JP2016171209A - Dc−dcコンバータモジュールおよび製造方法 - Google Patents

Dc−dcコンバータモジュールおよび製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】放射電磁ノイズを低減するために適したDC−DCコンバータモジュールを提供する。【解決手段】DC−DCコンバータモジュール1は、多層基板10内に形成されたコイル31と、多層基板10の一方主面に実装されたスイッチングICチップ32とを備え、多層基板10は、複数の磁性体層を積層してなるコア磁性体層12と、コア磁性体層12の一方主面および他方主面にそれぞれ形成された第1の非磁性体層14および第2の非磁性体層15と、第1の非磁性体層14の表面に形成された表面磁性体層16と、を有し、スイッチングICチップ32は、表面磁性体層16に実装されており、コイル31は、第1の非磁性体層14および表面磁性体層16を介してスイッチングICチップ32に接続されている。【選択図】図1

Description

本発明は、DC−DCコンバータモジュールに関し、特には、DC−DCコンバータモジュールから放射される電磁ノイズを低減するための技術に関する。
従来、多層基板内にコイルが形成され、前記多層基板の一方主面に前記コイルに接続されたスイッチングICチップを実装したDC−DCコンバータモジュールが知られている。コイルは複数の磁性体層を積層してなる積層体に内蔵するのが一般的であるが、磁性体層(特にセラミック磁性体層)は比較的脆いため、磁性体単独ではモジュール用の基板としては使いにくい。
これに対して、特許文献1には、高透磁率の複数の磁性体層を積層してなる多層基板の一方主面および他方主面の各表層に、低透磁率の磁性体層または非磁性体層が形成されたDC−DCコンバータモジュールが開示されている。
このような構成は、磁性体層と比べて一般的に熱膨張係数の小さな非磁性体層を前記多層基板の両側表層に形成することで、前記多層基板の機械的強度を向上できる点で優れている。また、各表層の前記低透磁率の磁性体層または前記非磁性体層に設けた低インダクタンスの配線でDC−DCコンバータ回路を構成できる点でも優れている。
国際公開第2007/145189号
しかしながら、近年、スイッチングICチップにおけるスイッチング周波数の高周波化が進んでおり、特許文献1に開示されるDC−DCコンバータモジュールには、放射電磁ノイズを低減するための改善の余地があり得る。
そこで、本発明は、高い基板強度を有しつつも、放射電磁ノイズを低減したDC−DCコンバータモジュールを提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の一態様に係るDC−DCコンバータモジュールは、多層基板内に形成されたコイルと、前記多層基板の一方主面に実装されたスイッチングICチップとを備えるDC−DCコンバータモジュールであって、前記多層基板は、複数の磁性体層を積層してなるコア磁性体層と、前記コア磁性体層の一方主面および他方主面にそれぞれ形成された第1の非磁性体層および第2の非磁性体層と、前記第1の非磁性体層の表面に形成された表面磁性体層と、を有し、前記スイッチングICチップは、前記表面磁性体層に実装されており、前記コイルは、前記第1の非磁性体層および前記表面磁性体層を介して前記スイッチングICチップに接続されている。
このような構成によれば、前記多層基板の内部で生じた電磁ノイズが前記表面磁性体層によって遮蔽されることで、前記多層基板から放射される電磁ノイズが低減される。
また、前記DC−DCコンバータモジュールは、さらに金属ケースを有し、前記スイッチングICチップは前記表面磁性体層上の前記金属ケースによって覆われた領域に配置されていてもよい。
このような構成によれば、前記スイッチングICチップで生じた電磁ノイズが前記金属ケースおよび前記表面磁性体層によって遮蔽されるので、前記DC−DCコンバータモジュールの外部に放射される電磁ノイズが低減される。前記金属ケースによる電磁ノイズの遮蔽効果を高めるために、前記金属ケースは、グランドに接続されていてもよい。
また、前記表面磁性体層においては、層間接続導体および面内配線導体のうち層間接続導体のみが形成されていてもよい。
このような構成によれば、前記DC−DCコンバータモジュールにおいて、前記表面磁性層に形成されることで不要なインダクタンス成分を持ち易い面内配線導体を用いることなく、DC−DCコンバータ回路を構成することができる。
