JP2016161939A - ネガティブ型感光性樹脂組成物、それから形成された光硬化パターン、及びそれを含む画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】エポキシ基またはオキセタン基を有するアルカリ可溶性樹脂、エポキシ基を有するノボラックオリゴマー系硬化剤、及び三官能以上の多官能チオール化合物、を含むことによって、顕著に改善された耐化学性を有し、エチャント処理以後にも、優れた密着力を有し、表面損傷や膜収縮が発生しないパターンを製造できるネガティブ型感光性樹脂組成物。
【選択図】なし
Description
e=10〜30mol%、f=30〜60mol%、g=20〜50mol%)。
〈感光性樹脂組成物〉
本発明の感光性樹脂組成物は、エポキシ基またはオキセタン基を有するアルカリ可溶性樹脂;エポキシ基を有するノボラックオリゴマー系硬化剤;及び三官能以上の多官能チオール化合物;を含む。
本発明に使用されるアルカリ可溶性樹脂は、パターンを形成するときの現像処理工程で利用されるアルカリ現像液に対して可溶性を付与する成分であって、本発明によるアルカリ可溶性樹脂は、エポキシ基またはオキセタン基を有する。
e=10〜30mol%、f=30〜60mol%、g=20〜50mol%)。
本発明の感光性樹脂組成物は、エポキシ基を有するノボラックオリゴマー系硬化剤を含む。
エポキシ基を有するノボラックオリゴマー系硬化剤を前述したエポキシ基またはオキセタン基を有するアルカリ可溶性樹脂とともに使用する場合、製造されたパターンのエチャント、ストリッパー等の薬液に対する耐化学性を顕著に改善できる。
本発明の感光性樹脂組成物に使用される重合性化合物は、製造工程中に架橋密度を増加させ、光硬化パターンの機械的特性を強化させることができる。
本発明による多官能チオール化合物は、三官能以上のチオール化合物であって、エポキシ基の1次開環剤である。したがって、前述したアルカリ可溶性樹脂及び硬化剤とともに使用され、架橋密度を向上させて、光硬化パターンの耐久性及び基材との密着性を向上させ、高温における黄変現像を防止する機能をする。
nが4、6または8の場合のXとしては、例えば下記化学式6で表示される4、6または8価の基等をそれぞれ好ましいものとして挙げられる。
本発明による光重合開始剤は、前記重合性化合物を重合させることができるものなら、その種類を特に制限することなく使用することができ、例えば、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、ビイミダゾール系化合物、チオキサントン系化合物、オキシムエステル系化合物よりなる群から選択された少なくとも1種の化合物を使用することができ、好ましくはオキシムエステル系化合物を使用することが好ましい。
溶媒は、当該分野で通常的に使用するものなら、いずれのものでも制限なしに使用し得る。
前記溶媒の具体的な例としては、エチレングリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレングリコールジアルキルエーテル類;エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類;プロピレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコールジアルキルエーテル類;プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類;ブチルジオールモノアルキルエーテル類;ブタンジオールモノアルキルエーテルアセテート類;ブタンジオールモノアルキルエーテルプロピオネート類;ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類;芳香族炭化水素類;ケトン類;アルコール類;エステル類;環状エーテル類;環状エステル類等が挙げられる。ここで例示した溶媒は、それぞれ単独にまたは2種以上を混合して使用し得る。
本発明による感光性樹脂組成物は、必要に応じて充填剤、他の高分子化合物、硬化剤、レーベリング剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、連鎖移動剤等の添加剤をさらに含むことができる。
本発明は、前記感光性樹脂組成物で製造される光硬化パターンと、前記光硬化パターンとを含む画像表示装置を提供することを目的とする。
還流冷却器、滴下漏斗及び撹拌器を具備した1Lのフラスコ内に窒素を0.02L/分で流して、窒素雰囲気にし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200gを導入し、100℃に昇温後、アクリル酸24.5g(0.34モル)、ノルボルネン4.7g(0.05モル)、ビニルトルエン72.1g(0.61モル)及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート150gを含む混合物に2、2'−アゾビス(2、4−ジメチルバレロニトリル)3.6gを添加した溶液を滴下ロートから2時間にわたってフラスコに滴下し、100℃で5時間さらに撹拌を継続した。
還流冷却器、滴下漏斗及び撹拌器を具備した1Lのフラスコ内に窒素を0.02L/分で流して、窒素雰囲気にし、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル150gを入れて撹拌しつつ、70℃まで加熱した。引き続いて、下記化学式7及び化学式8の混合物(モル比は50:50)132.2g(0.60mol)、3−エチル−3−オキセタニルメタクリレート55.3g(0.30mol)及びメタクリル酸8.6g(0.10mol)をジエチレングリコールメチルエチルエーテル150gに溶解し、溶液を調剤した。
