JP2016100358A - プリント基板 - Google Patents

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Abstract

【課題】2方向リードフラットパッケージICをフロー方式の半田付けによって実装するプリント基板において、ICリード間の半田ブリッジの発生を防止する。【解決手段】リードランド群102は、フロー工程における半田フロー方向(B方向)に対して斜交する方向(C方向)に沿って配列される。半田引きランド120は、金属箔が形成されたサブランド121および122を有する。サブランド121は、リードランド群101の配列方向に沿って区画された部位を有する領域R1と、領域R1に連続して設けられる領域R2とを含む。領域R2は、半田フロー方向(B方向)に沿った経路を形成するための部位を有する。サブランド122は、分離部170によってサブランド121から分離され、かつ、半田フロー方向(B方向)に沿って領域R2に隣接する、領域R3を含む。【選択図】図6

Description

この発明は、プリント基板に関し、より特定的には、フロー方式(フローソルダリング)によって、2方向リード型フラットパッケージが半田付けされるプリント基板に関する。
従来より、噴流式半田槽を用いたフロー方式の半田付けによって、フラットパッケージIC(Integrated Circuit)がプリント基板に実装されている。フロー方式ではプリント基板上の部品を一括して半田付けできる一方で、ICのリード間に余分な半田が滞留することにより、いわゆる半田ブリッジによる短絡が発生することが問題となる。特に、高集積化の進展に伴い、リードピッチが狭いICの実装時における半田ブリッジの発生防止が重要である。
特開2000−40869号公報(特許文献1)、特許第5496118号公報(特許文献2)および特許第3633505号公報(特許文献3)には、リードを半田付けするための半田付ランドに隣接して、余剰の半田を吸収するための半田引きランドを設ける構成が開示されている。
特許文献1および2には、4方向リードフラットパッケージICを半田付進行方向(フロー工程でのプリント基板の移動方向)に対して傾けて実装するプリント基板において、半田付進行方向の後方および側方のIC角部に対応させて、半田引きランドを配置する構成が記載されている。
また、特許文献3には、4方向リードフラットパッケージICを、特許文献1,2と同様に傾けて実装するプリント基板において、IC角部に配置される半田引きランドを、基板移動方向の前方側および後方側に分割するとともに、各半田引きランドが基板移動方向に沿った先細り形状を有するように構成することが記載されている。
特開2000−40869号公報 特許第5496118号公報 特許第3633505号公報
特許文献1〜3は、4方向リードフラットパッケージICの実装時に半田ブリッジの発生を防止するための半田引きランドの形状を開示する。4方向リードフラットパッケージICでは、ICの各辺リードに対応して半田付ランドが存在するため、半田引きランドの形状に制約が大きい。具体的には、半田付けランドが非配置とされる角部にしか半田引きランドを配置することができない。
一方で、2方向リードフラットパッケージICを実装する場合には、リードが形成されない辺に対応する領域には半田付けランドが形成されないため、より半田ブリッジの発生を効果的に防止するための構造が可能となる。すなわち、2方向リードフラットパッケージICに対しては、特許文献1〜3に開示された4方向リードフラットパッケージICのケースとは異なる観点から、半田引きランドの構造を検討することが必要となる。
この発明はこのような問題点を解決するためになされたものであって、この発明の目的は、2方向リードフラットパッケージICをフロー方式によって半田付けするプリント基板において、ICリード間の半田ブリッジの発生を防止することである。
この発明のある局面では、プリント基板は、第1の辺および第1の辺に対向する第2の辺の各々にリードを有する2方向リード型フラットパッケージの集積回路が実装されるプリント基板であって、第1のリードランド群と、第2のリードランド群と、第1の半田引きランドと、第2の半田引きランドとを備える。第1のリードランド群は、プリント基板の半田面に設けられた、第1の辺のリードを半田付けするために設けられる。第2のリードランド群は、半田面に設けられた、第2の辺のリードを半田付けするために設けられる。第1の半田引きランドは、第1のリードランド群に隣接して設けられる。第2の半田引きランドは、第2のリードランド群に隣接して設けられる。第1および第2のリードランド群の各々は、集積回路をプリント基板へ半田付けする際の半田フロー方向に対して斜交する第1の方向に沿って配列される。