また、前記表面磁性体層の厚みは前記第1の非磁性体層の厚みよりも小さくてもよい。
このような構成によれば、一般的に磁性体層の機械的強度は非磁性体層の機械的強度よりも小さいことから、前記表面磁性体層を前記第1の非磁性体層よりも薄く設けることで、前記多層基板の全体的な強度の低下を抑制できる。
また、上記目的を達成するために、本発明の一態様に係るDC−DCコンバータモジュールの製造方法は、多層基板内に形成されたコイルと、前記多層基板の一方主面に実装されたスイッチングICチップとを備えるDC−DCコンバータモジュールの製造方法であって、前記多層基板は、複数の磁性体層を積層してなるコア磁性体層と、前記コア磁性体層の一方主面および他方主面にそれぞれ形成された第1の非磁性体層および第2の非磁性体層と、前記第1の非磁性体層の表面に形成された表面磁性体層と、を有し、前記製造方法は、前記第2の非磁性体層、前記コア磁性体層に含まれる複数の磁性体層、前記第1の非磁性体層および前記表面磁性体層を構成するための複数のセラミックグリーンシートに、前記コイルおよびDC−DCコンバータ回路を形成するための導体を配置する工程と、前記導体が配置された前記セラミックグリーンシートを、前記多層基板に含まれる層の順に積層することにより、未焼成の積層体を作製する工程と、前記未焼成の積層体を焼成する工程と、前記多層基板の前記表面磁性体層に、前記スイッチングICチップを実装する工程と、を含む。
このような製造方法によれば、前記多層基板の内部で生じた電磁ノイズが前記表面磁性体層によって遮蔽されることで、前記多層基板から放射される電磁ノイズを低減できるDC−DCコンバータモジュールが製造される。
本発明のDC−DCコンバータモジュールによれば、高い基板強度を有しつつ、放射電磁ノイズを低減することができる。
実施の形態1に係るDC−DCコンバータモジュールの断面構造の一例を概念的に示す図である。 実施の形態1に係る多層基板を構成する主な層に設けられる導体の配置の一例を示す上面図である。 実施の形態1に係るDC−DCコンバータモジュールの外観の一例を示す斜視図である。 実施の形態1に係るDC−DCコンバータ回路の一例を示す回路図である。 実施の形態2に係るDC−DCコンバータモジュールの断面構造の一例を概念的に示す図である。 実施の形態2に係るDC−DCコンバータモジュールの外観の一例を示す斜視図である。 変形例に係るDC−DCコンバータモジュールの断面構造の一例を概念的に示す図である。
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下で説明する実施の形態は、いずれも包括的または具体的な例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置および接続形態、製造工程、および製造工程の順序などは、一例であり、本発明を限定する主旨ではない。以下の実施の形態における構成要素のうち、独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。また、図面に示される構成要素の大きさまたは大きさの比は、必ずしも厳密ではない。
(実施の形態1)
実施の形態1に係るDC−DCコンバータモジュールは、内部にコイルが形成された多層基板の一方主面に前記コイルに接続されたスイッチングICチップを実装してなるDC−DCコンバータモジュールであり、前記多層基板の前記一方主面の表層に表面磁性体層が形成される。
図1は、DC−DCコンバータモジュール1の断面構造の一例を概念的に示す図である。以下では、簡明のため、同種の構成要素を同じ模様で示して符号を適宜省略し、また、厳密には別断面にある構成要素を同一図面内に示して説明することがある。
図1に示されるように、DC−DCコンバータモジュール1は、多層基板10内にコイル31を形成し、多層基板10の一方主面にスイッチングICチップ32およびチップコンデンサ33を実装して構成される。
多層基板10は、コア磁性体層12と、コア磁性体層12の一方主面および他方主面にそれぞれ形成された第1の非磁性体層14および第2の非磁性体層15と、第1の非磁性体層14の表面に形成された表面磁性体層16と、を有している。表面磁性体層16および第2の非磁性体層15は、多層基板10の前記一方主面の表層および前記他方主面の表層としてそれぞれ形成され、多層基板10において露出している。