還流冷却器、滴下漏斗及び撹拌器を具備した1Lのフラスコ内に窒素を0.02L/分で流して、窒素雰囲気にし、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル150gを入れて撹拌しながら70℃まで加熱した。引き続いて、下記化学式7及び化学式8の混合物(モル比は50:50)210.2g(0.95mol)、及びメタクリル酸14.5g(0.17mol)をジエチレングリコールメチルエチルエーテル150gに溶解し、溶液を調剤した。
下記表1に記載した組成及び含量(重量部)を有するネガティブ型感光性樹脂組成物を製造した。
縦横2インチのガラス基板(イーグル2000;コーニング社製造)を中性洗剤、水及びアルコールで順次洗浄した後、乾燥した。このガラス基板上に前記実施例及び比較例で製造された感光性樹脂組成物をそれぞれスピンコーティングした後、ホットプレート(Hot plate)を利用して90℃で125秒間プリベークした。前記プリベークした基板を常温で冷却後、石英ガラス製フォトマスクとの間隔を150μmにして露光器(UX−1100SM;Ushio(株)製造)を使用して60mJ/cm2の露光量(365nm基準)で光を照射した。この際、フォトマスクは、次のパターンが同一平面上に形成されたフォトマスクが使用された。
パターンをHNO3水溶液、HCl水溶液にそれぞれ45分/2分間浸漬した後、取り出した。その後、ASTM D−3359−08標準試験条件に基づいてカッターでカッティング(Cutting)した表面にテープを付けてから引き離す方法で密着性を評価した。
4B:剥離が0%超過5%未満
3B:剥離が5%以前記15%未満
2B:剥離が15%以上35%未満
1B:剥離が35%以上65%未満
0B:剥離が65%以上
パターンをHNO3水溶液、HCl水溶液にそれぞれ45分/2分間浸漬し、取り出した後、パターンの表面損傷可否をSEMで観察し、下記のように評価した。
○:1個以上5個未満のパターン表面損傷
△:5個以上30個未満のパターン表面損傷
X:30個以上のパターン表面損傷
パターンをHNO3水溶液、HCl水溶液にそれぞれ45分/2分間浸漬する前後のパターンの厚さ変化を評価した。
○:膜厚の変化が1%以上2%未満
△:膜厚の変化が2%超過5%未満
X:膜厚の変化が5%超過
Claims (10)
- エポキシ基またはオキセタン基を有するアルカリ可溶性樹脂;エポキシ基を有するノボラックオリゴマー系硬化剤;及び三官能以上の多官能チオール化合物;を含む、ネガティブ型感光性樹脂組成物。
- 前記硬化剤は、オリゴマーの繰り返し単位内にエポキシ基を有するものである、請求項1に記載のネガティブ型感光性樹脂組成物。
- 前記硬化剤は、ポリ[(o−クレシルグリシジルエーテル)−コ−ホルムアルデヒド](Poly[(o−cresyl glycidyl ether)−co−formaldehyde]);ポリ[(フェニルグリシジルエーテル)−コ−ホルムアルデヒド](Poly[(phenyl glycidyl ether)−co−formaldehyde]);ポリ(ビスフェノールA−コ−エピクロロヒドリン)、グリシジルエンド−キャップ(Poly(Bisphenol A−co−epichlorohydrin)、glycidyl end−capped);及びホルムアルデヒドと4、4−(1−メチルエチリデン)ビス(フェノール)と(クロロメチル)オキシランの重合体(Formaldehyde、polymer with(chloromethyl)oxirane and 4、4−(1−methyl−ethylidene)bis(phenol))よりなる群から選択された1種以上である、請求項1に記載のネガティブ型感光性樹脂組成物。
- 前記硬化剤は、組成物の全体重量のうち0.5〜5重量%で含まれる、請求項1に記載のネガティブ型感光性樹脂組成物。
- 前記アルカリ可溶性樹脂は、下記化学式1で表示される繰り返し単位を含む第1樹脂と、下記化学式2で表示される繰り返し単位を含む第2樹脂とを含む、請求項1に記載のネガティブ型感光性樹脂組成物:
R5は、(メタ)アクリル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルスクシネート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタレート及び2−(メタ)アクリロイルオキシエチルスクシネートよりなる群から選択される単量体から由来した構造であり、
R6は、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、(2−フェニル)フェノキシエトキシ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−(2−フェニル)フェノールプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−(3−フェニル)フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフリル(メタ)アクリレート、(メタ)スチレン、ビニルトルエン、ビニルナフタレン、N−ベンジルマレイミド、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート及びテトラヒドロフリル(メタ)アクリレートよりなる群から選択される単量体から由来した構造であり、
R7は、下記式(1)〜(9)よりなる群から選択される単量体から由来した構造であり、
R12は、(メタ)アクリル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルスクシネート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタレート及び2−(メタ)アクリロイルオキシエチルスクシネートよりなる群から選択される単量体から由来した構造であり、
