JP2016217925A - ガスセンサ及び情報処理システム - Google Patents

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Abstract

【課題】肺癌等の検査に用いることができる程度に、高感度でアルデヒドを検知でき、かつ、高い選択比を持って他の物質と区別可能なガスセンサを提供する。
【解決手段】ガスセンサを、検知対象ガスと接触する側の表面が3級アミン2で被覆されているp型半導体層3と、p型半導体層を介して電気的に接続される2つの電極4、5とを備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、ガスセンサ及び情報処理システムに関する。
従来から、人の呼気や尿の匂いから、その人の健康状態に関する有益な情報が得られることが知られている。
そして、人の呼気をガスセンサで検知し、疾病を自覚症状のない初期段階で発見するための研究開発が行なわれている。
例えば、呼気中の特定の化学物質に注目し、これをガスセンサで検知することで、疾病罹患の有無を判定する方法が検討されている。
特に、アルデヒドを、高感度で検知でき、かつ、高い選択比を持って他の物質と区別可能なガスセンサを実現することができれば、例えば肺癌等の検査に用いることが可能になる。
なお、室内の揮発性有機化合物の濃度をモニタリングするためのセンサとして、酸化モリブデンを主成分とする無機化合物の層の間に、ポリナフチルアミン、ポリアミノアントラセン又はこれらの誘導体を主成分とする有機高分子が挿入された導電性の有機無機ハイブリッド材料を用い、ホルムアルデヒドよりもアセトアルデヒドを優先的に検知しうるガスセンサが提案されている。また、野菜等の新鮮度を検知するためのガスセンサとして、酸化スズ等の金属酸化物を用い、アルデヒド類を検知しうるガスセンサも提案されている。
特開2009−19934号公報 特開2004−77458号公報 特開2001−289809号公報
しかしながら、例えば肺癌等の検査に用いることができる程度に、高感度でアルデヒドを検知でき、かつ、高い選択比を持って他の物質と区別可能なガスセンサは実現できていない。
そこで、例えば肺癌等の検査に用いることができる程度に、高感度でアルデヒドを検知でき、かつ、高い選択比を持って他の物質と区別可能なガスセンサ及びこれを用いた情報処理システムを実現したい。
本ガスセンサは、検知対象ガスと接触する側の表面が3級アミンで被覆されているp型半導体層と、p型半導体層を介して電気的に接続される2つの電極とを備える。
本情報処理システムは、上述のガスセンサと、ガスセンサによって得られたデータを処理するコンピュータとを備える。
したがって、本ガスセンサ及び情報処理システムによれば、例えば肺癌等の検査に用いることができる程度に、高感度でアルデヒドを検知でき、かつ、高い選択比を持って他の物質と区別可能なガスセンサ及びこれを用いた情報処理システムを実現することができるという利点がある。
本実施形態にかかるガスセンサに備えられるガスセンサデバイスの構成を示す模式的断面図である。 本実施形態にかかるガスセンサに備えられるガスセンサデバイスの感応層を、表面が3級アミンで被覆されているCuBr層とした場合の検知対象ガスと接触する側の表面近傍領域を示す模式図である。 本実施形態にかかるガスセンサに備えられるガスセンサデバイスの感応層を、表面が3級アミンで被覆されているCuBr層とした場合に、感応層の表面にアルデヒド分子が接近した様子を示す模式図である。 本実施形態にかかるガスセンサに備えられるガスセンサデバイスの感応層を、表面が3級アミンで被覆されているCuBr層とした場合に、感応層の表面に付着したアルデヒド分子が、感応層の表面に存在するアミンのアミノ基と相互作用して、一時的に分極構造を形成する様子を示す模式図である。 実施例のガスセンサデバイスを、濃度約300ppbのアンモニアを含む窒素流に暴露した場合の電気抵抗の変化率の時間変化を示す図である。 実施例のガスセンサデバイスを、濃度約300ppbのアセトアルデヒドを含む窒素流に暴露した場合の電気抵抗の変化率の時間変化を示す図である。 