図1の例では、第2の非磁性体層15は、非磁性体層151〜153を積層してなり、コア磁性体層12は、磁性体層121〜129を積層してなり、第1の非磁性体層14は、非磁性体層141〜142を積層してなる。
ここで、表面磁性体層16の厚みaは、第1の非磁性体層14の厚みbよりも薄くてもよい。
多層基板10には、コイル31を含むDC−DCコンバータ回路を形成するための各種の導体が設けられる。前記導体には、DC−DCコンバータモジュール1をプリント配線基板等のマザー基板に実装するための表面電極17、スイッチングICチップ32やチップコンデンサ33を多層基板10に実装するための表面電極18、各磁性体層や各非磁性体層の主面に沿って形成された面内配線導体19、および、各磁性体層や各非磁性体層の厚み方向に形成された層間接続導体20が含まれる。
第1の非磁性体層14および第2の非磁性体層15は、例えば、低透磁率または非磁性のセラミックスで構成される。コア磁性体層12の各層および表面磁性体層16は、例えば、第1の非磁性体層14および第2の非磁性体層15と比べて透磁率が大きい磁性セラミックスで構成される。
磁性セラミックスには、例えば、磁性フェライトセラミックスが用いられる。具体的には、酸化鉄を主成分とし、亜鉛、ニッケルおよび銅のうち少なくとも1つ以上を含むフェライトが用いられ得る。また、非磁性のセラミックスには、例えば、非磁性フェライトセラミックスやアルミナを主成分とするアルミナセラミックスが用いられ得る。
表面電極17、18、面内配線導体19および層間接続導体20には、例えば、銀を主成分とする金属または合金が用いられ得る。表面電極17、18には、例えば、ニッケル、パラジウム、または金によるめっきが施されていてもよい。
多層基板10の各層を構成する磁性フェライトセラミックスと非磁性フェライトセラミックスはいわゆるLTCCセラミックス(Low Temperature Co−fired Ceramics)であり、多層基板10の焼成温度が銀の融点以下であって、前記導体に銀を用いることが可能になる。抵抗率の低い銀を用いて面内配線導体19および層間接続導体20を構成することで、損失が少なく電力効率などの回路特性に優れたDC−DCコンバータ回路が形成される。特に、前記導体に銀を用いることで、例えば大気などの酸化性雰囲気下で多層基板10を焼成できる。
図2は、多層基板10を構成する層に設けられる導体の配置の一例を示す上面図である。図2では、積層の順に、非磁性体層151〜153(第2の非磁性体層15を構成)、磁性体層121〜129(コア磁性体層12を構成)、非磁性体層141〜142(第1の非磁性体層14を構成)、および表面磁性体層16での導体の配置が示されている。
非磁性体層151の裏側には、表面電極17として、グランド端子PGND、入力端子Pin、出力端子Poutおよびイネーブル端子PENが設けられている。これらの各端子は、マザー基板の対応する端子に、はんだ等の導電性接合材を介して接続される。
表面磁性体層16の表側には、表面電極18として、グランド端子GND、入力端子Vin、出力端子Lo、フィードバック端子FB、イネーブル端子EN、およびチップコンデンサ接続端子Ca、Cbが設けられている。これらの各端子は、スイッチングICチップ32の対応する端子またはチップコンデンサ33の対応する端子に、はんだ等の導電性接合材を介して接続される。
非磁性体層152には、引回し用の面内配線導体a、面内配線導体b、面内配線導体cおよび面内配線導体dが形成されている。面内配線導体a〜dは、積層後の多層基板10において非磁性体層152と非磁性体層153との界面に位置する。
同様に、非磁性体層141には、引回し用の面内配線導体A、面内配線導体B、面内配線導体Cおよび面内配線導体Dが形成されている。面内配線導体A〜Dは、積層後の多層基板10において非磁性体層141と非磁性体層142との界面に位置する。
磁性体層121〜128には、それぞれコイル31を構成するためのループ状の面内配線導体W1〜W8が構成されている。
面内配線導体W1の一端W1aは、磁性体層122〜129、非磁性体層141〜142および表面磁性体層16に設けられた層間接続導体を介して、出力端子Loに接続されている。
面内配線導体W1の他端W1bは磁性体層122に設けられた層間接続導体を介して面内配線導体W2の一端W2aに接続されている。
面内配線導体W2の他端W2bは磁性体層123に設けられた層間接続導体を介して面内配線導体W3の一端W3aに接続されている。
