JP2016217861A - 検査装置、検査方法及び検査装置で用いられるプログラム - Google Patents

検査装置、検査方法及び検査装置で用いられるプログラム Download PDF

Info

Publication number
JP2016217861A
JP2016217861A JP2015102482A JP2015102482A JP2016217861A JP 2016217861 A JP2016217861 A JP 2016217861A JP 2015102482 A JP2015102482 A JP 2015102482A JP 2015102482 A JP2015102482 A JP 2015102482A JP 2016217861 A JP2016217861 A JP 2016217861A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inspection
substrate
unit
normal
logic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015102482A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6521735B2 (ja
Inventor
和明 小栗
Kazuaki Oguri
和明 小栗
博喜 霜鳥
Hiroki Shimotori
博喜 霜鳥
小室 朗
Akira Komuro
朗 小室
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Juki Corp
Original Assignee
Juki Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Juki Corp filed Critical Juki Corp
Priority to JP2015102482A priority Critical patent/JP6521735B2/ja
Priority to CN201610341507.2A priority patent/CN106168582B/zh
Publication of JP2016217861A publication Critical patent/JP2016217861A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6521735B2 publication Critical patent/JP6521735B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N2021/95638Inspecting patterns on the surface of objects for PCB's

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)

Abstract

【課題】市場に出荷された良品基板の不具合を生産現場で検証すること。
【解決手段】生産ラインの稼働中に基板(W)に対して通常検査を実施し、通常検査で見落とした基板の不良を検証可能な検査装置(14)に、検査プロセスの一覧が記憶された記憶部(26)と、基板の検査位置を特定する特定部(25)と、検査プロセスの一覧から基板の検査位置毎に検査プロセスの選択を受け付ける受付部(27)と、受付部で選択された検査プロセスから成る検査ロジックを基板の検査位置に実行する実行部(28)とを備える構成にした。
【選択図】図2