実施例のガスセンサデバイスを、濃度約200ppbのノナナールを含む窒素流に暴露した場合の電気抵抗の変化率の時間変化を示す図である。 実施例のガスセンサのアンモニア、ノナナール、アセトアルデヒド、アセトン、エタノールに対する応答を、ノナナールに対する応答を基準として、各ガス種の濃度で規格化して、ノナナールに対する応答に対する比(選択比)を求めた結果を示す図である。 比較例のガスセンサを、濃度約300ppbのアンモニアを含む窒素流に暴露した場合の電気抵抗の変化率の時間変化を示す図である。 実施例のガスセンサを、濃度300ppbのアセトアルデヒドを含む窒素流に暴露した場合の電気抵抗の変化率の時間変化を示す図である。 比較例のガスセンサのアンモニア、アセトアルデヒド、エタノールに対する応答を、アンモニアに対する応答を基準として、各ガス種の濃度で規格化して、アンモニアに対する応答に対する比(選択比)を求めた結果を示す図である。 本実施形態にかかる情報処理システムの構成例を示す模式図である。 本実施形態にかかる情報処理システムの構成例を示す模式図である。
以下、図面により、本発明の実施の形態にかかるガスセンサ及び情報処理システムについて、図1〜図13を参照しながら説明する。
本実施形態にかかるガスセンサは、大気中の化学物質を検知するガスセンサ、特に、人の呼気に含まれ、健康状態を反映する化学物質であるアルデヒド(例えばアセトアルデヒドやノナナールなど;アルデヒド類)を検知するガスセンサであって、室温動作が可能で、例えば肺癌等の検査に用いることができる。なお、このガスセンサをアルデヒドガスセンサともいう。
本実施形態のガスセンサは、図1に示すように、ガスセンサデバイス1を備え、このガスセンサデバイス1は、検知対象ガスと接触する側の表面が3級アミン(3級アミン層)2で被覆されているp型半導体層3と、p型半導体層3を介して電気的に接続される2つの電極4、5とを備える。ここでは、検知対象ガスは、人の呼気であり、アルデヒドを含むガスである。なお、検知対象ガスを測定対象ガスともいう。
ここで、表面が3級アミン2で被覆されているp型半導体層3は、アミン分子中のアミノ基と強く相互作用するものであることが好ましい。ここで、銅又は銀を含む化合物は、これらの金属のイオンがアミノ基との間に強い配位結合を形成する。このため、p型半導体層3は、銅又は銀を含む化合物であるp型半導体材料で形成されているものとするのが好ましい。つまり、p型半導体層3は、銅又は銀を含むものとするのが好ましい。
具体的には、p型半導体層3は、銅又は銀を含む化合物である臭化銅(I)(CuBr)、酸化銅(I)(CuO)、硫化銅(I)(CuS)、酸化銀(AgO)、臭化銀(AgBr)、硫化銀(AgS)からなる群から選ばれるいずれか一種を含むp型半導体材料からなるものとするのが好ましい。つまり、p型半導体層3は、臭化第一銅、酸化第一銅、硫化第一銅、酸化銀、臭化銀、硫化銀からなる群から選ばれるいずれか一種を含むものとするのが好ましい。
また、3級アミン2は、アミノ基の窒素原子に結合する原子団が全てアルキル基であることが好ましい。つまり、例えば肺癌のマーカーとなりうるアルデヒド、例えば、カルボニル基の炭素原子に水素原子とアルキル基が結合したアルデヒドを検知するには、3級アミン2は、アミノ基の窒素原子に結合する原子団が全てアルキル基であることが好ましい。これにより、アルデヒド、例えば肺癌のマーカーとなりうるアルデヒドに対して強い応答が得られるようにすることができる。
ここで、3級アミン2としては、例えばN,N−ジメチル−ヘキサデシルアミンなどを用いれば良い。
また、2つの電極4、5は、p型半導体層3の3級アミン2で被覆されている側の反対側に間隔をあけて設けられている。そして、少なくとも2つの電極4、5の間の領域(ギャップ)の上方の3級アミン2の表面に検知対象ガスが接触するように3級アミン2の表面が露出している。