面内配線導体W3の他端W3bは磁性体層124に設けられた層間接続導体を介して面内配線導体W4の一端W4aに接続されている。
面内配線導体W4の他端W4bは磁性体層125に設けられた層間接続導体を介して面内配線導体W5の一端W5aに接続されている。
面内配線導体W5の他端W5bは磁性体層126に設けられた層間接続導体を介して面内配線導体W6の一端W6aに接続されている。
面内配線導体W6の他端W6bは磁性体層127に設けられた層間接続導体を介して面内配線導体W7の一端W7aに接続されている。
面内配線導体W7の他端W7bは磁性体層128に設けられた層間接続導体を介して面内配線導体W8の一端W8aに接続されている。
面内配線導体W8の他端W8bは、磁性体層129、非磁性体層141〜142および表面磁性体層16にそれぞれ設けられた層間接続導体、ならびに非磁性体層141に設けられた面内配線導体Cを介してフィードバック端子FBに接続されている。また、面内配線導体W8の他端W8bは、磁性体層121〜128および非磁性体層151〜153にそれぞれ設けられた層間接続導体、ならびに非磁性体層152に設けられた面内配線導体cを介して出力端子Poutに接続されている。
グランド端子GNDは、表面磁性体層16、非磁性体層141〜142、磁性体層121〜129および非磁性体層151〜153にそれぞれ設けられた層間接続導体、ならびに非磁性体層141に設けられた面内配線導体Aおよび非磁性体層152に設けられた面内配線導体aを介して、グランド端子PGNDに接続されている。また、グランド端子GNDは、表面磁性体層16および非磁性体層142にそれぞれ設けられた層間接続導体、ならびに非磁性体層141に設けられた面内配線導体Aを介して、チップコンデンサ33用の端子Caに接続されている。
入力端子Vinは、表面磁性体層16、非磁性体層141〜142、磁性体層121〜129および非磁性体層151〜153にそれぞれ設けられた層間接続導体、ならびに非磁性体層141に設けられた面内配線導体Bおよび非磁性体層152に設けられた面内配線導体bを介して、入力端子Pinに接続されている。また、入力端子Vinは、表面磁性体層16および非磁性体層142にそれぞれ設けられた層間接続導体、ならびに非磁性体層141に設けられた面内配線導体Bを介して、チップコンデンサ33用の端子Cbに接続されている。
イネーブル端子ENは、表面磁性体層16、非磁性体層141〜142、磁性体層121〜129および非磁性体層151〜153にそれぞれ設けられた層間接続導体、ならびに非磁性体層141に設けられた面内配線導体Dおよび非磁性体層152に設けられた面内配線導体dを介して、イネーブル端子PENに接続されている。
このように、表面磁性体層16には、スイッチングICチップ32およびチップコンデンサ33を実装するための端子電極および各端子電極に接続された層間接続導体が形成されているだけで、引回しのための面内配線導体は設けられていない。
なお、多層基板10を構成する各層における導体の配置は、図2の例には限られない。例えば、面内配線導体19を隣接する層の対向する主面に配置するなど、適宜の変更が可能である。
多層基板10は、例えば、これらの導体が形成される予定位置に導体ペーストを配置した非磁性または磁性の複数のセラミックグリーンシートを重ねて一体化し、これを一括して焼成することにより形成される。
図3は、DC−DCコンバータモジュール1の外観の一例を示す斜視図である。
図3に示されるように、DC−DCコンバータモジュール1は、多層基板10の表面磁性体層16に、スイッチングICチップ32およびチップコンデンサ33を実装して構成される。DC−DCコンバータモジュール1は、第2の非磁性体層15に設けられた図示されていない表面電極17を介して、入力直流電力を受け取り安定化された出力直流電力に変換して外部回路に供給する。
図4は、DC−DCコンバータモジュール1を利用したDC−DCコンバータ回路の一例を示す回路図である。
DC−DCコンバータモジュール1において、コイル31、スイッチングICチップ32およびチップコンデンサ33が、多層基板10に形成された導体で接続されることにより、図4に示されるようなDC−DCコンバータ回路が形成される。つまり、当該DC−DCコンバータ回路は、スイッチングIC、インダクタL1、入力側の平滑用コンデンサC1および出力側の平滑用コンデンサC2を備えている。このうち、スイッチングIC、インダクタL1および入力側の平滑用コンデンサC1を一体化した複合部品はDC−DCコンバータモジュール1である。なお、DC−DCコンバータモジュール1には、平滑用コンデンサC2をさらに一体化してあってもよい。スイッチングICは、スイッチング方式のコンバータ回路のスイッチングを制御するためのICであり、内部には、例えばMOS型FET等のスイッチング素子を有している。
