JP2016134889A - 半導体回路装置、発振器、電子機器および移動体 - Google Patents

半導体回路装置、発振器、電子機器および移動体 Download PDF

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Abstract

【課題】周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置、発振器、電子機器および移動体を提供すること。
【解決手段】半導体回路装置1は、振動子3に接続されるとともに、振動子3を発振させる発振用回路10と、発振用回路10から出力される信号が入力されて発振信号を出力する出力回路30と、感温素子41と、感温素子41から出力される信号に基づいて発振用回路10の特性を調整する特性調整用回路(温度補償回路40)と、出力回路30と電気的に接続され、発振信号が出力される第1接続端子(接続端子OUT)と、を半導体基板100上に有し、平面視において、出力回路30と第1接続端子(接続端子OUT)との距離は、感温素子41と第1接続端子(接続端子OUT)との距離よりも短い。
【選択図】図8

Description

本発明は、半導体回路装置、発振器、電子機器および移動体に関する。
温度補償型水晶発振器(TCXO:Temperature Compensated Crystal Oscillator)を構成するATカット水晶振動子は周囲温度の変化により25℃付近を変曲点として3次曲線で近似されるカーブを描いて周波数が変動する。また、発振器を構成する発振回路等も温度特性を有するので、これらの影響によっても周波数が変動する。TCXOでは、この周波数変動を補償する電圧信号を温度補償回路で生成し、発振回路に設けたバリキャップ・ダイオードに印加することで、周囲温度の変化に対する周波数変動を抑えて高い周波数精度を実現している。
このようなTCXOの一例として、特許文献1には、発振回路と、出力バッファー回路と、温度センサー回路とを有する半導体基板を用いたTCXOにおいて、出力バッファー回路と温度センサー回路とを、半導体基板の対角線上の隅部または同一辺上の隅部に配置する構成が開示されている。
特開2007−67967号公報
特許文献1では、発熱源の1つである出力バッファー回路と温度センサー回路との距離が近づくと、出力回路の温度が温度センサー回路に伝わりやすくなって、温度センサー回路で検出する温度が出力回路以外の領域の温度よりも高くなり、温度が正確に検出できない可能性がある。このため、例えば、TCXOの起動時に、温度センサー回路の出力信号に基づいて温度補償を行う場合に、出力回路付近の温度の影響を強く受けすぎてしまい、出力周波数が変動してしまう可能性があった。
本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、本発明のいくつかの態様によれば、周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置、発振器、電子機器および移動体を提供することができる。
本発明は前述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の態様または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]
本適用例に係る半導体回路装置は、
振動子に接続されるとともに、前記振動子を発振させる発振用回路と、
前記発振用回路から出力される信号が入力されて発振信号を出力する出力回路と、
感温素子と、
前記感温素子から出力される信号に基づいて前記発振用回路の特性を調整する特性調整用回路と、
前記出力回路と電気的に接続され、前記発振信号が出力される第1接続端子と、
を半導体基板上に有し、
平面視において、前記出力回路と前記第1接続端子との距離は、前記感温素子と前記第1接続端子との距離よりも短い、半導体回路装置である。
特性調整用回路は、例えば、温度補償回路、周波数調整回路、AFC(Auto FrequencyControl)回路等であってもよい。
発振用回路は、例えば、ピアース発振回路、インバーター型発振回路、コルピッツ発振回路、ハートレー発振回路などの種々の発振回路の一部であってもよい。
本適用例によれば、発熱源の1つである出力回路で発生した熱が第1接続端子を介して放熱されて、半導体回路装置の温度上昇が小さくなる。また、感温素子への熱的影響が小さくなる。したがって、発振用回路は出力回路の発熱の影響を受けにくく、感温素子は発振用回路の温度を正確に検出できるので、例えば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置を実現できる。
[適用例2]
上述の半導体回路装置において、
前記出力回路を動作させるための電力を前記出力回路に供給するための第2接続端子と、
前記出力回路と前記第2接続端子とを電気的に接続する第1配線と、
をさらに有し、
前記第1配線と前記感温素子とは、平面視で重なっていなくてもよい。
第1配線と感温素子とが平面視で重なっていると、出力回路で発生した熱が第1配線を介して感温素子へと伝わりやすくなる。本適用例によれば、第1配線と感温素子とが平面視で重なっていないので、感温素子が出力回路で発生した熱の影響を受けにくい。したがって、感温素子は発振用回路の温度を正確に検出できるので、例えば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置を実現できる。
[適用例3]
上述の半導体回路装置において、
平面視において、前記出力回路と前記感温素子とを結ぶ仮想直線と交差する第2配線をさらに有し、
前記第2配線は、前記第1接続端子と電気的に接続されていてもよい。
本適用例によれば、出力回路で発生した熱が第2配線を介して第1接続端子に放熱される。これによって、感温素子が出力回路で発生した熱の影響を受けにくくなる。したがって、感温素子は発振用回路の温度を正確に検出できるので、例えば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置を実現できる。
[適用例4]
上述の半導体回路装置において、
平面視において、前記出力回路と前記感温素子とを結ぶ仮想直線と交差する第2配線をさらに有し、
前記第2配線は、前記第2接続端子と電気的に接続されていてもよい。
本適用例によれば、出力回路で発生した熱が第2配線を介して第2接続端子に放熱される。これによって、感温素子が出力回路で発生した熱の影響を受けにくくなる。したがって、感温素子は発振用回路の温度を正確に検出できるので、例えば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置を実現できる。
[適用例5]
上述の半導体回路装置において、