ここでは、基板6の上方に(ここでは基板6の表面上に設けられた絶縁膜7上に)所定の間隔(ギャップ)をあけて2つの電極4、5(一対の電極)が設けられており、これらの電極間が導通するようにp型半導体層3が設けられており、このp型半導体層3の検知対象ガスと接触する側の表面が3級アミン2で被覆されている。そして、2つの電極4、5の間のギャップの上方を含む3級アミン2の表面に検知対象ガスが接触するように3級アミン2の表面が露出している。
なお、基板6の上方にp型半導体層3が設けられており、このp型半導体層3の上に、所定の間隔(ギャップ)をあけて2つの電極4、5(一対の電極)が設けられており、表面が3級アミン2で被覆されたp型半導体層3が、上記ギャップを通じて検知対象ガスと接触するように構成しても良い。
このように構成することで、表面が3級アミン2で被覆されているp型半導体層3にアルデヒド分子が吸着すると、その電気抵抗が変化することになる。このため、表面が3級アミン2で被覆されているp型半導体層3の電気抵抗の変化を検知することで、アルデヒドを検知できることになる。このように、本実施形態のガスセンサは、アルデヒド分子の吸着に起因する電気抵抗(電気特性)の変化に基づいてアルデヒドを検知するガスセンサである。
また、ガスセンサを、2つの電極4、5に接続され、表面が3級アミン2で被覆されているp型半導体層3の電気特性(ここでは電気抵抗)の変化を検知する検知部を備えるものとしても良い。
例えば、ガスセンサデバイス1の2つの電極4、5を、それぞれ、配線を介して、検知部としての回路(例えばトランジスタを含む回路)に接続し、この回路で、表面が3級アミン2で被覆されているp型半導体層3の電気特性(ここでは電気抵抗)の変化を検知するようにすれば良い。なお、検知部としての回路は、配線を介して、2つの電極4、5のそれぞれに接続されていれば良く、例えば、回路及び配線が、基板6の表面上に設けられた絶縁膜7の中に設けられていても良いし、配線を介して接続された他の基板に回路が設けられていても良い。
上述のように、ガスセンサに備えられるガスセンサデバイス1の感応層(検知層)に、表面が3級アミン2で被覆されているp型半導体層3を用いることで、例えば肺癌等の検査に用いることができる程度に、高感度で、かつ、高い選択比を持って他の物質と区別して、アルデヒドを検知することが可能となる。
ここで、例えば、肺癌に関しては、炭素数が5から10のアルデヒドを指標物質として用いることができ、特に、炭素数が9であるノナナールがマーカー物質として好適であり、体積比率で約200ppbの濃度を閾値として、罹患の有無を判定可能であるとされている。
上述のように、ガスセンサに備えられるガスセンサデバイス1の感応層に、表面が3級アミン2で被覆されているp型半導体層3を用いることで、例えば約300ppbの濃度のアセトアルデヒドや約200ppbの濃度のノナナールを検知することが可能となる。つまり、肺癌の検査に適用可能な水準で、アセトアルデヒドやノナナールなどのアルデヒドを高感度に検知可能となる。
一方、ガスセンサに備えられるガスセンサデバイス1の感応層に、表面が3級アミン2で被覆されているp型半導体層3を用いる場合、アンモニアに対しては明瞭な応答が見られず、ケトン(例えばアセトン)やアルコール(例えばエタノール)に対しては応答が弱い。つまり、アルデヒドと、アンモニア、ケトン、アルコールとの間で応答性の差を大きくすることができる。このように、アルデヒド以外の化学物質、即ち、例えばアンモニア、ケトン(例えばアセトン)、アルコール(例えばエタノール)などの有機ガス(気体状有機化合物)に対しては感度が低いという高いガス種選択性を有する。
このように、ガスセンサに備えられるガスセンサデバイス1の感応層に、表面が3級アミン2で被覆されているp型半導体層3を用いることで、肺癌の検査に用いることができる程度に、高感度で、かつ、高い選択比を持って他の物質と区別して、アルデヒドを検知することが可能となる。つまり、気体状有機化合物の中のアルデヒドに対して特に強く応答する高感度なガスセンサを実現することができる。そして、このようなガスセンサを用いることで、簡便な肺癌検査装置を構成することが可能となり、呼気による肺癌の簡易検診(診断)を実現することが可能となる。