Description

本発明は、生産ラインで製造された基板の良否を検査する検査装置、検査方法及び検査装置で用いられるプログラムに関する。
生産ラインに配置される検査装置として、生産ラインの工程別に全ての基板を撮像して不良解析するものが知られている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に記載の検査装置では、工程毎の撮像画像から基板の良否が検査され、工程毎に良品画像と不良品画像に選別されて不良解析に用いられている。また、検査装置として、基板の検査結果を統計処理して不良解析するものが知られている(例えば、特許文献2参照)。特許文献2に記載の検査装置では、基板の検査結果と識別情報が関連付けられてデータベースに格納され、データベース内の格納情報の統計結果が不良解析に用いられている。
特開2005−142552号公報 特開2002−368411号公報
ところで、良品として判定された基板については工場から市場に出荷されるが、市場にて基板に対して何らかの不具合が発見されることがある。特許文献1、2に記載の検査装置では、出荷前の基板を用いて不良解析することができるが、良品として出荷された基板について不良の原因を突き止めることまではできない。良品として判定された基板の不具合を検証するためには、検査装置の製造元で検査ロジックを組み直さなければならなかった。生産現場のオペレータで目視にて基板の不具合を検証することも考えられるが、オペレータの負担が重くなるという問題があった。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、市場に出荷された良品基板の不具合を生産現場で検証することができる検査装置、検査方法及び検査装置で用いられるプログラムを提供することを目的とする。
本発明の検査装置は、生産ラインの稼働中に基板に対して通常検査を実施し、通常検査で見落とした前記基板の不良を検証可能な検査装置であって、検査プロセスの一覧が記憶された記憶部と、前記基板の検査位置を特定する特定部と、前記検査プロセスの一覧から前記基板の検査位置毎に検査プロセスの選択を受け付ける受付部と、前記受付部で選択された検査プロセスから成る検査ロジックを前記基板の検査位置に実行する実行部とを備えることを特徴とする。
本発明の検査方法は、生産ラインの稼働中に基板に対して通常検査を実施し、通常検査で見落とした前記基板の不良を検証可能な検査装置による検査方法であって、前記基板の検査位置を特定するステップと、記憶部に記憶された検査プロセスの一覧から前記基板の検査位置毎に検査プロセスを選択するステップと、選択された検査プロセスから成る検査ロジックを前記基板の検査位置に実行するステップとを有することを特徴とする。
これらの構成によれば、基板の不良に応じて生産現場のオペレータが検査プロセスを自由に選択して、新たに検査ロジックを組むことができる。オペレータが自ら組んだ検査ロジックを使うことで、検査装置の製造元に頼ることなく、検査装置の通常検査で見落とされた基板の不良に対して再検査することができ、基板の不具合の原因をオペレータが検証することができる。また、検査プロセスを選択するだけで検査ロジックを組むことができるため、オペレータに負担をかけることなく、不良の内容に応じて柔軟に検証することができる。
上記の検査装置において、前記受付部は、検査プロセスのパラメータの調整を受け付ける。この構成によれば、検査プロセスの検査の感度を調整することができ、基板の不良に対してより柔軟に検証することができる。
上記の検査装置において、前記実行部は、前記検査ロジックに加えて、前記通常検査に使用された既存の検査ロジックを実行可能である。この構成によれば、検査装置の通常検査で見落とされた基板の不良を、既存の検査ロジックを使用して再検査することができる。
上記の検査装置において、前記生産ラインの稼働中に前記基板を撮像する撮像部を備え、前記記憶部は、前記基板の撮像画像に対する検査プロセスの一覧を記憶し、前記特定部は、前記基板の撮像画像における検査位置を特定し、前記実行部は、前記検査ロジックを前記基板の撮像画像の検査位置に対して実行する。この構成によれば、基板の撮像画像を用いて基板の不良を再検査することができるため、基板が無くても基板の不具合を検証することができる。
上記の検査装置において、前記基板のトレーサビリティ情報から当該基板の撮像画像を抽出する抽出部を備え、前記生産ラインの稼働中に前記撮像部に撮像された全ての基板の撮像画像が、当該基板のトレーサビリティ情報にそれぞれ関連付けられて保存される。この構成によれば、生産ラインの稼働中に生じた基板の不良を後で検証するための客観的な証拠として、全ての基板の撮像画像を残すことができる。また、トレーサビリティ情報から再検査が必要な基板の撮像画像を抽出することができる。
上記の検査装置において、前記基板のトレーサビリティ情報は、当該基板の種別と当該基板に対する通常検査の検査日時とを含む。この構成によれば、基板の種別と通常検査の検査日時から、再検査が必要な基板の撮像画像を容易に抽出することができる。
本発明のプログラムは、上記の検査方法を検査装置、又は検査プログラム作成パソコンに実行させることを特徴とする。この構成によれば、検査装置、又は検査プログラム作成パソコンにプログラムをインストールすることで、検査装置に対して自由度の高い検証機能を追加することができる。
本発明によれば、生産現場で基板の不良に応じて検査プロセスを自由に選択して新たに検査ロジックを組むことで、検査装置の製造元に頼ることなく、検査装置の通常検査で見落とされた基板の不良の原因をオペレータ側で検証することができる。
本実施の形態に係る生産システムの模式図である。 本実施の形態に係る検査装置のブロック図である。 本実施の形態に係る撮像画像の抽出処理の一例を示す図である。 本実施の形態に係る撮像画像に対する再検査処理の一例を示す図である。