このDC−DCコンバータ回路において、スイッチングICの端子Vinには入力電圧が印加され、スイッチングICの端子Loからは、インダクタL1を介して出力電圧が出力される。
コンデンサC1の一端は、端子Pinと端子Vinとの間の入力電圧用電源ラインに接続され、コンデンサC1の他端はグランド端子PGNDに接続されている。コンデンサC2の一端は、端子Poutと端子P1との間の出力電圧用電源ラインに接続され、コンデンサC2の他端はグランド端子PGNDに接続されている。
スイッチングICのフィードバック端子FBは、インダクタL1と端子Poutとの間の出力電圧用電源ラインに接続され、スイッチングICのグランド端子GNDはグランド端子PGNDに接続され、スイッチングICのイネーブル端子ENはイネーブル端子PENに接続されている。
このDC−DCコンバータ回路は、端子Pinに供給された入力電圧を、スイッチングICに内蔵されているスイッチング素子を所定の周波数にてスイッチングさせ、インダクタL1とコンデンサC2とにより平滑することにより、所望の出力電圧を出力する。また、スイッチングICは、フィードバック端子FBに入力された出力電圧に基づいて、例えば、スイッチング周波数を一定としてパルス幅を可変するPWM(Pulse Width Modulation)制御することによって、出力電圧を設定電圧に安定させるように制御する。
次に、DC−DCコンバータモジュール1の製造方法について説明する。
まず、多層基板10の各層となるセラミックグリーンシートを準備する。具体的には、磁性体セラミック粉末を含んだスラリーをシート成形することによって磁性体層用セラミックグリーンシートを準備し、非磁性体セラミック粉末を含んだスラリーをシート成形することによって非磁性体層用セラミックグリーンシートを準備する。
次いで、所定のセラミックグリーンシートにおいて、例えば、図2で示される配置に従って、特定の位置に貫通孔を形成し、前記貫通孔内に導体ペーストを充填して層間接続導体(ビアホール導体)を形成するとともに、主面上の特定の位置に導体ペーストを印刷して面内配線導体パターンや表面電極パターンを形成する。前記貫通孔は、例えばレーザー加工により形成され、前記面内配線導体パターンや表面電極パターンは、例えばAg粉末を含んだ導体ペーストのスクリーン印刷によりパターニングされ得る。
次いで、導体ペーストが配置された前記複数のセラミックグリーンシートを、位置合わせをして積層・圧着し、未焼成の積層体に一体化した後、一括して焼成する。この焼成により、各グリーンシート中の磁性体セラミック粉末、非磁性体セラミック粉末が焼結するとともに、導体ペースト中のAg粉末が焼結する。
次に、焼成された積層体の表面磁性体層16に露出している表面電極18および第2の非磁性体層15に露出している表面電極17にめっきが施される。具体的には、無電解めっきにより、ニッケル/金のめっき膜を形成する。その後、表面電極18にスイッチングICチップ32およびチップコンデンサ33をリフローはんだ付け等により実装する。
以上のようにして、表面磁性体層16にスイッチングICチップ32およびチップコンデンサ33が実装されたDC−DCコンバータモジュール1が完成する。完成したDC−DCコンバータモジュール1は、下面側の表面電極17を介して、プリント配線板等のマザー基板に実装される。
なお、上述の製造方法に従って、複数のDC−DCコンバータモジュール1の集合体を作製した後、個々のDC−DCコンバータモジュール1に個片化してもよい。
次に、DC−DCコンバータモジュール1の効果について説明する。
DC−DCコンバータモジュール1では、図1に示されるように、コイル31は、第1の非磁性体層14および表面磁性体層16を介してスイッチングICチップ32に接続されている。つまり、スイッチングICチップ32とコイル31とは、少なくとも第1の非磁性体層14および表面磁性体層16に形成される層間接続導体20を含む配線で電気的に接続されている。この配線は、DC−DCコンバータ回路のスイッチング周波数での高周波電流が流れることから、電磁ノイズ40の発生源になり得る。
