JP2016134889A - 半導体回路装置、発振器、電子機器および移動体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体回路装置1は、振動子3に接続されるとともに、振動子3を発振させる発振用回路10と、発振用回路10から出力される信号が入力されて発振信号を出力する出力回路30と、感温素子41と、感温素子41から出力される信号に基づいて発振用回路10の特性を調整する特性調整用回路(温度補償回路40)と、出力回路30と電気的に接続され、発振信号が出力される第1接続端子(接続端子OUT)と、を半導体基板100上に有し、平面視において、出力回路30と第1接続端子(接続端子OUT)との距離は、感温素子41と第1接続端子(接続端子OUT)との距離よりも短い。
【選択図】図8
Description
本適用例に係る半導体回路装置は、
振動子に接続されるとともに、前記振動子を発振させる発振用回路と、
前記発振用回路から出力される信号が入力されて発振信号を出力する出力回路と、
感温素子と、
前記感温素子から出力される信号に基づいて前記発振用回路の特性を調整する特性調整用回路と、
前記出力回路と電気的に接続され、前記発振信号が出力される第1接続端子と、
を半導体基板上に有し、
平面視において、前記出力回路と前記第1接続端子との距離は、前記感温素子と前記第1接続端子との距離よりも短い、半導体回路装置である。
上述の半導体回路装置において、
前記出力回路を動作させるための電力を前記出力回路に供給するための第2接続端子と、
前記出力回路と前記第2接続端子とを電気的に接続する第1配線と、
をさらに有し、
前記第1配線と前記感温素子とは、平面視で重なっていなくてもよい。
上述の半導体回路装置において、
平面視において、前記出力回路と前記感温素子とを結ぶ仮想直線と交差する第2配線をさらに有し、
前記第2配線は、前記第1接続端子と電気的に接続されていてもよい。
上述の半導体回路装置において、
平面視において、前記出力回路と前記感温素子とを結ぶ仮想直線と交差する第2配線をさらに有し、
前記第2配線は、前記第2接続端子と電気的に接続されていてもよい。
上述の半導体回路装置において、
前記発振用回路、前記出力回路および前記特性調整用回路のうち少なくとも1つを制御するためのデータを記憶するメモリーをさらに有してもよい。
上述の半導体回路装置において、
前記特性調整用回路は、温度補償回路であってもよい。
上述の半導体回路装置において、
前記出力回路は、分周回路を有してもよい。
本適用例に係る発振器は、
上述のいずれかの半導体回路装置と、
前記振動子と、
前記半導体回路装置と前記振動子とが収容される容器と、
を有する、発振器である。
本適用例に係る電子機器は、
上述のいずれかの半導体回路装置を有する、電子機器である。
本適用例に係る移動体は、
上述のいずれかの半導体回路装置を有する、移動体である。
1−1.回路構成
図1は本実施形態に係る半導体回路装置1の回路図である。図1に示すように、本実施形態に係る半導体回路装置1は、振動子3と接続されて温度補償型発振器となる。
40(「特性調整用回路」の一例)、感温素子41、レギュレーター回路50、メモリー60、スイッチ回路70(「切り替え部」の一例)およびシリアルインターフェース(I/F)回路80を含んで構成されている。なお、本実施形態の半導体回路装置1は、これらの要素の一部を省略または変更し、あるいは他の要素を追加した構成としてもよい。
回路70は温度補償回路40とOUT端子とを電気的に接続するように制御され、出力回路30からの発振信号の出力が停止され、温度補償回路40の出力信号(温度補償電圧)がOUT端子に出力される。また、後述するように、TP端子に入力される信号がハイレベルの時は、振幅制御回路20の発熱部は、発振用回路10と振幅制御回路20の振幅制御部との動作状態に基づいて、入力される直流電流が制御される。
図2は、図1の発振用回路10の回路図である。図2に示すように、発振用回路10は、発振部11と電流源回路12とを備えている。発振部11は振動子3と接続されることでピアース型の発振回路を構成する。発振部11では、振動子3と並列に可変容量素子であるバリキャップ・ダイオードVCD1,VCD2が直列接続されており、バリキャップ・ダイオードVCD1,VCD2に温度補償電圧が印加されることで温度に対して発振部11の容量値が変化し、振動子3の周波数温度特性が補償された発振信号が出力される。