半田フロー方向は、半田フロー工程におけるプリント基板の搬送方向と反対の方向である。第1および第2の半田引きランドの各々は、第1の領域と、第2の領域と、第3の領域とを含む。第1の領域は、第1および第2のリードランド群のうちの半田フロー方向の最下流側に位置する最終リードに隣接して設けられ、第1の方向に沿って区画された部位を有するように形成される。第2の領域は、第1の領域と連続して設けられ、半田フロー方向に沿った経路を形成するための部位を有するように形成される。第3の領域は、第2の領域から分離され、かつ、半田フロー方向に沿って第2の領域に隣接するように形成される。なお、好ましくは、第1の方向(第1および第2のリードランド群の配列方向)は、半田フロー方向に対して45度の角度を成す。
上記プリント基板によれば、第1および第2の半田引きランドにおいて、第1および第2のリードランド群からの余剰半田の流れ方向(第1の方向)に沿った経路を形成する第1の領域と、余剰半田の流れを半田フロー方向に変化させるための第2の領域とを連続的に設けるとともに、さらに、半田フロー方向下流に第2の領域から分離された第3の領域を設けることができる。
したがって、第1および第2のリードランド群からの余剰半田を、第1および第2の半田引きランドへ積極的に導くとともに、第1および第2の半田引きランドでの余剰半田の跳ね返りを、第1および第2のリードランド群へ戻り難くすることができる。この結果、フロー工程における第1および第2のリードランド群での余剰半田を、第1および第2の半田引きランドで効果的に吸着することによって、集積回路のリードランド間に半田ブリッジが生じることを防止できる。
好ましくは、連続的に形成される第1および第2の領域は、第1から第5のランド辺を含んで形成され、第3の領域は、第5のランド辺と対応する第6のランド辺を有するように形成される。第1のランド辺は、最終リードに対向するとともに、最終リードと同等またはそれ以上の長さを有する。第2のランド辺は、第1のランド辺の半田フロー方向の上流側の一方端に続いて設けられ、第1の方向に沿って延在する。第3のランド辺は、第1のランド辺の他方端に続いて設けられ、半田フロー方向に沿って延在する。第4のランド辺は、第2のランド辺と接続されて半田フロー方向に沿って延在する。第5のランド辺は、第3および第4のランド辺の間を接続する、半田フロー方向に対して交差する方向に延在する。
このような構成とすることにより、第1から第6のランド辺によって、第1から第3の領域を有する半田引きランドを形成することができる。
さらに好ましくは、第2のリードランド群は、第1のリードランド群よりも半田フロー方向の上流側に位置する。第2の半田引きランドにおける第3および第4のランド辺は、第1の半田引きランドにおける第3および第4のランド辺よりも短い。
このような構成とすることにより、半田フロー方向の上流側の第2の半田引きランドにおいては、第2のリードランド群からの余剰半田の動的な力が大きい点を考慮して、電気的な役割を有さない半田引きランドの面積を縮小することができる。
好ましくは、第1および第2の半田引きランドの少なくともいずれかにおいて、第3の領域は、半田フロー方向に沿って先細りの形状を有するように形成される。
このような構成とすることにより、第3の領域の半田フロー方向に沿った先端に到達した余剰半田が、第1および第2領域へ向けて反対方向に戻る動的な力を軽減することができる。この結果、第3の領域による余剰半田の吸収効果を高めて、第1および/または第2の半田引きランドから第1および/または第2のリードランド群へ余剰半田が戻ることを防止できる。この結果、半田ブリッジの発生をさらに効果的に防止することができる。
また好ましくは、第1および第2の半田引きランドの少なくともいずれかにおいて、連続的に形成される第1および第2の領域は、第2の領域および第3の領域を分離する領域を挟んで、第3の領域と線対称の形状の領域を含むような形状を有するように形成される。
このような構成とすることにより、第3の領域から余剰半田が第2の領域へ戻る動的な力を軽減することによって、第3の領域による余剰半田の吸収効果を高めることができる。この結果、半田ブリッジの発生をさらに効果的に防止することができる。
好ましくは、第1および第2の半田引きランドの少なくともいずれかにおいて、第3の領域は、間隔を設けて複数個配置される。
このような構成とすることにより、第1および第2の領域から分離部を超えて第3の領域へ流入した余剰半田が、第1および第2の領域を経由して、第1および/または第2のリードランド群へ戻り難くすることができる。この結果、半田ブリッジの発生をさらに効果的に防止することができる。