これに対し、従来技術の欄で挙げた、酸化モリブデンを主成分とする無機化合物の層の間にポリナフチルアミン等を主成分とする有機高分子が挿入された有機無機ハイブリッド材料を用いるガスセンサでは、400ppbの濃度のアセトアルデヒドに対して約5%の抵抗変化率を示すにすぎず、肺癌等の検査に用いるには感度が不十分である。
また、ガスセンサに備えられるガスセンサデバイス1の感応層は、電気特性(ここでは電気抵抗)の変化が大きいこと、さらに、ガスを検知した後に元の状態に戻り、かつ、その回復速度が速い(回復時間が短い)ことが望ましく、これらの点から、上述のように、感応層に、表面が3級アミン2で被覆されているp型半導体層3を用いるのが好ましい。例えば、感応層を構成するp型半導体層3の表面を被覆するのに3級アミン2を用いることで、1級アミンや2級アミンを用いる場合と比較して、ガスを検知する際の電気特性(ここでは電気抵抗)の変化が大きくなり、さらに、ガスを検知した後に元の状態に戻り、かつ、その回復速度を速くすることが可能となる。
以下、上述のように構成されるガスセンサにおいて、p型半導体層3の材料を臭化第一銅(CuBr)とした場合の動作原理について説明する。
まず、3級アミン2に含まれるアミノ基の窒素原子は、銅イオンとの間に配位結合を形成可能である。このため、図2に示すように、検知対象ガスと接触する側の表面近傍領域では、p型半導体層3としてのCuBr層の表面にアミノ基を向けた状態で3級アミン2が強く吸着する。
このような検知対象ガスと接触する側の表面に、図3に示すように、アルデヒド分子が接近し、付着すると、即ち、3級アミン2に含まれるアミノ基とアルデヒドが近接すると、図4に示すように、3級アミン2のアミノ基の窒素原子がアルデヒドのカルボニル基に対して求核攻撃を行ない、一時的に分極構造が形成される。
このような分極構造がp型半導体層3としてのCuBr層の表面に近接して存在すると、CuBr層3の表面近傍において、キャリアが局所電荷によってトラップされ、移動速度が下がる結果、電気抵抗が増大する。
このため、CuBr層3に電気的に接続された2つの電極4、5を介して、CuBr層3の電気抵抗の変化を測定することで、例えばアセトアルデヒドやノナナールなどのアルデヒドの濃度を測定することができる。
ところで、アミンとアルデヒドとの一時的な結合によって形成される分極構造と、p型半導体層3の表面との距離が近いほど、キャリアトラップの効果が大きくなる。このため、アミンに含まれるアミノ基は、p型半導体層3を構成する原子に結合可能であることが好ましい。そこで、上述のように、アミノ基が強固な配位結合を形成可能な陽イオンを構成要素として含む銅又は銀の化合物である半導体材料(ここではCuBr)を用いるのが好ましい。
また、基本的にどのようなアミンであっても、アルデヒドとは反応するが、アルデヒドは1級アミンとの反応で直ちにイミンに変化し、2級アミンとの反応では可逆的な付加体を形成する。これらの1級及び2級アミンから生成される物質は、3級アミン2とアルデヒドから得られる分極構造と比較して、分極モーメントが小さい上に、寿命が長い。このため、p型半導体層3の表面近傍におけるキャリアトラップによる抵抗の変化の点及び検知対象ガスとの接触が終了してからの回復速度の点で、3級アミン2が特に好適である。
さらに、3級アミン2は、アルデヒドと化学的性質が近いケトン(ケトン類)に対する求核攻撃能力が低いため、アルデヒドとケトンとの間で、デバイスの応答性の差を大きくすることができる。また、アミンには、アルコールの水酸基からプロトンを引き抜くことでアルコールとの間でイオン対を形成する能力があるが、このような変化は、上述の求核攻撃とは異なって、周囲に溶媒が存在しない場合には困難である。このため、ガスセンサとしてはアルコールに対する応答は弱くなる。さらに、3級アミン2は、アンモニアに対しては明瞭な応答が見られない。したがって、3級アミン2を用いることで、アルデヒド以外の化学物質、即ち、例えばアンモニア、ケトン(例えばアセトン)、アルコール(例えばエタノール)などの有機ガス(気体状有機化合物)に対しては感度が低いという高いガス種選択性を有するものとなる。つまり、3級アミン2を用いることで、気体状有機化合物のうち、特に、アルデヒドに強く応答する能力を有するガスセンサを実現することができる。