R13は、下記式(17)〜(19)よりなる群から選択される単量体から由来した構造であり、
e=10〜30mol%、f=30〜60mol%、g=20〜50mol%)。 - 前記第1樹脂と前記第2樹脂の混合重量比は、15:85〜30:70である、請求項5に記載のネガティブ型感光性樹脂組成物。
- 重合性化合物、光重合開始剤及び溶媒をさらに含む、請求項1に記載のネガティブ型感光性樹脂組成物。
- 請求項1〜7のいずれかに記載のネガティブ型感光性樹脂組成物で形成される、光硬化パターン。
- 前記光硬化パターンは、アレイ平坦化膜パターン、保護膜パターン、絶縁膜パターン、フォトレジストパターン、ブラックマトリックスパターン、カラムスペーサパターン及びブラックカラムスペーサよりなる群から選択される、請求項8に記載の光硬化パターン。
- 請求項8に記載の光硬化パターンを含む画像表示装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113448164A (zh) * | 2020-03-26 | 2021-09-28 | 台湾永光化学工业股份有限公司 | 负型感旋光性树脂组成物及其用途 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI724029B (zh) * | 2016-09-28 | 2021-04-11 | 奇美實業股份有限公司 | 化學增幅型正型感光性樹脂組成物、附有鑄模的基板的製造方法以及電鍍成形體的製造方法 |
KR102383697B1 (ko) * | 2018-03-26 | 2022-04-05 | 동우 화인켐 주식회사 | 네가티브형 감광성 수지 조성물 |
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KR20210104956A (ko) * | 2020-02-17 | 2021-08-26 | 동우 화인켐 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 블랙 매트릭스를 포함하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치 |
KR20210111492A (ko) * | 2020-03-03 | 2021-09-13 | 동우 화인켐 주식회사 | 경화성 수지 조성물, 패턴 및 표시장치 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20100029479A (ko) * | 2008-09-08 | 2010-03-17 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치 |
JP2010107755A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2011132503A (ja) * | 2009-11-25 | 2011-07-07 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 樹脂組成物及び表示装置 |
JP2013171101A (ja) * | 2012-02-20 | 2013-09-02 | Fujifilm Corp | ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、有機el表示装置および液晶表示装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR101401763B1 (ko) * | 2007-12-28 | 2014-05-30 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 평판표시장치 |
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Patent Citations (4)
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---|---|---|---|---|
KR20100029479A (ko) * | 2008-09-08 | 2010-03-17 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치 |
JP2010107755A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2011132503A (ja) * | 2009-11-25 | 2011-07-07 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 樹脂組成物及び表示装置 |
JP2013171101A (ja) * | 2012-02-20 | 2013-09-02 | Fujifilm Corp | ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、有機el表示装置および液晶表示装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113448164A (zh) * | 2020-03-26 | 2021-09-28 | 台湾永光化学工业股份有限公司 | 负型感旋光性树脂组成物及其用途 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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