以下、添付図面を参照して本実施の形態に係る生産システムについて説明する。図1は、本実施の形態に係る生産システムの模式図である。なお、本実施の形態に係る生産システムは一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
図1に示すように、本実施の形態に係る生産システム1の生産ラインは、印刷工程、印刷後の検査工程、実装工程、実装後の検査工程、リフロー工程、リフロー後の検査工程の工程を経て基板Wを生産している。印刷工程では、印刷装置11により基板W上の所定位置にペースト状の半田が印刷され、印刷後の検査工程では、検査装置14aにより基板W上の半田の印刷状態が画像処理等によって検査される。実装工程では、実装装置12により基板Wの所定位置に部品が実装され、実装後の検査工程では、検査装置14bにより基板W上の部品の実装状態が画像処理等によって検査される。
リフロー工程では、リフロー装置13により所定位置の半田を溶かして基板Wに部品が半田付けされ、リフロー後の検査工程では、検査装置14cにより基板W上の部品の半田付け状態が画像処理等によって検査される。また、生産システム1には、画像保存サーバー15と検査情報保存サーバー16が設けられている。画像保存サーバー15には、各検査工程で撮像された基板Wの撮像画像が保存され、検査情報保存サーバー16には、各検査工程における基板Wの検査結果等の検査情報が保存されている。なお、基板Wは、複数の単位基板からなる集合基板でもよいし、単一の基板でもよい。
ところで、生産ラインを経て良品と判定された市場に出荷された基板Wは、市場にて不良が発見される場合がある。この場合、手元に検査対象の基板Wがないことが多く、基板Wに対して再検査を行うことができない。また、検査対象の基板Wが手元にあったとしても再検査を行うために手間がかかっていた。そこで、本実施の形態に係る生産システム1では、生産ラインの稼働中に生じた基板Wの不良を後で検証するための客観的な証拠として撮像し、各検査工程の基板Wの撮像画像を各基板Wのトレーサビリティ情報に関連付けて保存するようにしている。
しかしながら、基板Wの撮像画像を保存していたとしても、生産ラインの現場では市場で発見された基板Wの不良を検証することが難しい。一般に、検査装置の製造元によって検査ロジックが開示されていないことが多く、生産現場のオペレータは生産ラインの通常検査で基板Wの不良を見落とした原因を把握することができないからである。このため、検査装置の製造元に不具合の検証を依頼して、新たな検査ロジックを組み直してもらわなければならない。オペレータが基板Wの撮像画像から目視で基板Wの不良を確認することも可能であるが、確認作業に膨大な時間を費やさなければならなかった。
このため、本実施の形態に係る各検査装置14a−14cでは、基板Wの不良に応じて生産現場のオペレータ側で容易に検査ロジックを組むことができるようにしている。オペレータが自ら組んだ検査ロジックを基板Wの撮像画像に使うことで、各検査装置14a−14cの通常検査で見落とされた基板Wの不良に対してオペレータが自ら検証することが可能になっている。なお、本実施の形態では、市場で不具合が発見された基板Wの撮像画像を用いて、基板Wの不良を検証する構成にしているが、実際の基板Wを取り寄せて検査装置14a−14cで再検査することで不良を検証することも可能である。
以下、図2を参照して、検査装置の詳細構成について説明する。図2は、本実施の形態に係る検査装置のブロック図である。なお、以下の説明では、実装後の検査工程における検査装置を例示して説明するが、印刷後の検査工程、リフロー後の検査工程の検査装置も同様に構成されている。また、図2に示す検査装置のブロック図は、本発明を説明するために簡略化したものであり、検査装置が通常備える構成については備えているものとする。
図2に示すように、検査装置14は、生産ラインの稼働中に全ての基板Wを撮像する撮像部21と、生産ラインの稼働中に全ての基板Wに対して通常検査を実施する通常検査部22と、通常検査で不良が見落とされた基板Wに対して再検査を実施する再検査部23とを備えている。撮像部21は、各基板W上の複数個所を真上から撮像して、各基板Wの撮像画像を通常検査部22に出力する。通常検査部22は、各基板Wの撮像画像に対して既存の検査ロジックを用いて画像処理を施して、各基板Wに適切に部品が実装されているか否かを検査する。部品の実装状態が悪い基板Wについては不良と判定されて出荷されることがない。
通常検査時の各基板Wの撮像画像は画像保存サーバー15に保存され、各基板Wの検査情報は検査情報保存サーバー16に保存される。画像保存サーバー15には、各基板Wの撮像画像が記憶媒体の所定の番地に保存されている。検査情報保存サーバー16には、検査情報として各基板Wのトレーサビリティ情報が画像保存サーバー15における各基板Wの撮像画像の保存先の番地に関連付けられて保存されている。トレーサビリティ情報としては、例えば、基板Wの種別、通常検査の検査日時、通常検査による判定結果、オペレータの目視による判定結果が含まれている。なお、通常検査部22は、圧縮画像を作成して画像保存サーバー15に送信されても良く、この場合、画像を保存するためのサーバー容量を抑えることが出来る。
再検査部23は、市場で不具合が発見された基板Wの撮像画像を用いて再検査するものであり、抽出部24、特定部25、記憶部26、受付部27、実行部28を有している。抽出部24は、オペレータに検査日時等のトレーサビリティ情報が抽出条件として設定されることで、検査情報保存サーバー16と画像保存サーバー15にアクセスして抽出条件を満たす撮像画像を抽出する。この場合、検査情報保存サーバー16にて、抽出条件を満たすトレーサビリティ情報に関連付いた撮像画像の番地が特定され、画像保存サーバー15にて、この番地に保存された撮像画像が抽出される。