前記発振用回路、前記出力回路および前記特性調整用回路のうち少なくとも1つを制御するためのデータを記憶するメモリーをさらに有してもよい。
本適用例によれば、発振用回路、出力回路および特性調整用回路のうち少なくとも1つを容易に制御できる半導体回路装置を実現できる。
[適用例6]
上述の半導体回路装置において、
前記特性調整用回路は、温度補償回路であってもよい。
本適用例によれば、感温素子は発振用回路の温度を正確に検出できるので、高い精度での周波数温度補償が可能な半導体回路装置を実現できる。
[適用例7]
上述の半導体回路装置において、
前記出力回路は、分周回路を有してもよい。
本適用例によれば、起動時の周波数変動を低減させることが可能であり、複数の周波数を選択的に出力可能な半導体回路装置を実現できる。
[適用例8]
本適用例に係る発振器は、
上述のいずれかの半導体回路装置と、
前記振動子と、
前記半導体回路装置と前記振動子とが収容される容器と、
を有する、発振器である。
本適用例によれば、発振用回路は出力回路の発熱の影響を受けにくく、感温素子は発振用回路の温度を正確に検出できるので、例えば、起動時の周波数変動を低減させることが可能な発振器を実現できる。
[適用例9]
本適用例に係る電子機器は、
上述のいずれかの半導体回路装置を有する、電子機器である。
[適用例10]
本適用例に係る移動体は、
上述のいずれかの半導体回路装置を有する、移動体である。
これらの適用例によれば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置を用いるので、信頼性の高い電子機器および移動体を実現することができる。
本実施形態に係る半導体回路装置1の回路図である。 発振用回路10の回路図である。 出力回路30の回路図である。 振幅制御回路20の回路図である。 出力レベル調整レジスターの設定値とD/Aコンバーターの出力電圧およびクリップ電圧との関係の一例を示す図である。 図6(A)および図6(B)は、クリップド・サイン波の出力波形の一例を示す図である。 発振段電流調整レジスターの設定値と差分電流との関係を示す図である。 第1具体例に係る半導体回路装置1のレイアウト構成を模式的に示す平面図である。 第2具体例に係る半導体回路装置1のレイアウト構成を模式的に示す平面図である。 第3具体例に係る半導体回路装置1のレイアウト構成を模式的に示す平面図である。 第4具体例に係る半導体回路装置1のレイアウト構成を模式的に示す平面図である。 本実施形態に係る発振器1000を模式的に示す断面図である。 変形例に係る発振器1000aを模式的に示す断面図である。 本実施形態に係る電子機器300の機能ブロック図である。 電子機器300の一例であるスマートフォンの外観の一例を示す図である。 本実施形態に係る移動体400の一例を示す図(上面図)である。
以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。用いる図面は説明の便宜上のものである。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
1.半導体回路装置
1−1.回路構成
図1は本実施形態に係る半導体回路装置1の回路図である。図1に示すように、本実施形態に係る半導体回路装置1は、振動子3と接続されて温度補償型発振器となる。
本実施形態では、振動子3は、基板材料として水晶を用いた水晶振動子であり、例えば、ATカットやSCカットの水晶振動子や音叉型の水晶振動子が用いられる。振動子3は、SAW(Surface Acoustic Wave)共振子やMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)振動子であってもよい。また、振動子3の基板材料としては、水晶の他、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の圧電単結晶や、ジルコン酸チタン酸鉛等の圧電セラミックス等の圧電材料、またはシリコン半導体材料等を用いることができる。振動子3の励振手段としては、圧電効果によるものを用いてもよいし、クーロン力による静電駆動を用いてもよい。なお、本実施形態の振動子3は、基板材料が個片化されたチップ形状の素子としているが、これに限らず、チップ形状の素子が容器に封入されている振動デバイスを用いてもよい。
半導体回路装置1は、電源端子であるVcc端子、接地端子であるGND端子、出力端子であるOUT端子、テスト端子または半導体回路装置1を制御する信号が入力される端子であるTP端子、振動子3との接続端子であるXI端子およびXO端子が設けられている。Vcc端子、GND端子、OUT端子およびTP端子は、発振器の外部端子(不図示)にも接続されている。
本実施形態では、半導体回路装置1は、発振用回路10、出力回路30、温度補償回路
40(「特性調整用回路」の一例)、感温素子41、レギュレーター回路50、メモリー60、スイッチ回路70(「切り替え部」の一例)およびシリアルインターフェース(I/F)回路80を含んで構成されている。なお、本実施形態の半導体回路装置1は、これらの要素の一部を省略または変更し、あるいは他の要素を追加した構成としてもよい。
発振用回路10は、振動子3に接続されるとともに、振動子3を発振させるための回路であり、振動子3の出力信号を増幅して振動子3にフィードバックする。発振用回路10は、振動子3の発振に基づく発振信号を出力する。
温度補償回路40は、感温素子41から出力される信号に基づいて、発振用回路10の発振周波数が温度によらず一定になるように、温度を変数として振動子3の周波数温度特性に応じた温度補償電圧を発生させる。この温度補償電圧は、発振用回路10の負荷容量として機能する可変容量素子(不図示)の一端に印加され、発振周波数が制御される。
出力回路30の信号生成回路31は、発振用回路10からの発振信号が入力され、外部出力用の発振信号を生成して出力する。
出力回路30の振幅制御回路20は、信号生成回路31が出力する発振信号の振幅を制御するための回路である。振幅制御回路20は、信号生成回路31が出力する発振信号の振幅を制御する振幅制御部と発熱部とを有する。後述するように、発熱部は、発振用回路10と振幅制御回路20の振幅制御部との動作状態に基づいて、入力される直流電流が制御される。
レギュレーター回路50は、Vcc端子から供給される電源電圧に基づき、発振用回路10、温度補償回路40、出力回路30の電源電圧または基準電圧となる一定の出力電圧Vregを生成する。