また、例えば、肺癌のマーカーとして有力視されるアルデヒドは、カルボニル基の炭素原子に水素原子とアルキル基が結合した構造をとるため、このアルデヒドに対して強い応答が得られるようにするためには、アミノ基の窒素原子に結合する原子団が全てアルキル基であるような3級アミン2を用いるのが好ましい。
したがって、本実施形態にかかるガスセンサによれば、例えば肺癌等の検査に用いることができる程度に、高感度でアルデヒドを検知でき、かつ、高い選択比を持って他の物質と区別可能なガスセンサを実現することができるという利点がある。
以下、実施例によって更に詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施例によって限定されるものではない。
本実施例では、まず、長さ約50mm、幅約10mmで、表面に厚さ約1μmの熱酸化膜(SiO膜;絶縁膜)7を有する熱酸化膜付シリコンウェハ(シリコン基板;基板)6上に、距離約0.5mmのギャップを挟んで、幅約10mm、長さ約20mm、膜厚約30nmの2つの金電極(一対の金電極;金電極膜)4、5を、マスクを用いて、真空蒸着によって形成した(図1参照)。
続いて、その上に、p型半導体層3として、厚さ約120nmの臭化第一銅(CuBr)層を形成した(図1参照)。
ここでは、まず、膜厚約15nmの銅を、幅約8mm、長さ約30mmの平面形状となるように、マスクを用いて、真空蒸着によって成膜した。続いて、濃度約100mMの臭化第二銅水溶液に約18秒間浸漬した。この処理によって銅膜を変化させて厚さ約120nmのCuBr層3を形成した(図1参照)。
続いて、CuBr層3の表面を3級アミン2であるN,N−ジメチル−ヘキサデシルアミンで被覆した(図1参照)。
ここでは、N,N−ジメチル−ヘキサデシルアミンの濃度が約100ppmであるヘキサン溶液に、室温で約3分間浸漬し、その直後にヘキサン飽和蒸気中で垂直に立てた状態で約3分間放置して、余分なアミンを洗い落とした後、空気中に取り出して放置乾燥するという方法で、CuBr層3の表面を3級アミン2であるN,N−ジメチル−ヘキサデシルアミンで被覆した。
このようにして、本実施例のガスセンサデバイス1を作製した(図1参照)。
次に、このようにして作製したガスセンサデバイス1を、流量が毎分4Lである窒素ガス流路中に設置し、ガス源を純窒素と所定濃度の検知対象ガスを含む同流量の窒素との間で切り替え、ガスセンサデバイス1の抵抗変化を測定することで、ガスセンサデバイス1の各ガス種に対する応答を評価した。
まず、濃度約300ppbのアンモニアに対する応答、濃度約300ppbのアセトアルデヒドに対する応答、濃度約200ppbのノナナールに対する応答を評価した。
ここで、図5、図6、図7は、それぞれ、濃度約300ppbのアンモニアに対する応答、濃度約300ppbのアセトアルデヒドに対する応答、濃度約200ppbのノナナールに対する応答を、抵抗変化率の時間変化の形で示したものである。
図5に示すように、濃度約300ppbのアンモニアに対しては明瞭な応答を示さなかった。これに対し、図6に示すように、濃度約300ppbのアセトアルデヒドに対しては約20分間で約60%の抵抗変化を示した。また、図7に示すように、濃度約200ppbのノナナールに対しては約20分間で約80%の抵抗変化を示した。
そして、これらの3種のガスに加え、さらに、アセトンに対する応答、エタノールに対する応答も評価し、評価に用いた各ガス種に対する応答(応答強度)を、ノナナールに対する応答(応答強度)を基準として、各ガス種の濃度で規格化して、ノナナールに対する応答(応答強度)に対する比(選択比)を求めたところ、図8に示すような結果が得られた。
図8に示すように、本実施例のガスセンサデバイスは、アンモニア、アセトン、エタノールに対する応答と比較して、アルデヒド(ノナナール及びアセトアルデヒド)に対して強い応答を示し、アルデヒド(ノナナール及びアセトアルデヒド)に対して選択的に優れた応答を示した。
また、炭素数が2のアセトアルデヒドよりも炭素数が9であるノナナールに対して約2倍の応答強度を示した。
