態において、極低温流体323は、液体ヘリウムを含みうる。ある実施形態において、ヘリウムガスの極低温流体が、クライオスタット320の内側チャンバ322内に配置されることもできる。更に、内側チャンバ322内には、シールドコイル318が配置される。ある実施形態において、シールドコイル318は、クライオスタット320内に配置されなくてもよい。
動作中で、MRイメージャは、患者又は患者の少なくとも関心領域12のMR画像を生成することができる。例えば、関心領域12は、放射線治療ビーム315で処置されるべき病変組織を有しうる。一方、放射線源310は、放射線治療ビーム315を関心領域12の周りで回転させて、関心領域12に対しフォーカスされた放射線線量を提供するように、図3に示されるように関心領域12の周りをY−Z平面内で回転することができる。
図3に示されるように、放射線治療ビーム315は、関心領域12に到達するために極低温流体323の一部を通過しなければならない。放射線治療ビーム315は、それが極低温流体323(例えば液体ヘリウム)を通過する際に減衰し、減衰の量は、放射線治療ビーム315が通過する極低温流体323のボリューム又は深さの関数である。
前述したように、放射線治療ビーム315は、放射線治療ビーム315によって供給されるエネルギーの大きさ及びロケーションが正確に制御されることができるように、制御された及び知られた態様でMRイメージャ又はスキャナを通過するべきである。更に、放射線治療ビームの減衰係数は、さまざまな角度位置で一定であるべきであり、最小であるように維持されるべきである。
しかしながら、超電導磁石システムの維持及び動作中、ある量の極低温流体323(例えば液体ヘリウム)はボイルオフし、従ってボリューム又は深さが変化し、それによって放射線治療ビーム315の減衰を変えることが通常である。更に、クライオスタット320の内側チャンバ322が極低温流体323(例えば液体ヘリウム)で完全には満たされない場合、放射線治療ビーム315が通過しなければならない極低温流体323(例えば液体ヘリウム)の量は、Y−Z平面における角度位置の関数でもありえ、放射線治療ビーム315の減衰もまた、Y−Z平面における角度位置の関数でありうる。従って、一定のレベルを有するように及び特にさまざまな角度位置で一定であるように放射線治療ビーム315を正確に制御することは困難でありうる。
更に、図3に示されるように、超電導コイル328のいくつかは、関心領域12に到達する放射線治療ビーム315の経路に配置される。更に、これらの超電導コイル328は、正確なMR画像を生成するために重要である磁界の一様性を破壊することなく単純に除去されることができない。
図4は、図3に示される1又は複数の問題を解決することができる組み合わされた磁気共鳴イメージング及び放射線治療の装置400の実施形態の断面図を示す。装置400は更に、放射線源410と、クライオスタット420を具備するMRイメージャと、を有する。説明を簡単にするために、例えば勾配コイル、RFコイル等のMRイメージャのコンポーネントは、図4から省かれている。
放射線源410は、図4に示されるように線形加速器及びマルチリーフコリメータを有し、放射線治療ビーム415を生成することができる。
クライオスタット420は、真空領域421によって囲まれる又は実質的に(すなわち少なくとも90%を)囲まれる内側チャンバ422を有する。内側チャンバ422は、X方向(「第1の方向」)に沿って互いに隔てられ及び間隔を置かれた第1の環状セクション4221及び第2の環状セクション4222と、第1及び第2の環状セクション4221、4222の間にX方向に延在し、第1及び第2の環状セクション4221、4222を互いに接続する第3の又は中央の環状セクション4223と、有する。
内側チャンバ422は、装置400が動作しているとき、極低温流体423のボリュームをその中に保持するように構成される。ある実施形態において、極低温流体423は、液体ヘリウムを含むことができる。ある実施形態において、ヘリウムガスの極低温流体が、クライオスタット420の内側チャンバ422内に配置されることもできる。
有利には、第3の環状のセクション4223は、第1及び第2の環状のセクション4221、4222の各々がそれらの中に保持するよりも実質的に小さいボリュームの極低温流体423をその中に保持するように構成されることができる。ある実施形態において、第1及び第2の環状セクション4221、4222の一方又は両方は、第3の環状セクション4223がその中に保持する極低温流体423のボリュームより少なくとも100倍大きい極低温流体423のボリュームをその中に保持することができる。ある実施形態において、第1及び第2の環状のセクション4221、4222の一方又は両方は、第3の環状セクション4223がその中に保持する極低温流体423のボリュームより1000倍大きい極低温流体423のボリュームをその中に保持することができる。