メモリー60は、不図示の不揮発性メモリーとレジスターとを有しており、外部端子から、シリアルインターフェース回路80を介して、不揮発性メモリーまたはレジスターに対するリード/ライトが可能に構成されている。本実施形態では、発振器を構成した場合に外部端子と接続される半導体回路装置1の端子はVcc,GND,OUT,TPの4つしかないため、シリアルインターフェース回路80は、例えば、Vcc端子の電圧が閾値よりも高い時に、TP端子から外部入力されるクロック信号SCLKとOUT端子から外部入力されるデータ信号DATAを受け付け、不図示の不揮発性メモリーあるいは内部レジスターに対してデータのリード/ライトを行うようにしてもよい。メモリー60は、発振用回路10、出力回路30および特性調整用回路(温度補償回路40)のうち少なくとも1つを制御するためのデータを記憶してもよい。これによって、発振用回路10、出力回路30および特性調整用回路(温度補償回路40)のうち少なくとも1つを容易に制御できる半導体回路装置1を実現できる。
スイッチ回路70は、温度補償回路40と、出力回路30の出力側と電気に接続されているOUT端子(第1端子の一例)との電気的な接続を切り替えるための回路である。
本実施形態では、TP端子に入力される信号がローレベル(第1モードの一例)の時は、スイッチ回路70は温度補償回路40とOUT端子とを電気的に接続しないように制御され、出力回路30から出力される発振信号がOUT端子に出力される。また、後述するように、TP端子に入力される信号がローレベルの時は、振幅制御回路20の発熱部の動作が停止される。
一方、TP端子に入力される信号がハイレベル(第2モードの一例)の時は、スイッチ
回路70は温度補償回路40とOUT端子とを電気的に接続するように制御され、出力回路30からの発振信号の出力が停止され、温度補償回路40の出力信号(温度補償電圧)がOUT端子に出力される。また、後述するように、TP端子に入力される信号がハイレベルの時は、振幅制御回路20の発熱部は、発振用回路10と振幅制御回路20の振幅制御部との動作状態に基づいて、入力される直流電流が制御される。
セルラー等に使用されるGPS用途のTCXOとして使用する場合、例えば±0.5ppmといった高い周波数温度補償精度が要求される。そこで、本実施形態では、レギュレーター回路50で出力回路30の出力電圧振幅を安定化させるとともに、低消費電流化の観点から、出力回路30は出力振幅を抑えたクリップド・サイン波形を出力する。本実施形態では、振幅制御回路20により、出力回路30の出力振幅を例えば0.8〜1.2Vppの範囲で調整することが可能となっており、さらに、振幅制御回路20に従来よりも小型の発熱回路を内蔵した構成としている。また、本実施形態では、メモリー60には、振動子3の周波数に応じて発振用回路10の発振段電流を調整・選択するための発振段電流調整レジスターIOSC_ADJ(発振用回路10を制御するためのデータ)、出力回路30の内部に設けた分周回路により発振信号を分周して出力するか否かを選択するための分周切替レジスターDIV(出力回路30を制御するためのデータ)、出力回路30が出力するクリップド・サイン波の発振信号の振幅レベルを調整するための出力レベル調整レジスターVOUT_ADJ(振幅制御回路20を制御するためのデータ)が設けられており、これらのレジスターに格納されるデータに基づく設定状態に連動して、振幅制御回路20の内部の発熱回路に流す電流量が制御される。
なお、これらのレジスターの設定値は、例えば、半導体回路装置1の製造時にメモリー60が有する不揮発性メモリーに記憶されており、発振器として組み立てた後の電源投入時に不揮発性メモリーから各レジスターに設定値が書き込まれる。また、例えば、半導体回路装置1の製造時に、不揮発性メモリーには、温度補償回路40に入力される温度補償データ(振動子3の周波数温度特性に応じた0次、1次、3次の各係数値(4次や5次の各係数値を含めてもよい)、あるいは温度と温度補償電圧との対応テーブルなど)(温度補償回路40を制御するためのデータ)も記憶されている。
[発振用回路の構成]
図2は、図1の発振用回路10の回路図である。図2に示すように、発振用回路10は、発振部11と電流源回路12とを備えている。発振部11は振動子3と接続されることでピアース型の発振回路を構成する。発振部11では、振動子3と並列に可変容量素子であるバリキャップ・ダイオードVCD1,VCD2が直列接続されており、バリキャップ・ダイオードVCD1,VCD2に温度補償電圧が印加されることで温度に対して発振部11の容量値が変化し、振動子3の周波数温度特性が補償された発振信号が出力される。
電流源回路12は、差動増幅器AMP1、PMOSトランジスターM2、バイポーラトランジスターQ2、および、抵抗R1と複数の抵抗R2が並列接続された電流調整部により、発振段電流Ioscの基準となる電流Irefを生成する。電流Irefは、4ビットのIOSC_ADJの設定値により調整される。PMOSトランジスターM1のゲート幅のサイズとPMOSトランジスターM2のゲート幅のサイズは、例えば10;1の比率を有している。PMOSトランジスターM3のゲート幅のサイズとPMOSトランジスターM4のゲート幅のサイズも同様のサイズ比を有する。例えば、Iref=20μAとすると、10倍の200μAが発振段電流として発振部11に供給される。差動増幅器AMP2、PMOSトランジスターM4、バイアス電流Ibiasを流す電流源、PMOSトランジスターM5,M6で構成される回路は、カスコード接続されたPMOSトランジスターM1,M3に流れる発振段電流Ioscの電源依存をさらに抑えるための回路である。この回路は、高い周波数制度が要求されるTCXOにおいて、電流源が出力する電流の
電源依存をカスコード回路よりもさらに低減する、利得増強型のカスコード回路である。このカスコード回路は、基準側のPMOSトランジスターM4のソース電圧をモニターし、電源電圧(Vcc端子の電圧)が変動した場合に、PMOSトランジスターM3,M4のゲート電圧を差動増幅器AMP2により制御して、PMOSトランジスターM1,M2のソース・ドレイン間の電位差の変化をさらに抑制する。電流源回路12の出力抵抗としては、差動増幅器AMP2のゲイン倍だけさらに上がる。電源電圧の変動に対して発振段電流Ioscが安定化し、発振部11の発振周波数変動を抑えられる。
[出力回路の構成]
図3は、図1の出力回路30の回路図である。図3に示すように、出力回路30は、Vreg端子にはレギュレーター回路50の出力電圧Vregが印加され、Vclip端子には振幅制御回路20で生成されたクリップド・サイン波出力を得るためのクリップ電圧Vclipが印加される。出力回路30は、分周回路を備えており、DIV端子の電圧レベルにより、IN端子に入力される信号(発振用回路10が出力する発振信号)を2分周するか否かを選択可能に構成されている。本実施形態では、分周切替レジスターDIVの設定値が0のときは、DIV端子がローレベルに設定され、入力信号は、分周されず、MOSトランジスターM31〜M34から成るインバーターで極性が反転され、ノードVBUF1の信号がNOR回路NOR1に伝達する。一方、分周切替レジスターDIVの設定値が1のときは、DIV端子がハイレベルに設定され、入力信号は、分周回路で1/2に分周され、ノードVBUF1の信号がNOR回路NOR1に伝達する。