電源依存をカスコード回路よりもさらに低減する、利得増強型のカスコード回路である。このカスコード回路は、基準側のPMOSトランジスターM4のソース電圧をモニターし、電源電圧(Vcc端子の電圧)が変動した場合に、PMOSトランジスターM3,M4のゲート電圧を差動増幅器AMP2により制御して、PMOSトランジスターM1,M2のソース・ドレイン間の電位差の変化をさらに抑制する。電流源回路12の出力抵抗としては、差動増幅器AMP2のゲイン倍だけさらに上がる。電源電圧の変動に対して発振段電流Ioscが安定化し、発振部11の発振周波数変動を抑えられる。
図3は、図1の出力回路30の回路図である。図3に示すように、出力回路30は、Vreg端子にはレギュレーター回路50の出力電圧Vregが印加され、Vclip端子には振幅制御回路20で生成されたクリップド・サイン波出力を得るためのクリップ電圧Vclipが印加される。出力回路30は、分周回路を備えており、DIV端子の電圧レベルにより、IN端子に入力される信号(発振用回路10が出力する発振信号)を2分周するか否かを選択可能に構成されている。本実施形態では、分周切替レジスターDIVの設定値が0のときは、DIV端子がローレベルに設定され、入力信号は、分周されず、MOSトランジスターM31〜M34から成るインバーターで極性が反転され、ノードVBUF1の信号がNOR回路NOR1に伝達する。一方、分周切替レジスターDIVの設定値が1のときは、DIV端子がハイレベルに設定され、入力信号は、分周回路で1/2に分周され、ノードVBUF1の信号がNOR回路NOR1に伝達する。
図4は、図1の振幅制御回路20の回路図である。図4において、NMOSトランジスターM11,M12,M13はディプレッションタイプのMOSトランジスターであり、その他のMOSトランジスターはノーマルタイプ(エンハンスメントタイプ)のMOSトランジスターである。図4に示す振幅制御回路20は、温度補償回路40の調整時にスタティックな電流(直流電流)Ihtを流すことで、通常動作時に出力回路30で発生する熱に相当する熱を発生させる。これにより、通常動作時と温度補償回路40の調整時との間の発熱量の変動が抑えられる。
に設定して振幅を0.1V上げて0.92Vppとすることも可能である。
1−2−1.第1具体例
図8は、第1具体例に係る半導体回路装置1のレイアウト構成を模式的に示す平面図である。なお、図8においては、半導体回路装置1に含まれる回路の一部については記載を省略している。
発熱の影響を受けにくく、感温素子は発振用回路10の温度を正確に検出できるので、例えば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置1を実現できる。
もよい。この場合に、外周部101は、略多角形の1辺と同視できる部分に相当するものとしてもよい。
図9は、第2具体例に係る半導体回路装置1のレイアウト構成を模式的に示す平面図である。なお、図9においては、半導体回路装置1に含まれる回路の一部については記載を省略している。また、第1具体例と同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
図10は、第3具体例に係る半導体回路装置1のレイアウト構成を模式的に示す平面図である。なお、図10においては、半導体回路装置1に含まれる回路の一部については記載を省略している。また、第1具体例および第2具体例と同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
図11は、第4具体例に係る半導体回路装置1のレイアウト構成を模式的に示す平面図である。なお、図11においては、半導体回路装置1に含まれる回路の一部については記載を省略している。また、第1具体例、第2具体例および第3具体例と同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
きるので、例えば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置1を実現できる。なお、本具体例では、発熱する回路として出力回路30を例として挙げているが、これに限らず、動作時に発熱する回路、例えば、発振用回路10や、発振用回路10からの信号が入力され該信号を増幅して出力する増幅回路等であってもよい。