このように、検査情報保存サーバー16のトレーサビリティ情報が画像保存サーバー15の撮像画像に関連付けられており、抽出部24においてオペレータから指定されたトレーサビリティ情報に基づいて撮像画像が抽出される。これにより、オペレータの手元に検査対象の基板Wがない場合であっても、トレーサビリティ情報から検査対象の基板Wの撮像画像を抽出して再検査することが可能になっている。なお、トレーサビリティ情報と撮像画像は同一の外部サーバーに保存されてもよいし、別々の外部サーバーに保存されてもよい。
特定部25は、抽出部24で抽出された基板Wの撮像画像における検査位置を特定する。この場合、検査装置14には基板W上の部品の位置情報や座標軸が設定されており、部品名や特定座標等の位置情報の入力によって撮像画像における検査位置が特定される。記憶部26には、検査ロジックを構築するための処理単位となる検査プロセスの一覧が記憶されている。検査プロセスの一覧には、長さ測定、面積測定、体積測定、輝度測定、色認識、文字認識、重み付けフィルタ設定、2値化処理、判定処理等の複数種類の検査プロセスが含まれている。
受付部27は、検査プロセスの一覧から撮像画像の検査位置毎に検査プロセスの選択を受け付けている。この場合、検査位置毎にオペレータによって検査プロセスの一覧から所望の検査プロセスが選択され、選択された検査プロセスが実行フィールド31(図4C参照)に実行順に並べられて検査ロジックが組み立てられる。すなわち、受付部27は、検査ロジックの組み立て画面を形成している(図4C参照)。また、受付部27は、各検査プロセスのパラメータの調整を受け付けている。パラメータとしては、例えば、重み付けフィルタの係数、2値化処理や判定処理の閾値等が設定される。このように、検査プロセスの選択によって容易に検査ロジックを組むことが可能になっている。
実行部28は、受付部27で選択された検査プロセスから成る検査ロジックを撮像画像の検査位置に対して実行する。この場合、受付部27の実行フィールド31に並べられた順に検査プロセスが実行されて、抽出部24に抽出された撮像画像の検査位置が再検査される。このように、基板Wの不良に応じてオペレータが検査プロセスを自由に選択した検査ロジックにより再検査することができ、オペレータが通常検査で見落とされた基板Wの不良の原因を突き止めることができる。なお、実行部28は、通常検査時に使用された既存の検査ロジックを実行することも可能である。
印刷装置11の通常検査部22及び再検査部23の各部は、各部の各種処理を実行するプロセッサやメモリ等により構成されている。メモリは、用途に応じてROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等の一つ又は複数の記憶媒体で構成されており、メモリには本実施の形態に係る印刷装置の通常検査用のプログラムの他、撮像画像の抽出処理用のプログラム、再検査処理用のプログラム、後述する検査ロジックの組み立て画面等が記憶されている。
図3及び図4を参照して、撮像画像の抽出処理及び撮像画像に対する再検査処理について説明する。図3は、本実施の形態に係る撮像画像の抽出処理の一例を示す図である。図4は、本実施の形態に係る撮像画像に対する再検査処理の一例を示す図である。
図3Aに示すように、検査装置14(図3B参照)において1/1の0:00−0:50までの間に、MODEL:A、Bの2種類の基板Wa−Wfに対して通常検査が実施されている。通常検査では、これら全ての基板Wa−Wfに対して既存の検査ロジックが実行され、基板Wa−Wfの撮像画像が画像保存サーバー15(図3B参照)に保存され、基板Wa−Wfのトレーサビリティ情報が検査情報保存サーバー16(図3B参照)に保存される。この通常検査においては、基板Wa−Wfが全て良品として出荷されたが、1/1の0:30−1:00に検査されたMODEL:Bの基板に不具合が発見され、抽出部24(図2参照)による検査対象の基板Wの抽出処理が実施される。
この場合、図3Bに示すように、基板Wの種別MODEL:B、検査日時1/1の0:30−1:00が抽出条件として検査装置14から検査情報保存サーバー16に送信される(ステップS01)。検査情報保存サーバー16では、抽出条件を満たすトレーサビリティ情報が検索され、1/1の0:30に検査されたMODEL:Bの基板Wdが検査対象として特定される(ステップS02)。基板Wdの保存先となる番地が検査情報保存サーバー16から検査装置14に送信される(ステップS03)。そして、検査装置14によって画像保存サーバー15の基板Wdの番地に保存された撮像画像が読み込まれる(ステップS04)。
次に、基板Wdに対する再検査処理が実施される。図4Aに示すように、通常検査では撮像部21(図2参照)によって各基板Wの複数の箇所が撮像されている。このため、基板Wdの複数の撮像画像の中から、特定部25(図2参照)によって不良個所を含む撮像画像Iが検査対象として特定される。さらに、図4Bに示すように、撮像画像I内には複数の部品が含まれており、特定部25によって複数の部品の中から不良個所となる部品Pが検査対象として特定される。上記したように、各部品には位置情報が関連付けられているため、部品名の入力によって検査位置を特定することできる。また、検査位置の座標入力によって、部品に限らず直接的に検査位置を特定することも可能である。
図4Cに示すように、検査ロジックの組み立て画面において、記憶部26(図2参照)の検査プロセスの一覧33から任意の検査プロセスが選択され、各検査プロセスが実行順に実行フィールド31に設定される。図の例では、撮像画像Iの部品Pに対して輝度測定、2値化処理、長さ測定、判定処理が選択され、これらの検査プロセスが実行順に実行フィールド31に設定されて1つの検査ロジックが組み上げられる。これにより、撮像画像Iの部品Pの輝度から輪郭が抽出されて、部品Pが適切な長さであるか否かの判定ロジックが生成される。なお、パラメータフィールド32には何も設定されていないため、2値化処理や判定処理の閾値として規定値が設定されている。