特に、ある実施形態において、Y−Z平面(すなわちX方向に対し垂直な平面)における第3の環状セクション4223内の極低温流体423の平均の環状深さは、第1及び第2の環状セクション4221、4222の一方又は両方の極低温流体423の平均環状深さより実質的に小さいものでありうる。ある実施形態において、第3の環状セクション4223の極低温流体423の平均環状深さは、第1及び第2の環状セクション4221、4222の一方又は両方の極低温流体423の平均環状深さの約10%より小さいものでありうる。ある実施形態において、第3の環状セクション4223の極低温流体423の平均環状深さは、第1及び第2の環状のセクション4221、4222の一方又は両方の極低温流体423の平均環状深さの約3%でありうる。
この点に関して、図4に示すように、第1の環状セクション4221は第1の内部ボリュームを規定し、第2の環状セクション4222は第2の内部ボリュームを規定し、第3の環状セクション4223は第3の内部ボリュームを規定する。ある実施形態において、第1の環状セクション4221によって規定される第1の内部ボリューム及び第2の環状セクション4222によって規定される第2の内部ボリュームの一方又は両方は、第3の環状セクション4223によって規定される第3の内部ボリュームより少なくとも100倍大きいものでありうる。ある実施形態において、第1の環状セクション4221によって規定される第1の内部ボリューム及び第2の環状セクション4222によって規定される第2の内部ボリュームの一方又は両方は、第3の環状セクション4223によって規定される第3の内部ボリュームより少なくとも1000倍大きくてもよい。
これを達成するために、第1、第2及び第3の環状セクション4221、4222及び4223の内側チャンバ422の内部寸法の相対サイズは、例えば図4に示されるように比率が調整されることができる。特に、図4に示されるような一実施形態において、X方向に対して垂直なY−Z平面における第3の環状セクション4223の内部幅W3は、Y−Z平面における第1の環状セクション4221の内部幅W1及びの第2の環状セクション4222の内部幅W2より小さい。ここで、内部幅は、内側チャンバ422の内部断面寸法を意味するものとして理解され、従って内側チャンバ422の壁の厚さを除外する。
図5Aは、図4のラインI−I'に沿った断面図であり、第2の環状セクション4222のY−Z平面における断面の例を示す。図5Bは、図4のラインII−II'に沿った断面図であり、装置400の一実施形態に関する第3の環状セクション4223のY−Z平面における断面の例を示す。ある実施形態において、第1の環状セクション4221のY−Z平面における断面は、第2の環状セクション4222のY−Z平面における断面と同様でありえ、説明の簡潔さのために、以下の議論においてこれが当てはまるものとみなされる。しかしながら、概してこれは必要とされないことが理解されるべきである。
図4及び図5Aに示すように、第1及び第2の環状のセクション4221、4222は、実質的に円形の外側表面4221a及び実質的に円形の内側表面4221bによって部分的に規定される。図4及び図5Aは、内側表面4221b及び外側表面4221aが実質的に円形である一実施形態を示しているが、他の実施形態において、それらは、卵形又は矩形の例のように他の形状をとることもでき、それらは、互いに異なる形状を有してもよい。図5Bに示すように、第3の環状セクション4223は、実質的に円形の外側表面4223a及び実質的に円形の内側表面4223bによって部分的に規定される。図5Bは、内側表面4223b及び外側表面4222aが実質的に円形である実施形態を示しているが、他の実施形態において、それらは、卵形又は矩形の例のような他の形状をとることができ、それらは、互いに異なる形状を有することができる。すなわち、第1及び第2の環状セクション4221、4222及び4223は、円形リング、卵形リング、矩形リングの形状又は他のリング形状をとることができる。
図4及び図5A−図5Bの実施形態は、第3の環状セクション4223を、第1及び第2の環状セクション4221、4222を互いに接続する単一通路として示しているが、放射線治療ビーム415が通過する極低温流体のレベルが維持される限り、第1及び第2の環状セクション4221、4222を接続する多重通路を含む他の実施形態も企図される。