これは、CuBr層の表面を、合計で18個の炭素原子を含み、そのうち16個の炭素原子が直鎖をなす3級アミンであるN,N−ジメチル−ヘキサデシルアミンで被覆したことで、ガスとの接触面において、炭素数が多いアルキル基を含むアルデヒドであるノナナールに対する親和性が上がり、上述のような望ましい選択性の実現に寄与したことを示している。
[比較例]
本比較例では、p型半導体層としてのCuBr層の表面を3級アミンであるN,N−ジメチル−ヘキサデシルアミンで被覆しないで、以下のようにして、ガスセンサデバイスを作製した。
つまり、本比較例では、上述の実施例の場合と同様に、まず、長さ約50mm、幅約10mmで、表面に厚さ約1μmの熱酸化膜(SiO膜)を有する熱酸化膜付シリコンウェハ(シリコン基板)上に、距離約0.5mmのギャップを挟んで、幅約10mm、長さ約20mm、膜厚約30nmの2つの金電極(一対の金電極;金電極膜)を、マスクを用いて、真空蒸着によって形成した。
続いて、その上に、p型半導体層として、厚さ約250nmの臭化第一銅(CuBr)層を形成した。
ここでは、まず、膜厚約30nmの銅を、幅約8mm、長さ約30mmの平面形状となるように、マスクを用いて、真空蒸着によって成膜した。続いて、濃度約100mMの臭化第二銅水溶液に約20秒間浸漬した。この処理によって銅膜を変化させて厚さ約250nmのCuBr層を形成した。
このようにして、本比較例のガスセンサデバイスを作製した。
次に、このようにして作製したガスセンサデバイスを、流量が毎分4Lである窒素ガス流路中に設置し、ガス源を純窒素と所定濃度の検知対象ガスを含む同流量の窒素との間で切り替え、ガスセンサデバイスの抵抗変化を測定することで、ガスセンサデバイスの各ガス種に対する応答を評価した。
まず、濃度約300ppbのアンモニアに対する応答、濃度約300ppbのアセトアルデヒドに対する応答を評価した。
ここで、図9、図10は、それぞれ、濃度約300ppbのアンモニアに対する応答、濃度約300ppbのアセトアルデヒドに対する応答を、抵抗変化率の時間変化の形で示したものである。
図9に示すように、濃度約300ppbのアンモニアに対しては約10分間で約400%の抵抗変化を示した。これに対し、図10に示すように、濃度約300ppbのアセトアルデヒドに対しては明瞭な応答を示さなかった。
そして、これらの2種のガスに加え、さらに、エタノールに対する応答も評価し、評価に用いた各ガス種に対する応答(応答強度)を、アンモニアに対する応答(応答強度)を基準として、各ガス種の濃度で規格化して、アンモニアに対する応答(応答強度)に対する比(選択比)を求めたところ、図11に示すような結果が得られた。
図11に示すように、本比較例のガスセンサデバイスは、アルデヒド(アセトアルデヒド)やエタノールに対する応答と比較して、アンモニアに対して強い応答を示し、アンモニアに対して選択的に優れた応答を示した。つまり、本比較例のガスセンサデバイスは、アルデヒドに対して選択的に応答を示すガスセンサデバイスとしては有効に動作しなかった。
ところで、上述の実施形態のガスセンサは、ガスセンサデバイス1のほかに、例えば、検知部としての回路、プロセッサ、メモリ、通信回路等を備えるものとすれば良い。
また、ガスセンサを、表示画面を備えるものとし、ガスセンサデバイス1及び検知部としての回路によって検知された値(例えば抵抗値)を、アルデヒドの濃度を示す値に変換し、アルデヒドの濃度を示す指標として、画面上に表示するようにしても良い。
また、例えば図12に示すように、このようなガスセンサデバイス1を備えるガスセンサ10を、例えばパーソナルコンピュータなどのコンピュータ11に接続し、ガスセンサ10を用いて測定したデータがコンピュータ11へ送られるようにし、ガスセンサ10によって得られたデータをコンピュータ11で処理して、アルデヒドの濃度を示す指標あるいは疾病の有無等を、コンピュータ11の画面上に表示させるようにしても良い。