そして、実行フィールド31に設定された複数の検査プロセスから成る検査ロジックが実行部28(図2参照)によって実行され、撮像画像Iの部品Pに対して輝度測定、2値化処理、長さ測定、判定処理が順番に実施される。これにより、検査対象の基板Wがない場合であっても、通常検査時に保存した撮像画像から基板Wの部品Pに対して再検査が実施される。また、オペレータは、実行フィールドに検査プロセスを自由に設定することができるため、基板Wの不良に応じて柔軟に検査ロジックを組むことができ、オペレータが不良を検証することが可能になっている。
また、基板Wの生産現場では、必要に応じて再検査時に組み上げた検査ロジックを生産ラインの稼働時の通常検査に組み入れることも可能である。これにより、通常検査時で基板Wの不良を見つけ出すことができ、不良が生じる可能性がある基板Wが市場に出荷されることを未然に防ぐことができる。この場合、基板Wの種別に応じて別々のプログラムが設定されているが、基板Wの種別が変わっても同一の部品に対しては同じ検査ロジックが適用されるようにプログラムが自動的に変更されてもよい。再検査時の撮像画像としては、通常検査で使用した生画像が使用されてもよいし、圧縮画像が使用されてもよい。
また、検査装置14は基板Wに対する再検査以外にも使用することが可能である。例えば、新たな部品に対する検査ロジックを組んだ場合に、この新たな部品に似た過去の部品の撮像画像に検査ロジックを試すことができる。過去の部品にトラブルが生じていた場合には、事前に検査を実施することで新たな部品のトラブルを事前に回避することができる。この場合、オペレータが検査ロジックを使用し易いように、部品の種類又は系統毎に検査ロジックが管理されている。さらに、過去の撮像画像や検査ロジックを用いることで、経験が未熟なオペレータに対して特定部品の不良を見極めさせるための教育にも使用することができる。
以上のように、本実施の形態に係る検査装置14は、基板Wの不良に応じて生産現場のオペレータで検査プロセスを自由に選択して、新たに検査ロジックを組むことができる。オペレータが自ら組んだ検査ロジックを使うことで、検査装置14の製造元に頼ることなく、検査装置14の通常検査で見落とされた基板の不良に対して再検査することができ、基板Wの不具合の原因をオペレータが検証することができる。また、検査プロセスを選択するだけで検査ロジックを組むことができるため、オペレータに負担をかけることなく、不良の内容に応じて柔軟に検証することができる。
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
例えば、本実施の形態において、検査装置14の記憶部26には、検査プロセスの一覧に撮像画像に対する検査プロセス、すなわち画像処理が記憶される構成にしたが、この構成に限定されない。記憶部26には、検査プロセスとしてレーザー測長等の画像処理以外の検査プロセスが記憶されていてもよい。これにより、検査対象の基板Wが手元にある場合には、基板Wに対してレーザー測長等の検査プロセスを含む検査ロジックを実行することが可能である。
また、本実施の形態において、特定部25が基板Wの撮像画像における検査位置を特定する構成にしたが、この構成に限定されない。特定部25は、基板Wの検査位置を特定可能な構成であればよく、検査対象の基板Wが手元にある場合には、実際の基板Wの検査位置を特定する構成でもよい。
また、本実施の形態において、受付部27は、基板Wの撮像画像における検査位置毎に検査プロセスの選択を受け付ける構成にしたが、この構成に限定されない。受付部27は、基板Wの検査位置毎に検査プロセスを受け付ける構成であればよく、検査対象の基板Wが手元にある場合には、実際の基板Wの検査位置毎に検査プロセスの選択を受け付ける構成でもよい。また、受付部27は、検査プロセスのパラメータの調整を受け付けない構成にしてもよい。さらに、パラメータは、各検査プロセスの閾値を設定するものに限定されず、検査感度を調整するものであればよい。
また、本実施の形態において、実行部28が基板Wの撮像画像における検査位置に検査ロジックを実行する構成にしたが、この構成に限定されない。実行部28は、基板Wの検査位置毎に検査ロジックを実行可能な構成であればよく、検査対象の基板Wが手元にある場合には、実際の基板Wの検査位置毎に検査ロジックを実行する構成でもよい。
また、本実施の形態において、基板Wは、プリント基板に限定されず、治具基板上に載せられたフレキシブル基板であってもよい。
また、本実施の形態において、通常検査を実施する検査装置14で、通常検査で見落とした基板Wの不良を検証する構成にしたが、この構成に限定されない。検査装置14は、通常検査で使用される装置とは別の、再検査用の装置でもよい。
また、本実施の形態において、撮像部21が全ての基板Wを撮像する構成にしたが、この構成に限定されない。撮像部21は、一部の基板Wだけを撮像するように構成されてもよい。
また、本実施の形態において、検査装置に本発明の検査方法を実行するプログラムを記憶させる構成にしたが、検査装置とは別の検査プログラム作成パソコンに検査方法を実行するプログラムを記憶させてもよい。
以上説明したように、本発明は、市場に出荷された良品基板の不具合を生産現場のオペレータで検証することができるという効果を有し、特に、生産ラインで製造された基板の良否を検査する検査装置、検査方法及び検査装置で用いられるプログラムに有用である。
1 生産システム
14 検査装置
15 画像保存サーバー
16 検査情報保存サーバー
21 撮像部
22 通常検査部
23 再検査部
24 抽出部
25 特定部
26 記憶部
27 受付部
28 実行部
31 実行フィールド
32 パラメータフィールド

