JP6056058B2 - 3次元測定装置、3次元測定方法、プログラム及び基板の製造方法 - Google Patents
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上記4以上の照明は、測定対象物に対してそれぞれ順番に光を照射する。
前記撮像部は、前記4以上の照明によってそれぞれ順番に光が照射された前記測定対象物を撮像して、4以上の前記測定対象物の画像を取得する。
前記制御部は、前記4以上の画像から少なくとも3枚の画像を選ぶ複数の組み合わせのうち、前記測定対象物の3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測し、推測された前記組み合わせに基づいて、前記測定対象物を3次元測定する。
この場合、前記制御部は、前記複数の測定物のそれぞれについて、前記測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測してもよい。
この場合、前記4以上の照明のうち、少なくとも1つの照明は、他の照明とは前記照射面に対する光の照射角度が異なっていてもよい。
前記減光フィルタは、前記光源と、前記照射面内における照射点との間の距離に応じた、光の照度のバラつきを吸収可能とされる。
前記第1のフィルタは、減光膜が形成された減光面を有する。
前記第2のフィルタは、前記第1のフィルタの減光面と向かい合わせて重ねられた減光面を有する。
この場合、第2のフィルタは、前記第1の方向とは異なる第2の方向にグラデーションのパターン方向を有し、前記第1のフィルタに重ねられる。
前記面発光照明は、開口部を有し、前記測定対象物の上方に配置され、面発光により前記測定対象物に光を照射する。
前記同軸落射照明は、前記開口部の位置に、前記撮像部と同軸で配置される。
前記4以上の画像から少なくとも3枚の画像を選ぶ複数の組み合わせのうち、前記測定対象物の3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせが推測される。
推測された前記組み合わせに基づいて、前記測定対象物が3次元測定される。
4以上の照明によってそれぞれ順番に光が照射された測定対象物を撮像して、4以上の前記測定対象物の画像を取得するステップと、
前記4以上の画像から少なくとも3枚の画像を選ぶ複数の組み合わせのうち、前記測定対象物の3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測するステップと、
推測された前記組み合わせに基づいて、前記測定対象物を3次元測定するステップと
を実行させる。
前記4以上の画像から少なくとも3枚の画像を選ぶ複数の組み合わせのうち、前記基板の3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせが推測される。
推測された前記組み合わせに基づいて、前記基板が3次元測定される。
前記3次元測定の測定結果に基づいて、前記基板の良否が判定され、良品と判定された基板上に電子部品が実装される。
図1は、本技術の一実施形態に係る印刷検査装置100を示す斜視図である。図2は、印刷検査装置100の構成を示すブロック図である。
次に、スポットライト15の構成について詳細に説明する。図3は、スポットライト15の側方断面図である。
次に、面発光照明部20の構成について詳細に説明する。図6は、面発光照明部20の側方断面図である。
「3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせの推測」
次に、印刷検査装置100の処理について説明する。本実施形態では、4以上のスポットライト15がそれぞれ順番に点灯され、撮像部40により4以上の画像(3次元測定用画像)が取得される。そして、4以上の画像から少なくとも3枚の画像を選ぶ複数の組み合わせのうち、照度差ステレオ法による3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせが推測される。まず、このときの処理について説明する。
次に、基板検査時の印刷検査装置100の動作について説明する。図9は、基板検査時の印刷検査装置100の処理を示すフローチャートである。
以上説明したように、本実施形態では、測定精度が相対的に高い画像の組み合わせが推測され、上記推測によって採用された組み合わせに含まれる画像に基づいて、半田2の体積が計測される。これにより、スポットライト15と半田2との位置関係や、半田2の形状などに起因して、3次元測定に悪影響を与える画像が含まれる場合には、その悪影響を与える画像は、照度差ステレオ法による3次元測定において適切に排除される。これにより、本実施形態では、半田2の測定精度を向上させることができる。
以上の説明では、3次元測定装置の一例として、印刷検査装置100を例に挙げて説明したが、3次元検査装置は、印刷検査装置100に限られない。例えば、3次元検査装置は、電子部品(測定物)が実装された基板1(測定対象物)を検査する検査装置、あるいは最終検査装置等であってもよい。また、3次元測定装置は、傷検査装置であってもよい。
(1)測定対象物に対してそれぞれ順番に光を照射する4以上の照明と、
前記4以上の照明によってそれぞれ順番に光が照射された前記測定対象物を撮像して、4以上の前記測定対象物の画像を取得する撮像部と、
