JP2016203257A - 基板切断方法及び表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下の実施形態において、単数の表現は、文脈上明白に限定しない限り複数の表現を含む。
zinc oxide)のような透明伝導性酸化物を含むグループのうちから少なくとも1つ選択されたものを含んでもよい。また、第1電極FEは、銀(Ag)のように反射率が高い金属を含んでもよい。
選択し得る実施形態として、切断領域201aが表示部DUの少なくとも一領域に重畳してもよい。
選択し得る実施形態として、第2保護層221は、フィルム状の形態を有し基板201に付着することができる。例えば、第2保護層221は、有機物を含むフィルムでもよく、具体的な例として、第2保護層221は、PETフィルムでもよい。
図39に示すように、基板201上に表示部DUが形成されている。表示部DUは、可視光線を具現するように複数種が含まれてもよい。図示していないが、表示部DUは、前述の図23の構成を含んでもよい。
101a,121a,201a,221a 切断領域
111,211 第1保護層
111a,112a,211a,212a 除去領域
111b 予備除去領域
112,212 第1接着層
121,221 第2保護層
122,222 第2接着層
200 表示装置
200D ダミー領域
F 焦点
DU 表示部
EU 封止部
FE 第1電極
IM 中間層
SE 第2電極
LB1 第1レーザ
LB2 第2レーザ
LBS 第1レーザ照射装置
Claims (28)
- 基板の第1面上に第1保護層を形成する段階と、
前記第1保護層に向かうように第1レーザを照射することで、前記第1保護層の一領域が除去された除去領域を形成する段階と、
少なくとも前記除去領域に向け前記除去領域に対応するように第2レーザを照射することで、前記基板の一領域を除去して切断領域を形成する段階と、を含む基板切断方法。 - 前記第1保護層と前記基板の間に、第1接着層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の基板切断方法。
- 前記切断領域を形成する段階を進めた後、前記第1保護層を前記基板から除去する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の基板切断方法。
- 前記第1レーザを前記第1保護層に向かうように照射するとき、前記第1レーザの焦点が前記第1保護層の上面から離隔するように前記第1レーザを制御する段階を含むことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の基板切断方法。
- 前記第2レーザは、パルスレーザであり、数フェムト秒〜数百フェムト秒のパルス幅を有することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の基板切断方法。
- 前記除去領域を形成する段階は、前記第1保護層に前記第1レーザを照射することで、前記第1保護層に複数個の互いに離隔した予備除去領域を形成する段階、
並びに前記互いに離隔した予備除去領域間の領域に対応するように前記第1レーザを照射することで、前記複数個の互いに離隔した予備除去領域及び前記互いに離隔した予備除去領域間の領域を含む除去領域を形成する段階を含むことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の基板切断方法。 - 前記基板の前記第1面の反対面に形成される第2保護層をさらに含むことを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の基板切断方法。
- 前記第2保護層と前記基板との間に、第2接着層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項7に記載の基板切断方法。
- 前記第2レーザを照射することで、前記第2保護層の一領域を除去して切断領域を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項7又は8に記載の基板切断方法。
- 前記第2保護層は、前記第1保護層より薄いことを特徴とする請求項7から9のいずれか1項に記載の基板切断方法。
- 基板上に可視光線を具現する表示部が形成された表示装置を製造する方法に係り、基板の第1面上に第1保護層を形成する段階と、
前記第1保護層に向かうように第1レーザを照射することで、前記第1保護層の一領域が除去された除去領域を形成する段階と、
少なくとも前記除去領域に向け前記除去領域に対応するように第2レーザを照射することで、前記基板の一領域を除去して切断領域を形成する段階と、を含む表示装置の製造方法。 - 前記基板の第1面に前記表示部を形成する段階をさらに含み、
前記表示部を形成する段階は、前記基板上の前記切断領域から離隔するように形成することを特徴とする請求項11に記載の表示装置の製造方法。 - 前記基板の第1面に前記表示部を形成する段階をさらに含み、
前記表示部を形成する段階は、前記基板上の前記切断領域に重畳するように形成することを特徴とする請求項11に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第1保護層は、前記表示部を覆うように形成されることを特徴とする請求項11から13のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第1保護層は、前記表示部を覆わず、前記表示部に重畳しないように形成されることを特徴とする請求項11又は12に記載の表示装置の製造方法。
- 前記表示部上に形成される封止部をさらに含み、前記封止部は、前記表示部と前記第1保護層の間に配置されることを特徴とする請求項11から14のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第1保護層と前記基板との間に、第1接着層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項11から16のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。
- 第1接着層を形成する段階をさらに含み、前記第1接着層は、前記第1保護層と前記表示部の間に配置されることを特徴とする請求項11から14及び16のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記切断領域を形成する段階を進めた後、前記第1保護層を前記基板から除去する段階をさらに含むことを特徴とする請求項11から18のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第1レーザを前記第1保護層に向かうように照射するとき、前記第1レーザの焦点が前記第1保護層の上面から離隔するように前記第1レーザを制御する段階を含むことを特徴とする請求項11から19のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第2レーザは、パルスレーザであり、数フェムト秒〜数百フェムト秒のパルス幅を有することを特徴とする請求項11から20のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記除去領域を形成する段階は、前記第1保護層に前記第1レーザを照射することで、前記第1保護層に複数個の互いに離隔した予備除去領域を形成する段階、
並びに前記互いに離隔した予備除去領域間の領域に対応するように前記第1レーザを照射することで、複数個の前記互いに離隔した予備除去領域及び前記互いに離隔した予備除去領域間の領域を含む除去領域を形成する段階を含むことを特徴とする請求項11から21のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。 - 前記基板の前記第1面の反対面に形成される第2保護層をさらに含むことを特徴とする請求項11から22のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第2保護層と前記基板との間に、第2接着層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項23に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第2レーザを照射することで、前記第2保護層の一領域を除去して切断領域を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項23又は24に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第2保護層は、前記第1保護層より薄いことを特徴とする請求項23から25のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記切断領域を基準に、表示装置及び前記表示装置と隣接したダミー領域が形成され、前記表示装置と前記ダミー領域との間に前記切断領域が配置されることを特徴とする請求項11から26のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記切断領域を基準に、表示装置及び前記表示装置と隣接した他の表示装置が形成され、前記表示装置及び前記他の表示装置の間に前記切断領域が配置されることを特徴とする請求項11から26のいずれか1項に記載の表示装置の製造方法。
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