これに対し、DC−DCコンバータモジュール1では、多層基板10のスイッチングICチップ32が実装される一方主面の表層に表面磁性体層16が形成されるので、電磁ノイズ40を含む多層基板10の内部で生じる電磁ノイズは、表面磁性体層16によって遮蔽される。その結果、多層基板10から放射される電磁ノイズが低減される。
なお、表面磁性体層16は、多層基板10の前記一方主面の全面に形成されてもよく、一部領域のみに形成されてもよい。
例えば、表面磁性体層16を、多層基板10の前記一方主面における、上面視でスイッチングICチップ32と重複する領域のみに形成してもよい。この場合、特に、電磁ノイズ40を含む、スイッチングICチップ32に直接接続される配線で生じる電磁ノイズに対して、多層基板10から放射される強度を低減させる効果が得られる。
また、表面磁性体層16を多層基板10の前記一方主面の全面に形成した場合、スイッチングICチップ32に直接接続される配線で生じる電磁ノイズだけでなく、多層基板10の内部で生じるあらゆる電磁ノイズに対して、多層基板10から放射される強度を低減させる効果が得られる。
また、DC−DCコンバータモジュール1では、図1、2に示されるように、表面磁性体層16に、層間接続導体20および面内配線導体19のうち、層間接続導体20、21のみが形成されている。一般的に磁性体層に形成される配線は非磁性体層に形成される配線と比べて大きなインダクタンス成分を持ち易い。そこで、DC−DCコンバータモジュール1では、表面磁性体層16に形成される面内配線導体ではなく、例えば、第1の非磁性体層14に形成される面内配線導体19を用いて、DC−DCコンバータ回路の配線を引き回すことにより、配線が持つ不要なインダクタンス成分を低減できる。
また、DC−DCコンバータモジュール1では、図1に示されるように、表面磁性体層16の厚みaは、第1の非磁性体層14の厚みbよりも薄くてもよい。一般的に磁性体層の機械的強度は非磁性体層の機械的強度よりも小さい。そのため、機械的強度がより小さい表面磁性体層16を機械的強度がより大きい第2の非磁性体層15よりも薄く設けることにより、多層基板10の全体的な機械的強度の低下を抑制することができる。
なお、このような厚みの限定は、多層基板10の全体的な機械的強度を得るために有用であるが、必須ではない。すなわち、多層基板10の機械的強度が許容される限り、表面磁性体層16を厚く設けてもよい。より厚い表面磁性体層16によれば、電磁ノイズの放射を低減する効果が高まるだけでなく、層間接続導体20が貫通している表面磁性体層16がフェライトビーズとして機能することで、電磁ノイズの伝導を抑制する効果も得られる。また、表面磁性体層16が複数層設けられてもよい。
(実施の形態2)
実施の形態2では、多層基板10の内部で発生する電磁ノイズだけでなく、多層基板10に実装された部品で発生する電磁ノイズに対しても遮蔽効果があるDC−DCコンバータモジュールについて説明する。
図5は、実施の形態2に係るDC−DCコンバータモジュール2の断面構造の一例を概念的に示す図である。
図5に示されるように、DC−DCコンバータモジュール2は、DC−DCコンバータモジュール1に、金属ケース22を追加して構成され、多層基板10aが変更される。
金属ケース22は、例えば、銀、銅、鉄及びアルミニウムのうち少なくとも1つ以上を含む金属または合金の薄板で構成されてもよい。
多層基板10aには、層間接続導体21が追加され、磁性体層122a、124a、126a、128aにおける面内配線導体19の配置が変更される。
層間接続導体21は、上面視で多層基板10の外周部に設けられ、多層基板10の側壁の一部は、層間接続導体21が露出するように切り欠かかれていてもよい。層間接続導体21には、層間接続導体20と同様、銀を主成分とする金属または合金が用いられ得る。
また、図示は省略するが、磁性体層122a、124a、126a、128aにそれぞれ配置される面内配線導体W2、W4、W6、W8のループ形状の径が、磁性体層121、123、125、127にそれぞれ配置される面内配線導体W1、W3、W5、W7のループ形状の径と略同一の大きさに拡大される。つまり、コイル31を構成する面内配線導体W1〜W8の形状が、略同一の径に統一される。
DC−DCコンバータモジュール2の他の構成要素は、DC−DCコンバータモジュール1の構成要素と同一であるため、同じ符号を付して説明を省略する。