前記4以上の画像から少なくとも3枚の画像を選ぶ複数の組み合わせのうち、前記測定対象物の3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測し、推測された前記組み合わせに基づいて、前記測定対象物を3次元測定する制御部と
を具備する3次元測定装置。
(2) 上記(1)に記載の3次元測定装置であって、
前記制御部は、前記複数の組み合わせ毎に、それぞれ、各組み合わせに含まれる画像に基づいて、前記測定対象物を3次元測定し、前記各組み合わせにおける3次元測定の測定結果に基づいて、前記測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測する
3次元測定装置。
(3) 上記(2)に記載の3次元測定装置であって、
前記制御部は、前記複数の組み合わせ毎に、それぞれ、前記各組み合わせに含まれる画像に基づいて、前記測定対象物を3次元測定する処理を繰り返し、前記各組み合わせにおける3次元測定の結果のバラつき度を判定し、前記バラつき度に基づいて、前記測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測する
3次元測定装置。
(4) 上記(3)に記載の3次元測定装置であって、
前記制御部は、前記複数の組み合わせのうち、前記バラつき度が小さい組み合わせを、前記測定精度が相対的に高い画像の組み合わせとして推測する
3次元測定装置。
(5) 上記(1)〜(4)のうち何れか1つに記載の3次元測定装置であって、
前記制御部は、前記複数の組み合わせのうち、最低限含まれるべき数の画像を含む組み合わせの中から、前記測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測する
3次元測定装置。
(6) 上記(1)〜(5)のうち何れか1つに記載の3次元測定装置であって、
前記測定対象物は、複数の測定物を含み、
前記制御部は、前記複数の測定物のそれぞれについて、前記測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測する
3次元測定装置。
(7) 上記(1)〜(6)のうち何れか1つに記載の3次元測定装置であって、
前記測定対象物は、前記光が照射される照射面を有し、
前記4以上の照明のうち、少なくとも1つの照明は、他の照明とは前記照射面に対する光の照射角度が異なる
3次元測定装置。
(8) 上記(1)〜(7)のうちいずれか1つに記載の3次元測定装置であって、
前記測定対象物は、前記光が照射される照射面を有し、
前記4以上の照明は、それぞれ、
光源と、
前記光源と、前記照射面内における照射点との間の距離に応じた、光の照度のバラつきを吸収可能な減光フィルタと
を有する3次元測定装置。
(9) 上記(8)に記載の3次元測定装置であって、
前記減光フィルタは、
減光膜が形成された減光面を有する第1のフィルタと、
前記第1のフィルタの減光面と向かい合わせて重ねられた減光面を有する第2のフィルタとを有する
3次元測定装置。
(10) 上記(8)に記載の3次元測定装置であって、
前記減光フィルタは、
第1の方向にグラデーションのパターン方向を有する第1のフィルタと、
前記第1の方向とは異なる第2の方向にグラデーションのパターン方向を有し、前記第1のフィルタに重ねられた第2のフィルタと
を有する3次元測定装置。
(11) 上記(1)〜(10)のうち何れか1つに記載の3次元測定装置であって、
開口部を有し、前記測定対象物の上方に配置され、面発光により前記測定対象物に光を照射する面発光照明部と、
前記開口部の位置に、前記撮像部と同軸で配置された同軸落射照明と
をさらに具備する3次元測定装置。
(12) 4以上の照明によってそれぞれ順番に光が照射された測定対象物を撮像して、4以上の前記測定対象物の画像を取得し、
前記4以上の画像から少なくとも3枚の画像を選ぶ複数の組み合わせのうち、前記測定対象物の3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測し、
推測された前記組み合わせに基づいて、前記測定対象物を3次元測定する
3次元測定方法。
(13) 3次元測定装置に、
4以上の照明によってそれぞれ順番に光が照射された測定対象物を撮像して、4以上の前記測定対象物の画像を取得するステップと、
前記4以上の画像から少なくとも3枚の画像を選ぶ複数の組み合わせのうち、前記測定対象物の3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測するステップと、
推測された前記組み合わせに基づいて、前記測定対象物を3次元測定するステップと
を実行させるプログラム。
(14) 4以上の照明によってそれぞれ順番に光が照射された基板を撮像して、4以上の前記基板の画像を取得し、
前記4以上の画像から少なくとも3枚の画像を選ぶ複数の組み合わせのうち、前記基板の3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測し、
推測された前記組み合わせに基づいて、前記基板を3次元測定し、
前記3次元測定の測定結果に基づいて、前記基板の良否を判定して、良品と判定された基板上に電子部品を実装する
基板の製造方法。
2…半田
3…制御部
10…搬送部
15…スポットライト
20…面発光照明部
30…同軸落射照明
60…減光フィルタ
100…印刷検査装置
Claims (9)