図4に示されるように、クライオスタットの内側チャンバ422は、中央の環状セクション4223のところでその外側表面に深さD1の第1のノッチを有し、中央の環状セクション4223のところでその内側表面に深さD2の第2のノッチを有することが理解される。図4、図5A及び図5Bに示されるように、深さD1及びD2は互いに等しいが、ある実施形態において、深さD1及びD2は互いに異なっていてもよい。ある実施形態において、深さD1又は深さD2はゼロ又は実質的にゼロでありうる。
有利には、第3又は中央の環状セクション4223の内部幅W3は、構造的整合性を提供するとともに、例えば熱平衡を維持することができるように第1及び第2の環状セクション4221、4222の間の極低温流体423の交換によって内側チャンバ422の第1及び第2の環状セクション4221、4222の間の熱伝達を可能にしつつ、可能な限り薄く作られることができる。ある実施形態において、内部幅W3は5mmより大きい。
ある実施形態において、第1の環状セクション4221の内部幅W1及び第2の環状セクション4222の内部幅W2の一方又は両方は、第3の環状セクション4223の内部幅の10倍より大きいものでありうる。例えば、ある実施形態において、内部幅W1及びW2は各々500mmでありえ、内部幅W3は50mmより小さいものでありうる。
ある実施形態において、第1の環状セクション4221の内部幅W1及び第2の環状セクション4222の内部幅W2の一方又は両方は、第3の環状セクション4223の内部幅の30倍より大きいものでありうる。例えば、ある実施形態において、内部幅W1及びW2の各々は、約500mm又はおよそ500mmでありえ、内部幅W3は、約15mm又はおよそ15mmでありうる。
第1及び第2の環状セクション4221、4222は、第1又は中央の超電導コイル428a及び第2の超電導コイル428bを含むその中に配置される複数の超電導コイルを有する。ある実施形態において、超電導コイルは、第3又は中央の環状セクション4223内に配置されない。更に、内側チャンバ422の第1及び第2の環状のセクション4221、4222内には、シールドコイル418が配置される。ある実施形態において、シールドコイル418は、クライオスタット420内に配置されなくてもよい。
有利な装置において、図4に示すように、第1又は中央の超電導コイル428aは、第2の超電導コイル428bと比べて、第3の環状セクション4223のより近くに配置されることができ、第1又は中央の超電導コイル428aの直径は、第1及び第2の環状セクション4221、4222の対向する端部に位置する第2の超電導コイル428bの直径より大きくてもよい。第1又は中央の超電導コイル428aは、装置400において、放射線治療ビーム415の経路外にあるべきであるので、それらは、図3に図示される装置と比較してずっと離されて分かれており、その間を放射線治療ビーム415が通ることを可能にする。しかしながら、例えば第1及び第2の環状のセクション4221、4222の対向する端部に位置する第2の超電導コイル428bに対して、第1又は中央の超電導コイル428aの半径/直径を増大することによって、適切なMRイメージングのために一様な磁界を維持することが可能になりうる。
更に、第1及び第2の環状セクション4221及び4222の間にX方向に延在する管状構造425が、図4に示されている。管状構造425は、第1及び第2の環状セクション4221及び4222間で、ガス(例えばヘリウムガス)及び/又は1又は複数の電気ワイヤ及び/又は他の構造コンポーネントを通すことができる。ある実施形態において、管状構造425は、約5mmの幅又は断面を有することができる。
動作中、MRイメージャは、患者又は患者の少なくとも関心領域12のMR画像を生成することができる。例えば、関心領域12は、放射線治療ビーム415で処置されるべき病変組織を含むことができる。一方、放射線源410は、放射線治療ビーム415が関心領域12の周りを回転されることによりフォーカスされた放射線量を関心領域12に提供するように、関心領域12の周りを図4に示されるY−Z平面において(図5Aに示されるR方向において)回転することができる。