図12は、本実施形態に係る発振器1000を模式的に示す断面図である。発振器1000は、半導体回路装置1と、振動子3と、半導体回路装置1と振動子3とを収容する容器1100と、を含んで構成されている。図12に示される例では、発振器1000は、半導体回路装置1と振動子3とを同一空間内に収容する容器1100を含んで構成されている。また、図12に示される例では、発振器1000は、蓋1200および電極1300を含んで構成されている。図12に示される例では、半導体回路装置1は、1チップで構成されている。また、振動子3としては、基板材料として水晶を用いた水晶振動子、例えば、ATカットやSCカットの水晶振動子や、SAW(Surface Acoustic Wave)共振子やMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)振動子であってもよい。また、振動子3の基板材料としては、水晶の他、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の圧電単結晶や、ジルコン酸チタン酸鉛等の圧電セラミックス等の圧電材料、またはシリコン半導体材料等を用いることができる。振動子3の励振手段としては、圧電効果によるものを用いてもよいし、クーロン力による静電駆動を用いてもよい。なお、本実施形態の振動子3は、基板材料が個片化されたチップ形状の素子としているが、これに限らず、チップ形状の素子が容器に封入されている振動デバイスを用いてもよい。
図14は、本実施形態に係る電子機器300の機能ブロック図である。なお、上述された各実施形態と同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
図16は、本実施形態に係る移動体400の一例を示す図(上面図)である。なお、上述された各実施形態と同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
られる。
Claims (10)
- 振動子に接続されるとともに、前記振動子を発振させる発振用回路と、
前記発振用回路から出力される信号が入力されて発振信号を出力する出力回路と、
感温素子と、
前記感温素子から出力される信号に基づいて前記発振用回路の特性を調整する特性調整用回路と、
前記出力回路と電気的に接続され、前記発振信号が出力される第1接続端子と、
を半導体基板上に有し、
平面視において、前記出力回路と前記第1接続端子との距離は、前記感温素子と前記第1接続端子との距離よりも短い、半導体回路装置。 - 請求項1に記載の半導体回路装置において、
前記出力回路を動作させるための電力を前記出力回路に供給するための第2接続端子と、
前記出力回路と前記第2接続端子とを電気的に接続する第1配線と、
をさらに有し、
前記第1配線と前記感温素子とは、平面視で重なっていない、半導体回路装置。 - 請求項1に記載の半導体回路装置において、
平面視において、前記出力回路と前記感温素子とを結ぶ仮想直線と交差する第2配線をさらに有し、
前記第2配線は、前記第1接続端子と電気的に接続されている、半導体回路装置。 - 請求項2に記載の半導体回路装置において、
平面視において、前記出力回路と前記感温素子とを結ぶ仮想直線と交差する第2配線をさらに有し、
前記第2配線は、前記第2接続端子と電気的に接続されている、半導体回路装置。 - 請求項1ないし4のいずれか1項に記載の半導体回路装置において、
前記発振用回路、前記出力回路および前記特性調整用回路のうち少なくとも1つを制御するためのデータを記憶するメモリーをさらに有する、半導体回路装置。 - 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の半導体回路装置において、
前記特性調整用回路は、温度補償回路である、半導体回路装置。 - 請求項1ないし6のいずれか1項に記載の半導体回路装置において、
前記出力回路は、分周回路を有する、半導体回路装置。 - 請求項1ないし7のいずれか1項に記載の半導体回路装置と、
前記振動子と、
前記半導体回路装置と前記振動子とが収容される容器と、
を有する、発振器。 - 請求項1ないし7のいずれか1項に記載の半導体回路装置を有する、電子機器。
- 請求項1ないし7のいずれか1項に記載の半導体回路装置を有する、移動体。
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