また、出力回路30は、TP端子がローレベルのときに動作可能状態、TP端子がハイレベルのときに動作停止状態になる。通常動作時は、TP端子がローレベルに設定され、入力端子INからの入力信号はVclipで決まる電圧振幅レベルでクリップされ、OUT端子から出力される。図1の温度補償回路40を調整する(テストする)時は、TP端子がハイレベルに設定され、MOSトランジスターM32,M33がオフして、NOR回路NOR1の出力ノードVBUF2およびNOR回路NOR2の出力ノードVBUF3がともに接地電位になり、NMOSトランジスターM35,M36がともにオフ状態となる。これにより、出力回路30は動作停止状態になる。
NMOSトランジスターM35,M36には、他のトランジスターと比べて大きな電流が流れるので、NMOSトランジスターM35,M36は、出力回路30の主な発熱源となり得る。
[振幅制御回路の構成]
図4は、図1の振幅制御回路20の回路図である。図4において、NMOSトランジスターM11,M12,M13はディプレッションタイプのMOSトランジスターであり、その他のMOSトランジスターはノーマルタイプ(エンハンスメントタイプ)のMOSトランジスターである。図4に示す振幅制御回路20は、温度補償回路40の調整時にスタティックな電流(直流電流)Ihtを流すことで、通常動作時に出力回路30で発生する熱に相当する熱を発生させる。これにより、通常動作時と温度補償回路40の調整時との間の発熱量の変動が抑えられる。
次式(1)に示すように、出力回路30の出力振幅レベルを決めるクリップ電圧Vclipは、差動増幅器AMPの出力電圧VgからNMOSトランジスターM12のゲート・ソース間電圧VgsM12を差し引いた電圧となる。
Vgは、出力レベル調整レジスターVOUT_ADJで与えられたデータを基にD/AコンバーターDACでD/A変換されたアナログの出力電圧Vdacから、次式(2)によって得られる。
式(2)を式(1)に代入することにより、次式(3)の関係が成り立つ。すなわち、D/AコンバーターDACの出力電圧Vdacを差動増幅器AMPで増幅した電圧であるVdac・(R1/R2+1)により、クリップ電圧Vclipが決まる。
通常動作時は、TP端子がローレベルに設定され、スイッチ回路SW1がオン状態、NMOSスイッチSW2がオフ状態、MOSトランジスターM13Bがオフ状態となり、発熱回路21は動作停止状態になる。一方、温度補償回路40の調整時は、TP端子がハイレベルに設定され、スイッチ回路SW1がオフ状態に、NMOSスイッチSW2がオン状態となり、これにより、NMOSトランジスターM12が遮断状態となり、NMOSトランジスターM13を含む発熱回路21が動作状態となる。
出力回路30が出力する波形は、図6に示すようなクリップド・サイン波であり、出力周波数が高いほどクリップド・サイン波のピーク値(振幅)は下がるので、出力周波数に合わせて出力レベル調整レジスターVOUT_ADJの設定値が選択される。通常はクリップド・サイン波の振幅を0.8Vpp以上確保できるように出力レベル調整レジスターVOUT_ADJの設定値が選択される。図5に、出力レベル調整レジスターVOUT_ADJの設定値とD/AコンバーターDACの出力電圧Vdacおよびクリップ電圧Vclipとの関係の一例を示す。図5は、差動増幅器AMPを含むレプリカ回路22のゲインを約1.2倍に設定した場合の一例であり、クリップ電圧VclipはDC的な電圧値を示している。また、図6(A)および図6(B)は、それぞれ、出力周波数が26MHzと52MHzの場合のクリップド・サイン波の出力波形の一例を示す図であり、ともにVOUT_ADJは“01”に設定されている。図5に示すように、VOUT_ADJが“01”に設定された場合、クリップ電圧Vclipは0.9Vとなり、図6(A)に示すように、出力周波数が26MHzの場合はクリップド・サイン波の振幅は約0.9Vppであり、図6(B)に示すように、出力周波数が52MHzの場合でもクリップド・サイン波の振幅は約0.82Vppを確保できている。また、出力周波数が52MHzの場合は、クリップド・サイン波の振幅が若干低下場合もあり、VOUT_ADJを“10”
に設定して振幅を0.1V上げて0.92Vppとすることも可能である。
本実施形態では、TP端子がハイレベルに設定された時に発熱回路21を流れる電流Ihtは、発振段電流調整レジスターIOSC_ADJの設定値、分周切替レジスターDIVの設定値、および、出力レベル調整レジスターVOUT_ADJの設定値と連動して変化し、TP端子がローレベルに設定された時に出力回路30で消費される電流に相当する電流に近づくようになっている。これにより、TP端子がローレベルに設定された時の半導体回路装置1を用いた発振器の消費電流とTP端子がハイレベルに設定された時の半導体回路装置1を用いた発振器の消費電流との差の電流である差分電流を小さくしている。すなわち、出力回路30が動作状態にあるときの電流と停止状態にあるときの電流との差を小さくして、発振用回路10の発熱量の変動を抑えている。一例として、図7に、発振段電流調整レジスターIOSC_ADJの設定値と差分電流との関係を示す。図7には、分周切替レジスターDIVの設定値が0の時(源振出力時)と1の時(分周出力時)の関係が示されている。図7に示すように、本実施形態の半導体回路装置1を用いた発振器では、発振周波数や出力の分周の有無に応じてIOSC_ADJやDIVのレジスター値が個別に設定される場合においても、出力回路30の動作状態にあるときの電流と停止状態にある時の電流との差を低減することができ、差分電流を0に近づけることに成功している。
なお、発熱回路21は発熱部として機能し、振幅制御回路20のうち発熱回路21以外の回路は振幅制御部として機能する。
1−2.レイアウト構成
1−2−1.第1具体例
図8は、第1具体例に係る半導体回路装置1のレイアウト構成を模式的に示す平面図である。なお、図8においては、半導体回路装置1に含まれる回路の一部については記載を省略している。
本具体例に係る半導体回路装置1は、半導体基板100と、半導体基板100に配置された少なくとも出力回路30および感温素子41を構成要素とする第1回路ブロック110と、半導体基板100に配置された少なくともメモリー60を構成要素とする第2回路ブロック120と、を含んで構成されている。また、本実施形態に係る半導体回路装置1は、図1に示される各端子に対応する、接続端子XI、接続端子XO、接続端子Vcc(第2接続端子)、接続端子GND(第3接続端子)、接続端子OUT(第1接続端子)および接続端子TPを含んで構成されている。また、半導体回路装置1は、出力回路30と接続端子OUT(第1接続端子)とを電気的に接続する配線90と、出力回路30を動作させるための電力を出力回路30に供給する第1配線91と、を含んで構成されている。