図4に示されるように、放射線治療ビーム415は、クライオスタット420の内側チャンバ422の第3又は中央の環状領域4223を通過して、関心領域12に到達する。従って、放射線治療ビーム415は、第3又は中央の環状領域4223の極低温流体423(例えば液体ヘリウム)の相対的に薄いボリューム又は環状深さを通過し、その一方、極低温流体423(例えば液体ヘリウム)の相対的に大きいボリューム又は環状深さが、超電導コイル428a、428bを含み冷却する相互接続された第1及び第2の環状領域4221及び4222にある。有利には、内側チャンバ422の第3又は中央の環状領域4223は、放射線治療ビーム415の経路に、極低温流体423(例えば液体ヘリウム)の十分に薄い環状ボリュームを有し、従って、極低温流体423(例えば液体ヘリウム)のレベル変化が、患者10の関心領域12に印加される放射線線量に大きな影響を及ぼさない。一方、放射線治療ビーム415が通過しない第1及び第2の環状領域4221及び4222の極低温流体423(例えば液体ヘリウム)の相対的に大きいボリュームは、クライオスタット420の維持及び動作のための熱リザーバを提供する。有利には、第3又は中央の環状領域4223(すなわち第3又は中央の環状領域4223の内部幅W3)は、第1及び第2の環状領域4221と4222の間の熱伝達を可能にし、製造許容差を与え、及び放射線治療ビーム415がY−Z平面内で回転されるとき放射線治療ビーム415の吸収及び角度変化を低減するように、サイズ設計される。更に、真空領域421内に内側壁4221b及び外側壁4221aからの真空凹部(すなわち図4に示される深さD1及びD2)を提供することは、第1又は中央の超電導コイル428aが第1及び第2の環状領域4221及び4222の対向する端部に位置する超電導コイル428bより大きい直径/半径を有することを可能にする機械的構造を、自然に生成することができる。接続される第3又は中央の環状領域4223によって、内側チャンバ422の第1及び第2の環状領域4221の4222の間の熱伝達を提供することによって、例えば2つの別個の及び熱的に分離された内側チャンバを含むクライオスタットと比べて、クライオスタット420の設計及び構造が簡略化されることができる。
好適な実施形態がここに開示されているが、本発明の概念及び範囲内に入る多くの変更例が可能である。このような変更例は、明細書、図面及び特許請求の範囲を吟味した後、当業者には明らかになる。従って、本発明は、添付の請求項の範囲内にあることを除いて制限されるべきでない。

Claims (20)

  1. 放射線治療ビームを生成する放射線源と、
    磁気共鳴イメージャと、を有する装置であって、
    前記磁気共鳴イメージャは、クライオスタットを有し、
    前記クライオスタットは、内側チャンバと、前記内側チャンバを実質的に囲む真空領域と、を有し、
    前記内側チャンバは、
    第1の方向に沿って互いに隔てられ及び間隔を置かれた第1及び第2の環状セクションと、
    前記第1及び前記第2の環状セクションの間に前記第1の方向に延在し、前記第1及び前記第2の環状セクションを互いに接続する第3の環状セクションと、を有し、
    前記第1の方向に対し垂直な平面における前記第3の環状セクションの内部幅が、前記第1の環状セクションの内部幅及び前記第2の環状セクションの内部幅より小さく、
    前記放射線治療ビームが、前記クライオスタットの前記第3の環状セクションを通過するように構成される、装置。
  2. 前記放射線源が線形加速器を有する、請求項1に記載の装置。
  3. 前記放射線源がマルチリーフコリメータを有する、請求項1に記載の装置。
  4. 前記第1及び前記第2の環状セクションに配される複数の超電導コイルを更に有し、
    前記超電導コイルは、第1の超電導コイルの対及び第2の超電導コイルの対を少なくとも有し、
    前記第1の超電導コイルは、前記第2の超電導のコイルと比べて、前記第3の環状セクションのより近くに配され、
    前記第1の超電導コイルの各々の直径は、前記第2の超電導のコイルの各々の直径より大きい、請求項1に記載の装置。
  5. 前記放射線治療ビームは、前記第1の超電導コイルの対の間を通るように構成される、請求項4に記載の装置。
  6. 前記第1及び前記第2の環状セクションは、それらの中に配置される極低温流体の対応する第1及び第2の環状ボリュームを有し、
    前記第3の環状セクションは、その中に配置される極低温流体の第3の環状ボリュームを有し、
    前記第1の方向に対し垂直な平面における前記第3の環状ボリュームの環状深さは、前記第1の環状ボリュームの環状深さ及び前記第2の環状ボリュームの環状深さより小さい、請求項1に記載の装置。
  7. 前記第1及び前記第2の環状セクションの間に前記第1の方向に延在する管状構造を更に有する、請求項1に記載の装置。