この発明によれば、2方向リードフラットパッケージICをフロー方式によって半田付けするプリント基板において、ICリード間の半田ブリッジの発生を防止することができる。
本実施の形態に従うプリント基板を示す平面図である。 プリント基板に実装されるICの平面図である。 プリント基板に実装されるICの正面図である。 図1に示されたプリント基板を半田付けするためのフロー工程を説明する概念図である。 実施の形態1に従う半田引きランドの形状を説明する平面図である。 図5に示された半田引きランドの拡大図である。 図6におけるVII−VII断面図である。 実施の形態2に従う半田引きランドの形状を説明する平面図である。 図8に示された半田引きランドの拡大図である。 実施の形態3に従う半田引きランドの第1の例を説明する平面図である。 実施の形態3に従う半田引きランドの第2の例を説明する平面図である。
以下に、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお以下では、図中の同一または相当部分には同一符号を付して、その説明は原則的に繰返さないものとする。
[実施の形態1]
図1は、本発明の実施の形態に従うプリント基板を示す平面図である。
図1を参照して、プリント基板10は、辺1a〜1dによる矩形形状を有する。プリント基板10には、電子部品群が装着される。電子部品群は、半田付けされることにより、予め基板上に形成された配線パターン(図示せず)と電気的に接続される。具体的には、各電子部品に設けられたリードを、プリント基板10の表面(半田面)に形成されたランド(図示せず)と呼ばれるパッド状の電極に半田等で機械的に接合することで、リードをプリント基板と電気的に接続することができる。プリント基板10は、半田付けによる電気的接続の確保により、装着された電子部品群が所望の電子回路群を形成するように、予め設計されている。
電子部品群は、集積回路(以下、ICとも表記する)50を含む。本実施の形態において、IC50は、2方向リード型フラットパッケージICにより構成される。
図2は、図1に示されたIC50の平面図であり、図3は、IC50を図2のIII方向から見た正面図である。
図2および図3を参照して、IC50は、ボディ55の第1の辺51から複数のリード61が突出するとともに、第2の辺52から複数のリード62が突出するように構成される。複数のリード61および62が設けられる第1の辺51および第2の辺52には、ボディ55の4辺のうちの対向する2辺が用いられる。これにより、複数のリード61および62は、180度異なる方向へ向けてそれぞれ突出する。
また、図3に示されるように、各リード61,62は、鉛直方向および水平方向に屈曲された部位が設けられた、いわゆる、ガルウィング形(L字形)の構造を有することが一般的である。複数のリード61,62は、IC50が他の電子部品との間で電気的コンタクトを確保するために設けられる。
本実施の形態によるプリント基板10は、噴流式半田槽を用いたフロー方式の半田付けによって、IC50を含む電子部品が実装される。
再び図1を参照して、プリント基板10は、接着剤等の塗布により電子部品が半田面11に対して接着された状態となってから、フロー工程へ送られる。この状態において、IC50を含む電子部品の各リードは、プリント基板10の半田面11に予め形成されたランド(図示せず)と当接させた状態でプリント基板に仮留めされている。
図4は、プリント基板10を半田付けするためのフロー工程を説明する概念図である。
図4を参照して、フロー工程において、プリント基板10は、天地逆さまにされた状態でコンベア等に装着されて、半田槽の上を搬送される。図4は、逆さまにされたプリント基板10を辺1cの方向から見た図である。
フロー工程では、溶融した半田を噴流させている半田槽に、プリント基板10の片面(半田面11)が浸漬される。この結果、仮留めされたプリント基板のランドおよび各リードに、溶融した半田が付着されることによって、自動的に半田付けが行われる。
フロー工程において、プリント基板10は、図1および図4に矢印で示されたA方向に搬送される。すなわち、A方向は、半田付けの進行方向に相当する。一方で、溶融状の半田は、プリント基板10上の各要素に対して、図4に矢印で示されたB方向に流れることが理解される。B方向は、プリント基板10が搬送されるA方向に対して反対(180度)の方向である。以下では、A方向を「搬送方向」とも称し、B方向を「半田フロー方向」とも称する。
再び図1を参照して、IC50は、プリント基板10の各辺1a〜1dに対して斜めに装着される。さらに、IC50を半田付けする際に余剰の半田を引き込むための半田引きランド110および120が、IC50毎に設けられる。半田引きランド110および120は、余剰半田を吸い取ることを目的としたいわゆる捨てランドであり、通常、電気的な役割を有していないものである。ただし、電気的な役割を有する、すなわち、他の電子部品等と電気的に接続されたランドによって、半田引きランド110および120を形成してもよい。