図6は、DC−DCコンバータモジュール2の外観の一例を示す斜視図である。
図6に示されるように、DC−DCコンバータモジュール2では、スイッチングICチップ32が、表面磁性体層16上の金属ケース22によって覆われた領域24に配置される。領域24には、さらにチップコンデンサ33が配置されてもよい。
このように構成されたDC−DCコンバータモジュール2によれば、DC−DCコンバータモジュール1で得られる効果に加えて、次のような効果が得られる。
DC−DCコンバータモジュール2では、領域24に配置された部品で生じる電磁ノイズ41は、金属ケース22および表面磁性体層16によって遮蔽される。その結果、DC−DCコンバータモジュール2の外部に放射される電磁ノイズが低減される。
電磁ノイズ41を遮蔽する効果は、金属ケース22がDC−DCコンバータ回路から絶縁されていても得られるが、金属ケース22をDC−DCコンバータ回路のグランド電位に接続することでより大きな遮蔽効果を得ることもできる。例えば、図6に示されるように、層間接続導体21を多層基板10aの側壁に露出させ、金属ケース22のつめ23を層間接続導体21に電気的に接続し、層間接続導体21を介して、金属ケース22をグランド電位に接続してもよい。
表面磁性体層16上の金属ケース22によって覆われた領域24には、多層基板10の一方主面に実装される全ての部品が配置されてもよく、少なくともスイッチングICチップ32を含む一部の部品のみが配置されてもよい。
図示は省略するが、例えば、表面磁性体層16を、多層基板10の前記一方主面における、上面視でスイッチングICチップ32と重複する領域のみに形成し、金属ケース22を、表面磁性体層16の対応位置に設けてもよい。そして、スイッチングICチップ32を金属ケース22および表面磁性体層16によって囲まれた空間に配置し、チップコンデンサ33は当該空間の外に配置してもよい。
このような構成によれば、スイッチングICチップ32で発生する電磁ノイズ41に対して、特に効果的に、DC−DCコンバータモジュール2から放射される強度を低減させることができる。
(変形例)
以上、本発明の実施の形態に係るDC−DCコンバータモジュールについて説明したが、本発明は、個々の実施の形態には限定されない。本発明の趣旨を逸脱しない限り、当業者が思いつく各種変形を本実施の形態に施したものや、異なる実施の形態における構成要素を組み合わせて構築される形態も、本発明の一つまたは複数の態様の範囲内に含まれてもよい。
例えば、上記実施の形態に次のような変形を施した態様も、本発明に含まれ得る。
図7は、変形例に係るDC−DCコンバータモジュール3の断面構造の一例を概念的に示す図である、
図7に示されるように、DC−DCコンバータモジュール3は、DC−DCコンバータモジュール2の多層基板10aを、多層基板10bに置き換えて構成される。多層基板10bは、多層基板10aと比べて、コア磁性体層12bとして積層される複数の層のうちの1層が非磁性体層125bで構成される点、およびコイル31を構成する面内配線導体19間に積層方向に空隙25が形成される点で異なっている。DC−DCコンバータモジュール3の他の構成要素は、DC−DCコンバータモジュール2の構成要素と同一であるため、同じ符号を付して説明を省略する。
多層基板10bは、例えば、導体および空隙が形成される予定位置にそれぞれ導体ペーストおよび熱消失性ペーストを配置した非磁性または磁性の複数のセラミックグリーンシートを重ねて一体化し、一括して焼成することにより形成される。
このように構成されたDC−DCコンバータモジュール3によれば、DC−DCコンバータモジュール1、2で得られる効果に加えて、次のような効果が得られる。
非磁性体層125bを形成することで、コイル31の直流重畳特性が改善される。また、空隙25を形成することで、焼成の際に多層基板10bにかかる応力が緩和され、多層基板10bの変形による破損やコイル31の特性変動が抑制される。
以上説明したように、本発明に係るDC−DCコンバータモジュールによれば、多層基板10、10a、10bの一方主面の表層に表面磁性体層16を形成したので、多層基板10、10a、10bの内部で生じる電磁ノイズが表面磁性体層16で遮蔽され、その結果、DC−DCコンバータモジュール1、2、3から放射される電磁ノイズの強度が低減される。また、DC−DCコンバータモジュール2、3では、放射される電磁ノイズが、金属ケース22によってさらに低減される。