  8. クライオスタット用のチャンバであって、
    第1の方向に沿って互いに隔てられ及び間隔を置かれた第1及び第2の環状セクションと、
    前記第1及び前記第2の環状セクションの間に前記第1の方向に延在し、前記第1及び前記第2の環状セクションを互いに接続する第3の環状セクションと、を有し、
    前記第1及び前記第2の環状セクションは、対応する第1及び第2の内部ボリュームを規定し、
    前記第3の環状セクションは、第3の内部ボリュームを規定し、
    前記第3の内部ボリュームは、前記第1の内部ボリュームより実質的に小さく、第2の内部ボリュームより実質的に小さい、チャンバ。
  9. 前記第1及び第2の環状セクションは、それらの中に配置される極低温流体の対応する第1及び第2の環状ボリュームを有し、
    前記第3の環状セクションは、その中に配置される極低温流体の第3の環状ボリュームを有し、
    前記第1の方向に対し垂直な平面における前記第3のボリュームの平均環状深さは、前記第1の環状ボリュームの平均環状深さ及び前記第2の環状ボリュームの平均環状深さより小さい、請求項8に記載のチャンバ。
  10. 前記極低温流体が液体ヘリウムを有する、請求項9に記載のチャンバ。
  11. 前記極低温流体が気体ヘリウムを有する、請求項9に記載のチャンバ。
  12. 前記第1の内部ボリューム及び前記第2の内部ボリュームの各々は、前記第3の内部ボリュームの10倍である、請求項8に記載のチャンバ。
  13. 前記第1の内部ボリューム及び前記第2の内部ボリュームの各々は、前記第3の内部ボリュームの100倍である、請求項8に記載のチャンバ。
  14. 前記第1及び前記第2の環状セクションに配される複数の超電導コイルを更に有し、
    前記超電導コイルは、第1の超電導コイル及び第2の超電導コイルを少なくとも有し、
    前記第1の超電導コイルは、前記第2の超電導コイルと比べて、前記第3の環状セクションのより近くに配され、
    前記第1の超電導コイルの直径は、前記第2の超電導コイルの直径より大きい、請求項8に記載のチャンバ。
  15. 前記第1の環状セクションの内部幅及び前記第2の環状セクションの内部幅の各々は、前記第3の環状セクションの内部幅の10倍より大きい、請求項8に記載のチャンバ。
  16. 前記第1の環状セクションの内部幅及び前記第2の環状セクションの内部幅の各々は、前記第3の環状セクションの内部幅の30倍より大きい、請求項8に記載のチャンバ。
  17. クライオスタット用のチャンバであって、
    第1の方向に沿って互いに隔てられ及び間隔を置かれた第1及び第2の環状セクションであって、それらの中に配置される極低温流体の対応する第1及び第2の環状ボリュームを有する第1及び第2の環状セクションと、
    前記第1及び前記第2の環状セクションの間に前記第1の方向に延在し、前記第1及び前記第2のセクションを互いに接続する第3の環状セクションであって、その中に配置される極低温流体の第3の環状ボリュームを有する第3の環状セクションと、を有し、
    前記第1の方向に対し垂直な平面における前記第3の環状ボリュームの平均環状深さが、前記第1の環状ボリュームの平均環状深さ及び前記第2の環状ボリュームの平均環状深さより小さい、チャンバ。
  18. 前記第1及び第2の環状セクションに配される複数の超電導コイルを更に有し、
    前記超電導コイルは、第1の超電導コイル及び第2の超電導コイルを少なくとも有し、
    前記第1の超電導コイルは、前記第2の超電導コイルと比べて、前記第3の環状セクションのより近くに配され、
    前記第1の超電導コイルの直径は、前記第2の超電導コイルの直径より大きい、請求項17に記載のチャンバ。
  19. 前記第1の方向に対し垂直な平面における前記第1の環状セクションの内部幅及び前記第1の方向に対し垂直な平面における前記第2の環状セクションの内部幅の各々は、前記第1の方向に対し垂直な平面における前記第3の環状セクションの内部幅の10倍より大きい、請求項17に記載のチャンバ。
  20. 前記第1の方向に対し垂直な平面における前記第1の環状セクションの内部幅及び前記第1の方向に対し垂直な平面における前記第2の環状セクションの内部幅の各々は、前記第1の方向に対し垂直な平面における前記第3の環状セクションの内部幅の30倍より大きい、請求項17に記載のチャンバ。
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