接続端子OUT(第1接続端子)は、出力回路30からの発振信号が出力される端子である。本具体例においては、熱抵抗を小さくするため、配線90は、他の配線よりも太く構成されている。また、第1配線91には、大きな電流が流れるので、一般的に他の配線(配線90を除く)よりも太く構成されている。
図8に示されるように、本具体例においては、平面視において、出力回路30と接続端子OUT(第1接続端子)との距離(最短直線距離)は、感温素子41と接続端子OUT(第1接続端子)との距離(最短直線距離)よりも短い。
本具体例によれば、発熱源の1つである出力回路30で発生した熱が接続端子OUT(第1接続端子)を介して放熱されて、半導体回路装置1の温度上昇が小さくなる。また、感温素子41への熱的影響が小さくなる。したがって、発振用回路10は出力回路30の
発熱の影響を受けにくく、感温素子は発振用回路10の温度を正確に検出できるので、例えば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置1を実現できる。
図8に示される例では、出力回路30を動作させるための電力を出力回路30に供給するための接続端子Vcc(第2接続端子)と、出力回路30と接続端子Vcc(第2接続端子)とを電気的に接続する第1配線91と、を有し、第1配線91と感温素子41とは、平面視で重なっていない。
第1配線91と感温素子41とが平面視で重なっていると、出力回路30で発生した熱が第1配線91を介して感温素子41へと伝わりやすくなる。本具体例によれば、第1配線91と感温素子41とが平面視で重なっていないので、感温素子41が出力回路30で発生した熱の影響を受けにくい。したがって、感温素子41は発振用回路10の温度を正確に検出できるので、例えば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置1を実現できる。なお、本具体例では、発熱する回路として出力回路30を例として挙げているが、これに限らず、第1配線91に接続されているとともに動作時に発熱する回路、例えば、発振用回路10や、発振用回路10からの信号が入力され該信号を増幅して出力する増幅回路等であってもよい。
本具体例に係る半導体回路装置1は、上述した技術的意義とは異なる観点でもさらに技術的意義を有している。
図8に示されるように、接続端子XOは、平面視で、第1回路ブロック110と第2回路ブロック120との間に設けられている。
本具体例によれば、接続端子XOは、平面視で、第1回路ブロック110と第2回路ブロック120との間に設けられているので、第2回路ブロック120内に1かたまりの矩形領域を大きくとることができる。したがって、半導体基板100のサイズを大きくできない場合でも、第2回路ブロック120内における1かたまりの矩形領域を大きくして、例えば、1つの機能を有する回路が形成される領域を大きくとることができるため、回路配置の自由度が大きい半導体回路装置1を実現できる。
本具体例においては、半導体回路装置1は、平面視で、第2回路ブロック120側から遠ざかる方向に第1回路ブロック110にはさまれている領域111を有し、接続端子XOの少なくとも一部は、第1回路ブロック110にはさまれている領域111に設けられている。
本具体例によれば、接続端子XOは、平面視で、第1回路ブロック110に食い込むように配置されているため、第2回路ブロック120の配置領域を大きくとることができるので、第2回路ブロック120内に1かたまりの矩形領域をさらに大きくとることができる。したがって、半導体基板100のサイズを大きくできない場合でも、第2回路ブロック120内における1かたまりの矩形領域を大きくして、例えば、1つの機能を有する回路が形成される領域を大きくとることができるため、回路配置の自由度が大きい半導体回路装置1を実現できる。
本具体例においては、第2回路ブロック120は、半導体基板100の外周部101と第1回路ブロック110との間であり、かつ、外周部101と接続端子XOとの間に設けられている。図8に示される例では、半導体基板100は、平面視で長方形に構成されており、外周部101は、平面視での長方形の1辺に相当する。なお、半導体基板100は、平面視で完全に多角形である必要はなく、平面視で外周に凹凸がある略多角形であって
もよい。この場合に、外周部101は、略多角形の1辺と同視できる部分に相当するものとしてもよい。
本具体例によれば、接続端子XOが半導体基板100の外周部101近傍に設けられている場合に比べて、半導体基板100の外周部101側に配置された第2回路ブロック120内に1かたまりの矩形領域を大きくとることができる。したがって、半導体回路装置1のチップサイズを大きくできない場合でも、第2回路ブロック120内における1かたまりの矩形領域を大きくして、例えば、1つの機能を有する回路が形成される領域を大きくとることができるため、回路配置の自由度が大きい半導体回路装置1を実現できる。
本具体例においては、第2回路ブロック120は、メモリー60を含んで構成されている。
本具体例によれば、第2回路ブロック120内の1かたまりの矩形領域内に、メモリー60を配置できるので、半導体基板100のサイズを大きくできない場合でも、メモリー60の記憶容量を大きくできる半導体回路装置1を実現できる。また、メモリー60を1かたまりの矩形領域内に配置できるので、メモリー60を複数の領域に設ける場合に比べて、メモリー60の配線が容易になる。また、メモリー60を複数の領域に設ける場合に比べて、メモリー60のアドレス指定が容易になる。
本実施形態においては、第2回路ブロック120は、半導体基板100の長辺に沿うように設けられている。これによって、第2回路ブロック120を半導体基板100の短辺に沿うように設けられている場合に比べて、第2回路ブロック120のメモリー60と、第1回路ブロック110に含まれる種々の回路との配線を短くすることができる。
1−2−2.第2具体例
図9は、第2具体例に係る半導体回路装置1のレイアウト構成を模式的に示す平面図である。なお、図9においては、半導体回路装置1に含まれる回路の一部については記載を省略している。また、第1具体例と同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
図9に示されるように、本具体例においては、平面視において、出力回路30と感温素子41とを結ぶ仮想直線と交差する第2配線92をさらに有し、第2配線92は、接続端子OUT(第1接続端子)と電気的に接続されている。仮想直線は、出力回路30内の仮想点と感温素子41内の仮想点とを結ぶ直線であり、最短直線であってもよいし、最短直線でなくてもよい。また、仮想直線は、出力回路30が配置されている領域を平面視した場合の図心(重心)と感温素子41が配置されている領域を平面視した場合の図心(重心)とを結ぶ直線であってもよい。