また、表面磁性体層は、必ずしも多層基板の全面に設けられている必要は無い。DC−DCコンバータモジュールでは、スイッチングICチップとコイルとを接続する配線からの放射電磁ノイズが最も大きなノイズ源となることが多いため、この部分を部分的に磁性体層にて覆ってもよい。
なお、本発明では、多層基板の各層の厚みや形状、金属ケースの厚みや形状、導体および空隙の位置や大きさなどの各種の寸法値は、特には限定されない。また、多層基板の各層を構成するセラミックス材料の成分および成分の配合比、透磁率などの物性値、多層基板内の導体や金属ケースに用いられる材料の成分および成分の配合比、導電率などの物性値も、特には限定されない。これらの数値は、DC−DCコンバータ回路の定格出力や、スイッチング周波数などの各種の電気的特性の必要に応じて適宜決定されるものとする。
また、本発明のDC−DCコンバータモジュールは、DC−DCコンバータとしての機能のみを持ったモジュールに限定されるものではない。例えば、DSP(Digital Signal Processor)機能等、他の機能を有していてもよい。
本発明は、超小型のDC−DCコンバータモジュールとして、携帯情報端末やデジタルカメラなどの電子機器に広く利用できる。
1、2、3 DC−DCコンバータモジュール
10、10a、10b 多層基板
12、12a、12b コア磁性体層
14 第1の非磁性体層
15 第2の非磁性体層
16 表面磁性体層
17、18 表面電極
19 面内配線導体
20、21 層間接続導体
22 金属ケース
23 つめ
24 領域
25 空隙
31 コイル
32 スイッチングICチップ
33 チップコンデンサ
40、41 電磁ノイズ
121〜129、122a、124a、126a、128a 磁性体層
125b、141、142、151〜153 非磁性体層

Claims (5)

  1. 多層基板内に形成されたコイルと、前記多層基板の一方主面に実装されたスイッチングICチップとを備えるDC−DCコンバータモジュールであって、
    前記多層基板は、複数の磁性体層を積層してなるコア磁性体層と、前記コア磁性体層の一方主面および他方主面にそれぞれ形成された第1の非磁性体層および第2の非磁性体層と、前記第1の非磁性体層の表面に形成された表面磁性体層と、を有し、
    前記スイッチングICチップは、前記表面磁性体層に実装されており、
    前記コイルは、前記第1の非磁性体層および前記表面磁性体層を介して前記スイッチングICチップに接続されている、
    DC−DCコンバータモジュール。
  2. さらに金属ケースを有し、前記スイッチングICチップは前記表面磁性体層上の前記金属ケースによって覆われた領域に配置されている、
    請求項1に記載のDC−DCコンバータモジュール。
  3. 前記表面磁性体層においては、層間接続導体および面内配線導体のうち層間接続導体のみが形成されている、
    請求項1又は2に記載のDC−DCコンバータモジュール。
  4. 前記表面磁性体層の厚みは前記第2の非磁性体層の厚みよりも小さい、
    請求項1〜3の何れか1項に記載のDC−DCコンバータモジュール。
  5. 多層基板内に形成されたコイルと、前記多層基板の一方主面に実装されたスイッチングICチップとを備えるDC−DCコンバータモジュールの製造方法であって、
    前記多層基板は、複数の磁性体層を積層してなるコア磁性体層と、前記コア磁性体層の一方主面および他方主面にそれぞれ形成された第1の非磁性体層および第2の非磁性体層と、前記第1の非磁性体層の表面に形成された表面磁性体層と、を有し、
    前記製造方法は、
    前記第2の非磁性体層、前記コア磁性体層に含まれる複数の磁性体層、前記第1の非磁性体層および前記表面磁性体層を構成するための複数のセラミックグリーンシートに、前記コイルおよびDC−DCコンバータ回路を形成するための導体を配置する工程と、
    前記導体が配置された前記セラミックグリーンシートを、前記多層基板に含まれる層の順に積層することにより、未焼成の積層体を作製する工程と、
    前記未焼成の積層体を焼成する工程と、
    前記多層基板の前記表面磁性体層に、前記スイッチングICチップを実装する工程と、
    を含むDC−DCコンバータモジュールの製造方法。
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