Claims (8)

  1. 生産ラインの稼働中に基板に対して通常検査を実施し、通常検査で見落とした前記基板の不良を検証可能な検査装置であって、
    検査プロセスの一覧が記憶された記憶部と、
    前記基板の検査位置を特定する特定部と、
    前記検査プロセスの一覧から前記基板の検査位置毎に検査プロセスの選択を受け付ける受付部と、
    前記受付部で選択された検査プロセスから成る検査ロジックを前記基板の検査位置に実行する実行部とを備えることを特徴とする検査装置。
  2. 前記受付部は、検査プロセスのパラメータの調整を受け付けることを特徴とする請求項1に記載の検査装置。
  3. 前記実行部は、前記検査ロジックに加えて、前記通常検査で使用された既存の検査ロジックを実行可能であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の検査装置。
  4. 前記生産ラインの稼働中に前記基板を撮像する撮像部を備え、
    前記記憶部は、前記基板の撮像画像に対する検査プロセスの一覧を記憶し、
    前記特定部は、前記基板の撮像画像における検査位置を特定し、
    前記実行部は、前記検査ロジックを前記基板の撮像画像の検査位置に対して実行することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の検査装置。
  5. 前記基板のトレーサビリティ情報から当該基板の撮像画像を抽出する抽出部を備え、
    前記生産ラインの稼働中に前記撮像部に撮像された全ての基板の撮像画像が、当該基板のトレーサビリティ情報にそれぞれ関連付けられて保存されることを特徴とする請求項4に記載の検査装置。
  6. 前記基板のトレーサビリティ情報は、当該基板の種別と当該基板に対する通常検査の検査日時とを含むことを特徴とする請求項5に記載の検査装置。
  7. 生産ラインの稼働中に基板に対して通常検査を実施し、通常検査で見落とした前記基板の不良を検証可能な検査装置による検査方法であって、
    前記基板の検査位置を特定するステップと、
    記憶部に記憶された検査プロセスの一覧から前記基板の検査位置毎に検査プロセスを選択するステップと、
    選択された検査プロセスから成る検査ロジックを前記基板の検査位置に実行するステップとを有することを特徴とする検査方法。
  8. 請求項7に記載の検査方法を検査装置、又は検査プログラム作成パソコンに実行させることを特徴とするプログラム。
JP2015102482A 2015-05-20 2015-05-20 検査装置、検査方法及び検査装置で用いられるプログラム Active JP6521735B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015102482A JP6521735B2 (ja) 2015-05-20 2015-05-20 検査装置、検査方法及び検査装置で用いられるプログラム
CN201610341507.2A CN106168582B (zh) 2015-05-20 2016-05-20 检查装置及检查方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015102482A JP6521735B2 (ja) 2015-05-20 2015-05-20 検査装置、検査方法及び検査装置で用いられるプログラム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016217861A true JP2016217861A (ja) 2016-12-22
JP6521735B2 JP6521735B2 (ja) 2019-05-29