本具体例によれば、出力回路30で発生した熱は、上述の仮想直線に沿って感温素子41に伝わるため、仮想直線と交差する第2配線92にも伝わることになる。従って、出力回路30で発生した熱の少なくとも一部は、第2配線92を介して接続端子OUT(第1接続端子)に放熱される。これによって、感温素子41が出力回路30で発生した熱の影響を受けにくくなる。したがって、感温素子41は発振用回路10の温度を正確に検出できるので、例えば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置1を実現できる。なお、本具体例では、発熱する回路として出力回路30を例として挙げているが、これに限らず、動作時に発熱する回路、例えば、発振用回路10や、発振用回路10からの信号が入力され該信号を増幅して出力する増幅回路等であってもよい。
また、第2具体例においても、第1具体例で説明した理由と同様の理由により、同様の効果を奏する。
1−2−3.第3具体例
図10は、第3具体例に係る半導体回路装置1のレイアウト構成を模式的に示す平面図である。なお、図10においては、半導体回路装置1に含まれる回路の一部については記載を省略している。また、第1具体例および第2具体例と同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
図10に示されるように、本具体例においては、平面視において、出力回路30と感温素子41とを結ぶ仮想直線と交差する第2配線92をさらに有し、第2配線92は、接続端子Vcc(第2接続端子)と電気的に接続されている。仮想直線は、出力回路30内の仮想点と感温素子41内の仮想点とを結ぶ直線であり、最短直線であってもよいし、最短直線でなくてもよい。また、仮想直線は、出力回路30が配置されている領域を平面視した場合の図心(重心)と感温素子41が配置されている領域を平面視した場合の図心(重心)とを結ぶ直線であってもよい。
本具体例によれば、出力回路30で発生した熱は、上述の仮想直線に沿って感温素子41に伝わるため、仮想直線と交差する第2配線92にも伝わることになる。従って、出力回路30で発生した熱の少なくとも一部は、第2配線92を介して接続端子Vcc(第2接続端子)に放熱される。これによって、感温素子41が出力回路30で発生した熱の影響を受けにくくなる。したがって、感温素子41は発振用回路10の温度を正確に検出できるので、例えば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置1を実現できる。なお、本具体例では、発熱する回路として出力回路30を例として挙げているが、これに限らず、動作時に発熱する回路、例えば、発振用回路10や、発振用回路10からの信号が入力され該信号を増幅して出力する増幅回路等であってもよい。
また、第3具体例においても、第1具体例で説明した理由と同様の理由により、同様の効果を奏する。
1−2−4.第4具体例
図11は、第4具体例に係る半導体回路装置1のレイアウト構成を模式的に示す平面図である。なお、図11においては、半導体回路装置1に含まれる回路の一部については記載を省略している。また、第1具体例、第2具体例および第3具体例と同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
図11に示されるように、本具体例においては、平面視において、出力回路30と感温素子41とを結ぶ仮想直線と交差する第2配線92をさらに有し、第2配線92は、接続端子GND(第3接続端子)と電気的に接続されている。仮想直線は、出力回路30内の仮想点と感温素子41内の仮想点とを結ぶ直線であり、最短直線であってもよいし、最短直線でなくてもよい。また、仮想直線は、出力回路30が配置されている領域を平面視した場合の図心(重心)と感温素子41が配置されている領域を平面視した場合の図心(重心)とを結ぶ直線であってもよい。
本具体例によれば、出力回路30で発生した熱は、上述の仮想直線に沿って感温素子41に伝わるため、仮想直線と交差する第2配線92にも伝わることになる。従って、出力回路30で発生した熱の少なくとも一部は、第2配線92を介して接続端子GND(第3接続端子)に放熱される。これによって、感温素子41が出力回路30で発生した熱の影響を受けにくくなる。したがって、感温素子41は発振用回路10の温度を正確に検出で
きるので、例えば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置1を実現できる。なお、本具体例では、発熱する回路として出力回路30を例として挙げているが、これに限らず、動作時に発熱する回路、例えば、発振用回路10や、発振用回路10からの信号が入力され該信号を増幅して出力する増幅回路等であってもよい。
また、第4具体例においても、第1具体例で説明した理由と同様の理由により、同様の効果を奏する。
2.発振器
図12は、本実施形態に係る発振器1000を模式的に示す断面図である。発振器1000は、半導体回路装置1と、振動子3と、半導体回路装置1と振動子3とを収容する容器1100と、を含んで構成されている。図12に示される例では、発振器1000は、半導体回路装置1と振動子3とを同一空間内に収容する容器1100を含んで構成されている。また、図12に示される例では、発振器1000は、蓋1200および電極1300を含んで構成されている。図12に示される例では、半導体回路装置1は、1チップで構成されている。また、振動子3としては、基板材料として水晶を用いた水晶振動子、例えば、ATカットやSCカットの水晶振動子や、SAW(Surface Acoustic Wave)共振子やMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)振動子であってもよい。また、振動子3の基板材料としては、水晶の他、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の圧電単結晶や、ジルコン酸チタン酸鉛等の圧電セラミックス等の圧電材料、またはシリコン半導体材料等を用いることができる。振動子3の励振手段としては、圧電効果によるものを用いてもよいし、クーロン力による静電駆動を用いてもよい。なお、本実施形態の振動子3は、基板材料が個片化されたチップ形状の素子としているが、これに限らず、チップ形状の素子が容器に封入されている振動デバイスを用いてもよい。