- 測定対象物に対してそれぞれ順番に光を照射する4以上の照明と、
前記4以上の照明によってそれぞれ順番に光が照射された前記測定対象物を撮像して、4以上の前記測定対象物の画像を取得する撮像部と、
前記4以上の画像から少なくとも3枚の画像を選ぶ複数の組み合わせのうち、前記測定対象物の3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測し、推測された前記組み合わせに基づいて、前記測定対象物を3次元測定する制御部とを具備し、
前記制御部は、前記複数の組み合わせ毎に、それぞれ、前記各組み合わせに含まれる画像に基づいて、前記測定対象物を3次元測定する処理を繰り返し、前記各組み合わせにおける3次元測定の結果のバラつき度を判定し、前記バラつき度に基づいて、前記測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測する
3次元測定装置。 - 請求項1に記載の3次元測定装置であって、
前記制御部は、前記複数の組み合わせのうち、前記バラつき度が小さい組み合わせを、前記測定精度が相対的に高い画像の組み合わせとして推測する
3次元測定装置。 - 請求項1に記載の3次元測定装置であって、
前記制御部は、前記複数の組み合わせのうち、最低限含まれるべき数の画像を含む組み合わせの中から、前記測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測する
3次元測定装置。 - 請求項1に記載の3次元測定装置であって、
前記測定対象物は、複数の測定物を含み、
前記制御部は、前記複数の測定物のそれぞれについて、前記測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測する
3次元測定装置。 - 請求項1に記載の3次元測定装置であって、
前記測定対象物は、前記光が照射される照射面を有し、
前記4以上の照明のうち、少なくとも1つの照明は、他の照明とは前記照射面に対する光の照射角度が異なる
3次元測定装置。 - 請求項1に記載の3次元測定装置であって、
開口部を有し、前記測定対象物の上方に配置され、面発光により前記測定対象物に光を照射する面発光照明部と、
前記開口部の位置に、前記撮像部と同軸で配置された同軸落射照明と
をさらに具備する3次元測定装置。 - 4以上の照明によってそれぞれ順番に光が照射された測定対象物を撮像して、制御部を備える3次元測定装置の当該制御部により4以上の前記測定対象物の画像を取得し、
前記制御部により、前記4以上の画像から少なくとも3枚の画像を選ぶ複数の組み合わせのうち、前記測定対象物の3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測し、
前記制御部により、推測された前記組み合わせに基づいて、前記測定対象物を3次元測定し、
前記組み合わせを推測するステップでは、前記制御部により、前記複数の組み合わせ毎に、それぞれ、前記各組み合わせに含まれる画像に基づいて、前記測定対象物を3次元測定する処理を繰り返し、前記各組み合わせにおける3次元測定の結果のバラつき度を判定し、前記バラつき度に基づいて、前記測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測する
3次元測定方法。 - 3次元測定装置に、
4以上の照明によってそれぞれ順番に光が照射された測定対象物を撮像して、4以上の前記測定対象物の画像を取得するステップと、
前記4以上の画像から少なくとも3枚の画像を選ぶ複数の組み合わせのうち、前記測定対象物の3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測するステップと、
推測された前記組み合わせに基づいて、前記測定対象物を3次元測定するステップとを実行させ、
前記組み合わせを推測するステップでは、前記複数の組み合わせ毎に、それぞれ、前記各組み合わせに含まれる画像に基づいて、前記測定対象物を3次元測定する処理を繰り返し、前記各組み合わせにおける3次元測定の結果のバラつき度を判定し、前記バラつき度に基づいて、前記測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測する
プログラム。 - 4以上の照明によってそれぞれ順番に光が照射された基板を撮像して、制御部を備える3次元測定装置の当該制御部により4以上の前記基板の画像を取得し、
前記制御部により、前記4以上の画像から少なくとも3枚の画像を選ぶ複数の組み合わせのうち、前記基板の3次元測定の測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測し、
前記制御部により、推測された前記組み合わせに基づいて、前記基板を3次元測定し、
前記3次元測定の測定結果に基づいて、前記基板の良否を判定して、良品と判定された基板上に電子部品を実装し、
前記組み合わせを推測するステップでは、前記制御部により、前記複数の組み合わせ毎に、それぞれ、前記各組み合わせに含まれる画像に基づいて、前記基板を3次元測定する処理を繰り返し、前記各組み合わせにおける3次元測定の結果のバラつき度を判定し、前記バラつき度に基づいて、前記測定精度が相対的に高い画像の組み合わせを推測する
基板の製造方法。
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