Family

ID=57359364

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015102482A Active JP6521735B2 (ja) 2015-05-20 2015-05-20 検査装置、検査方法及び検査装置で用いられるプログラム

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6521735B2 (ja)
CN (1) CN106168582B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11367170B2 (en) * 2016-12-01 2022-06-21 Fuji Corporation Manufacturing management system for component mounting line
CN110870401B (zh) * 2018-06-28 2022-02-11 株式会社高迎科技 确定贴装在基板部件的贴装不合格原因的电子装置及方法
KR102267919B1 (ko) 2018-06-28 2021-06-23 주식회사 고영테크놀러지 기판에 실장된 부품의 실장 불량 원인을 결정하는 전자 장치 및 방법
US11428644B2 (en) 2018-11-27 2022-08-30 Koh Young Technology Inc. Method and electronic apparatus for displaying inspection result of board
CN111324096B (zh) * 2020-03-03 2021-04-23 郑州旭飞光电科技有限公司 一种基板玻璃加工、包装信息可追溯系统及方法
CN111261078A (zh) * 2020-03-24 2020-06-09 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板的检测方法及检测装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001043367A (ja) * 1999-07-27 2001-02-16 Matsushita Electric Works Ltd 外観検査シミュレーションシステムおよびその方法
US20030179919A1 (en) * 2002-03-21 2003-09-25 Applied Materials, Inc. Method and system for detecting defects
JP2003279331A (ja) * 2002-03-25 2003-10-02 Hitachi Ltd 外観検査装置
JP2004361145A (ja) * 2003-06-02 2004-12-24 Omron Corp 表示方法および品質管理装置ならびに品質管理システム
EP2477468A2 (en) * 2011-01-18 2012-07-18 Omron Corporation Substrate inspection system
US20130182942A1 (en) * 2012-01-17 2013-07-18 Omron Corporation Method for registering inspection standard for soldering inspection and board inspection apparatus thereby