容器1100には、凹部が設けられており、蓋1200で凹部を覆うことによって収容室1400となる。容器1100には、半導体回路装置1と振動子3とを電気的に接続するための配線および端子が、凹部の表面または容器1100の内部に設けられている。また、容器1100には、少なくとも、半導体回路装置1の接続端子Vcc、接続端子GND、接続端子OUTおよび接続端子TPとそれぞれ電気的に接続される電極1300が設けられている。
図13は、変形例に係る発振器1000aを模式的に示す断面図である。発振器1000aは、半導体回路装置1と、振動子3と、半導体回路装置1と振動子3とを収容する容器1100aと、を含んで構成されている。図13に示される例では、発振器1000aは、半導体回路装置1と振動子3とを異なる空間内に収容する容器1100aを含んで構成されている。また、図13に示される例では、発振器1000aは、蓋1200、電極1300および封止部材1500を含んで構成されている。図13に示される例では、半導体回路装置1は、1チップで構成されている。また、振動子3としては、基板材料として水晶を用いた水晶振動子、例えば、ATカットやSCカットの水晶振動子や、SAW(Surface Acoustic Wave)共振子やMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)振動子であってもよい。また、振動子3の基板材料としては、水晶の他、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の圧電単結晶や、ジルコン酸チタン酸鉛等の圧電セラミックス等の圧電材料、またはシリコン半導体材料等を用いることができる。振動子3の励振手段としては、圧電効果によるものを用いてもよいし、クーロン力による静電駆動を用いてもよい。なお、本変形例の振動子3は、基板材料が個片化されたチップ形状の素子としているが、これに限らず、チップ形状の素子が容器に封入されている振動デバイスを用いてもよい。
容器1100aには、対向する面に2つの凹部が設けられており、蓋1200で一方の凹部を覆うことによって収容室1400a、封止部材1500で他方の凹部を覆うことによって収容室1400bとなる。図13に示される例では、収容室1400aには振動子3が収容され、収容室1400bには半導体回路装置1が収容されている。容器1100aには、半導体回路装置1と振動子3とを電気的に接続するための配線および端子が、凹部の表面または容器1100aの内部に設けられている。また、容器1100aには、少なくとも、半導体回路装置1の接続端子Vcc、接続端子GND、接続端子OUTおよび接続端子TPとそれぞれ電気的に接続される電極1300が設けられている。
本実施形態に係る発振器1000および発振器1000aによれば、発振用回路10は出力回路30の発熱の影響を受けにくく、感温素子41は発振用回路10の温度を正確に検出できるので、例えば、起動時の周波数変動を低減させることが可能な発振器1000および発振器1000aを実現できる。
3.電子機器
図14は、本実施形態に係る電子機器300の機能ブロック図である。なお、上述された各実施形態と同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
本実施形態に係る電子機器300は、半導体回路装置1を含む電子機器300である。図14に示される例では、電子機器300は、振動子3、半導体回路装置1、逓倍回路310、CPU(Central Processing Unit)320、操作部330、ROM(Read Only Memory)340、RAM(Random Access Memory)350、通信部360、表示部370、音出力部380を含んで構成されている。なお、本実施形態に係る電子機器300は、図14に示される構成要素(各部)の一部を省略または変更してもよいし、他の構成要素を付加した構成としてもよい。
逓倍回路310は、クロックパルスをCPU320だけでなく各部に供給する(図示は省略)。クロックパルスは、例えば振動子3と接続された半導体回路装置1からの発振信号から所望の高調波信号を逓倍回路310で取り出した信号であってもよいし、半導体回路装置1からの発振信号を、PLLシンセサイザーを有する逓倍回路310で逓倍した信号であってもよい(図示は省略)。
CPU320は、ROM340等に記憶されているプログラムに従い、逓倍回路310が出力するクロックパルスを用いて各種の計算処理や制御処理を行う。具体的には、CPU320は、操作部330からの操作信号に応じた各種の処理、外部とデータ通信を行うために通信部360を制御する処理、表示部370に各種の情報を表示させるための表示信号を送信する処理、音出力部380に各種の音を出力させる処理等を行う。
操作部330は、操作キーやボタンスイッチ等により構成される入力装置であり、ユーザーによる操作に応じた操作信号をCPU320に出力する。
ROM340は、CPU320が各種の計算処理や制御処理を行うためのプログラムやデータ等を記憶している。
RAM350は、CPU320の作業領域として用いられ、ROM340から読み出されたプログラムやデータ、操作部330から入力されたデータ、CPU320が各種プログラムにしたがって実行した演算結果等を一時的に記憶する。
通信部360は、CPU320と外部装置との間のデータ通信を成立させるための各種制御を行う。
表示部370は、LCD(Liquid Crystal Display)や電気泳動ディスプレイ等により構成される表示装置であり、CPU320から入力される表示信号に基づいて各種の情報を表示する。
そして、音出力部380は、スピーカー等の音を出力する装置である。
本実施形態に係る電子機器300によれば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置1を用いるので、信頼性の高い電子機器300を実現することができる。
電子機器300としては種々の電子機器が考えられる。例えば、パーソナルコンピューター(例えば、モバイル型パーソナルコンピューター、ラップトップ型パーソナルコンピューター、タブレット型パーソナルコンピューター)、携帯電話機などの移動体端末、ディジタルカメラ、インクジェット式吐出装置(例えば、インクジェットプリンター)、ルーターやスイッチなどのストレージエリアネットワーク機器、ローカルエリアネットワーク機器、移動体端末基地局用機器、テレビ、ビデオカメラ、ビデオレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ゲーム用コントローラー、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、POS(point of sale)端末、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシミュレーター、ヘッドマウントディスプレイ、モーショントレース、モーショントラッキング、モーションコントローラー、PDR(歩行者位置方位計測)等が挙げられる。