この場合、このようなデータ処理(情報処理)を行なう情報処理システムは、上述の実施形態のガスセンサデバイス1を備えるガスセンサ10と、ガスセンサ10に接続され、ガスセンサ10によって得られたデータを処理するコンピュータ11とを備えるものとすれば良い。なお、このような情報処理システムをガス評価システムという。
また、上述のようなガスセンサデバイス1を備えるガスセンサを用いて測定したデータ(情報)を、ネットワークを介して収集し、蓄積して、データベースを構築したり、これらのデータを解析し、その結果をフィードバックしたりすることも可能である。
これにより、疾病のスクリーニング精度の向上、他の疾病との相関性の有無の調査などに有効に活用されることになり、また、多大な労力を要することなく、測定結果をフィードバックすることが可能となる。例えば、呼気の被測定者の癌の有無、あるいは他の疾病との相関を解析することで、スクリーニング精度の向上や他の疾病のスクリーニングへの展開が可能となる。
この場合、図13に示すように、このようなデータ処理(情報処理)を行なう情報処理システム20は、上述の実施形態のガスセンサデバイス1を備えるガスセンサ21と、ガスセンサ21にネットワーク22を介して接続され、ガスセンサ21によって得られたデータを処理するサーバ(コンピュータ)23とを備えるものとすれば良い。なお、このような情報処理システムをガス評価システムともいう。
なお、本発明は、上述した実施形態及び変形例に記載した構成に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形することが可能である。
以下、上述の実施形態及び変形例に関し、更に、付記を開示する。
(付記1)
検知対象ガスと接触する側の表面が3級アミンで被覆されているp型半導体層と、
前記p型半導体層を介して電気的に接続される2つの電極とを備えることを特徴とするガスセンサ。
(付記2)
前記p型半導体層は、銅又は銀を含むことを特徴とする、付記1に記載のガスセンサ。
(付記3)
前記p型半導体層は、臭化第一銅、酸化第一銅、硫化第一銅、酸化銀、臭化銀、硫化銀からなる群から選ばれるいずれか一種を含むことを特徴とする、付記1又は2に記載のガスセンサ。
(付記4)
前記3級アミンは、アミノ基の窒素原子に結合する原子団が全てアルキル基であることを特徴とする、付記1〜3のいずれか1項に記載のガスセンサ。
(付記5)
前記2つの電極は、前記p型半導体層の前記3級アミンで被覆されている側の反対側に間隔をあけて設けられており、
少なくとも前記2つの電極の間の領域の上方の前記3級アミンの表面に前記検知対象ガスが接触するように前記3級アミンの表面が露出していることを特徴とする、付記1〜4のいずれか1項に記載のガスセンサ。
(付記6)
前記2つの電極に接続され、前記p型半導体層の電気特性の変化を検知する検知部を備えることを特徴とする、付記1〜5のいずれか1項に記載のガスセンサ。
(付記7)
付記1〜6のいずれか1項に記載のガスセンサと、
前記ガスセンサによって得られたデータを処理するコンピュータとを備えることを特徴とする情報処理システム。
1 ガスセンサデバイス
2 3級アミン
3 p型半導体層(CuBr層)
4、5 電極
6 基板
7 絶縁膜
10 ガスセンサ
11 コンピュータ
20 情報処理システム
21 ガスセンサ
22 ネットワーク
23 サーバ(コンピュータ)

Claims (4)

  1. 検知対象ガスと接触する側の表面が3級アミンで被覆されているp型半導体層と、
    前記p型半導体層を介して電気的に接続される2つの電極とを備えることを特徴とするガスセンサ。
  2. 前記p型半導体層は、銅又は銀を含むことを特徴とする、請求項1に記載のガスセンサ。
  3. 前記p型半導体層は、臭化第一銅、酸化第一銅、硫化第一銅、酸化銀、臭化銀、硫化銀からなる群から選ばれるいずれか一種を含むことを特徴とする、請求項1又は2に記載のガスセンサ。
  4. 請求項1〜3のいずれか1項に記載のガスセンサと、
    前記ガスセンサによって得られたデータを処理するコンピュータとを備えることを特徴とする情報処理システム。
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