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0783849A (ja) * 1993-09-16 1995-03-31 Hitachi Chem Co Ltd プリント配線板の良否判定方法
JPH1114554A (ja) * 1997-06-23 1999-01-22 Omron Corp 視覚欠陥検査方法および装置
JP4736764B2 (ja) * 2005-01-11 2011-07-27 オムロン株式会社 基板検査装置並びにその検査ロジック設定方法および検査ロジック設定装置
CN100472205C (zh) * 2005-02-21 2009-03-25 欧姆龙株式会社 基板检查方法和装置、及其检查逻辑设定方法和装置
JP4830501B2 (ja) * 2005-02-21 2011-12-07 オムロン株式会社 基板検査方法および装置、並びに、その検査ロジック設定方法および装置
JP4935109B2 (ja) * 2005-03-17 2012-05-23 オムロン株式会社 基板検査装置並びにその検査ロジック設定方法および検査ロジック設定装置
CN100582755C (zh) * 2005-03-17 2010-01-20 欧姆龙株式会社 基板检查装置及其检查逻辑设定方法和检查逻辑设定装置
JP4595705B2 (ja) * 2005-06-22 2010-12-08 オムロン株式会社 基板検査装置並びにそのパラメータ設定方法およびパラメータ設定装置
JP5022648B2 (ja) * 2006-08-11 2012-09-12 東京エレクトロン株式会社 欠陥検査方法および欠陥検査装置
JP2010112833A (ja) * 2008-11-06 2010-05-20 Hitachi High-Technologies Corp 電子線式基板検査装置
CN101762633B (zh) * 2008-12-25 2011-06-22 中国石油天然气股份有限公司 一种管道本体缺陷快速检测方法
JP5300670B2 (ja) * 2009-09-14 2013-09-25 株式会社東芝 パターン検査装置及びパターンを有する構造体の製造方法
JP6056058B2 (ja) * 2012-08-17 2017-01-11 Jukiオートメーションシステムズ株式会社 3次元測定装置、3次元測定方法、プログラム及び基板の製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001043367A (ja) * 1999-07-27 2001-02-16 Matsushita Electric Works Ltd 外観検査シミュレーションシステムおよびその方法
US20030179919A1 (en) * 2002-03-21 2003-09-25 Applied Materials, Inc. Method and system for detecting defects
JP2003279331A (ja) * 2002-03-25 2003-10-02 Hitachi Ltd 外観検査装置
JP2004361145A (ja) * 2003-06-02 2004-12-24 Omron Corp 表示方法および品質管理装置ならびに品質管理システム
EP2477468A2 (en) * 2011-01-18 2012-07-18 Omron Corporation Substrate inspection system
JP2012151250A (ja) * 2011-01-18 2012-08-09 Omron Corp 基板検査システム
US20130182942A1 (en) * 2012-01-17 2013-07-18 Omron Corporation Method for registering inspection standard for soldering inspection and board inspection apparatus thereby
JP2013148361A (ja) * 2012-01-17 2013-08-01 Omron Corp はんだ検査のための検査基準登録方法およびその方法を用いた基板検査装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN106168582B (zh) 2020-06-16
CN106168582A (zh) 2016-11-30
JP6521735B2 (ja) 2019-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016217861A (ja) 検査装置、検査方法及び検査装置で用いられるプログラム
JP5948797B2 (ja) 検査結果の目視確認作業の支援用のシステムおよび装置ならびに方法
JP6413246B2 (ja) 品質管理装置および品質管理装置の制御方法
EP3541161A1 (en) Stored image reclassification system and re-classification method
JP2011138930A (ja) 電子基板の検査管理方法、検査管理装置および目視検査装置
US20230262903A1 (en) Inspection and production of printed circuit board assemblies
KR20210095975A (ko) 인쇄 회로 기판에 실장된 부품을 검사하는 장치, 그 동작 방법 및 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체
JP2004361145A (ja) 表示方法および品質管理装置ならびに品質管理システム
CN107592910B (zh) 用于检查电子器件的方法
JP4788549B2 (ja) 外観検査用の画像の保存方法および画像保存処理装置
WO2013001594A1 (ja) 電子基板の検査管理方法、検査管理装置および目視検査装置
US10049442B2 (en) Video inspection system with augmented display content
JP2008186879A (ja) 基板検査方法
US7134599B2 (en) Circuit board inspection apparatus
WO2015174115A1 (ja) データ管理装置及びデータ管理プログラム
JP2012253199A (ja) 検査結果表示装置、基板検査システムおよび検査結果表示方法
JPH11258178A (ja) 検査装置および方法
JP2007115038A (ja) プリント基板品質情報管理システム
JP7136479B2 (ja) 検査装置、検査方法及び検査プログラム
JP2007017311A (ja) 外観検査システム
JP4594798B2 (ja) 実装ライン
CN109115780A (zh) 用于监控多个自动光学检测设备的方法及其装置
KR101572927B1 (ko) 검사공정에서의 원격 모니터링 방법
KR101542866B1 (ko) 검사 공정에서의 원격 모니터링 시스템 및 이를 이용한 검사공정에서의 원격 모니터링 방법
KR20220138822A (ko) 검사 시스템

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180420

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190228

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190326

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190423

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6521735

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150