図15は、電子機器300の一例であるスマートフォンの外観の一例を示す図である。電子機器300であるスマートフォンは、操作部330としてボタンを、表示部370としてLCDを備えている。そして、電子機器300であるスマートフォンは、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置1を用いるので、信頼性の高い電子機器300を実現することができる。
4.移動体
図16は、本実施形態に係る移動体400の一例を示す図(上面図)である。なお、上述された各実施形態と同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
本実施形態に係る移動体400は、半導体回路装置1を用いた発振器1000を含む移動体400である。図16には、発振器1000を含む移動体400が示されている。また、図16に示される例では、移動体400は、エンジンシステム、ブレーキシステム、キーレスエントリーシステム等の各種の制御を行うコントローラー420、コントローラー430、コントローラー440、バッテリー450およびバックアップ用バッテリー460を含んで構成されている。なお、本実施形態に係る移動体400は、図16に示される構成要素(各部)の一部を省略または変更してもよいし、他の構成要素を付加した構成としてもよい。
本実施形態に係る移動体400によれば、発振器を構成した場合に起動時の周波数変動を低減させることが可能な半導体回路装置1を用いるので、信頼性の高い移動体400を実現することができる。
このような移動体400としては種々の移動体が考えられ、例えば、自動車(電気自動車も含む)、ジェット機やヘリコプター等の航空機、船舶、ロケット、人工衛星等が挙げ
られる。
本発明は本実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
例えば、上述した各実施形態では、特性調整用回路として温度補償回路を有する発振器(TCXO)を例に挙げたが、本発明は、これ以外にも、特性調整用回路として周波数調整回路を有する発振器(SPXO等)、特性調整用回路としてAFC(Auto Frequency Control)回路を有する発振器(VCXOやVC−TCXO等)など、種々の発振器に適用することができる。
上述した実施形態および変形例は一例であって、これらに限定されるわけではない。例えば、各実施形態および各変形例を適宜組み合わせることも可能である。
本発明は、実施形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的および効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
1…半導体回路装置、3…振動子、10…発振用回路、11…発振部、12…電流源回路、20…振幅制御回路、21…発熱回路、22…レプリカ回路、23…デコード回路、24…レベル補正回路、25…抵抗回路、30…出力回路、31…信号生成回路、40…温度補償回路、41…感温素子、50…レギュレーター回路、60…メモリー、70…スイッチ回路、80…シリアルインターフェース(I/F)回路、90…配線、91…第1配線、92…第2配線、100…半導体基板、101…外周部、110…第1回路ブロック、111…第1回路ブロック110に挟まれている領域、120…第2回路ブロック、300…電子機器、310…逓倍回路、320…CPU、330…操作部、340…ROM、350…RAM、360…通信部、370…表示部、380…音声出力部、400…移動体、420…コントローラー、430…コントローラー、440…コントローラー、450…バッテリー、460…バックアップ用バッテリー、1000,1000a…発振器、1100,1100a…容器、1200…蓋、1300…電極、1400,1400a,1400b…収容室、1500…封止部材、GND…接続端子、OUT…接続端子、TP…接続端子、Vcc…接続端子、XI…接続端子、XO…接続端子

Claims (10)

  1. 振動子に接続されるとともに、前記振動子を発振させる発振用回路と、
    前記発振用回路から出力される信号が入力されて発振信号を出力する出力回路と、
    感温素子と、
    前記感温素子から出力される信号に基づいて前記発振用回路の特性を調整する特性調整用回路と、
    前記出力回路と電気的に接続され、前記発振信号が出力される第1接続端子と、
    を半導体基板上に有し、
    平面視において、前記出力回路と前記第1接続端子との距離は、前記感温素子と前記第1接続端子との距離よりも短い、半導体回路装置。
  2. 請求項1に記載の半導体回路装置において、
    前記出力回路を動作させるための電力を前記出力回路に供給するための第2接続端子と、
    前記出力回路と前記第2接続端子とを電気的に接続する第1配線と、
    をさらに有し、
    前記第1配線と前記感温素子とは、平面視で重なっていない、半導体回路装置。
  3. 請求項1に記載の半導体回路装置において、
    平面視において、前記出力回路と前記感温素子とを結ぶ仮想直線と交差する第2配線をさらに有し、
    前記第2配線は、前記第1接続端子と電気的に接続されている、半導体回路装置。
  4. 請求項2に記載の半導体回路装置において、
    平面視において、前記出力回路と前記感温素子とを結ぶ仮想直線と交差する第2配線をさらに有し、
    前記第2配線は、前記第2接続端子と電気的に接続されている、半導体回路装置。
  5. 請求項1ないし4のいずれか1項に記載の半導体回路装置において、
    前記発振用回路、前記出力回路および前記特性調整用回路のうち少なくとも1つを制御するためのデータを記憶するメモリーをさらに有する、半導体回路装置。
  6. 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の半導体回路装置において、
    前記特性調整用回路は、温度補償回路である、半導体回路装置。
  7. 請求項1ないし6のいずれか1項に記載の半導体回路装置において、
    前記出力回路は、分周回路を有する、半導体回路装置。
  8. 請求項1ないし7のいずれか1項に記載の半導体回路装置と、
    前記振動子と、
    前記半導体回路装置と前記振動子とが収容される容器と、
    を有する、発振器。
  9. 請求項1ないし7のいずれか1項に記載の半導体回路装置を有する、電子機器。
  10. 請求項1ないし7のいずれか1項に記載の半導体回路装置を有する、移動体。
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