半田引きランド110は、複数のリード61間での半田ブリッジの発生を防止するために設けられ、半田引きランド120は、複数のリード62間での半田ブリッジの発生を防止するために設けられる。半田引きランド110および120の構成については、後程詳細に説明する。
図1においても、搬送方向(A方向)および半田フロー方向(B方向)が矢印で示される。リード61が設けられる第1の辺51およびリード62が設けられる第2の辺52は、A方向およびB方向の位置関係で区別される。具体的には、搬送方向(A方向)の上流側に位置する第1の辺51は、半田フロー方向(B方向)の下流側に位置し、A方向の下流側に位置する第2の辺52は、B方向の上流側に位置している。
次に、図5および図6を用いて、プリント基板10上の半田引きランド110,120の形状を詳細に説明する。
図5には、プリント基板10の半田面に形成された半田引きランドを図4のZ方向から透視した平面図が示される。
図5を参照して、半田フロー方向(B方向)の下流側の第1の辺51に対応して、複数のリード61を半田付けするためのリードランド群101が配置されている。同様に、半田フロー方向(B方向)の上流側の第2の辺52に対応して、複数のリード62を半田付けするためのリードランド群102が配置されている。すなわち、リードランド群101は「第1のリードランド群」に対応し、リードランド群102は「第2のリードランド群」に対応する。各リードランドには、半田を吸着するための金属箔(代表的には、銅箔)が形成される。
リードランド群101および102の各々は、第1の辺51および第2の辺52の延在方向に沿って、C方向に配列されている。リードランド群101および102の配列方向(C方向)は、半田フロー方向(B方向)に対して斜交している。好ましくは、C方向は、B方向に対して45度の角度を成す。
フロー工程では、噴流によって半田が動的な力を受けているので、溶融した半田は、リードランド群102に対して斜め方向に流入する。さらに、リードランド群102からボディ55に達した半田は、第2の辺52に沿って、図5中の左斜め下方向へ流れる。
ここで、溶融した半田は、流動性を有すると共に、表面張力も備えている。そのため、ランド等に付着された半田は、球形を形成しようとする。リードピッチが狭くランド間が狭い場合には、隣り合う球形の半田同士が容易にくっついてしまい、半田ブリッジが発生する。また、溶融した半田は、熱容量の小さいランドから大きいランドへ移動し易い。さらに、半田ブリッジは、上述の動的な力を受けることにより、リードランド群102上を移動するので、半田の流れ方向の上流側よりも下流側に滞留することとなる。
したがって、リードランド群102のうちの、半田フロー方向(B方向)の最下流側に位置する最終リードランド102Lに隣接して、半田引きランド120が設けられる。
半田引きランド120は、第1のサブランド121および第2のサブランド122を有する。第1のサブランド121および第2のサブランド122の各々は、プリント基板10上のレジストを剥離することによって形成される領域である。第2のサブランド122は、分離部170によって、第1のサブランド121から分離されている。
第1のサブランド121および第2のサブランド122の各々には、半田を吸着するための金属箔(代表的には、銅箔)が形成される。
図6は、半田引きランド120の拡大図である。
図6を参照して、リードランド群102において、溶融した半田は、B♯方向に沿って動的な力を受ける。B♯方向は、ランド辺152の延在方向(C方向)に平行であり、半田フロー方向の上流側から下流側へ向かう。C方向およびB♯方向は、「第1の方向」に対応する。
半田引きランド120のうちの第1のサブランド121は、ランド辺151,152,152♯,153〜155により区画される。ランド辺151は、最終リードランド102Lに対向する。ランド辺151は、リードランド群101の各ランドと同等またはそれ以上の長さを有する。
ランド辺152,152♯は、リードランド群101から余剰半田が動的な力を受ける方向であるB♯方向に沿って延在する。ランド辺152,152♯は、ランド辺151の両端と接続される。したがって、ランド辺152は、ランド辺151の一端(半田フロー方向上流側)に直接続いて設けられる。辺153は、ランド辺152♯を経由して、ランド辺151の他端(半田フロー方向下流側)に続いて設けられる。ランド辺153は、半田フロー方向(B方向)に沿って延在する。
ランド辺154は、ランド辺152と接続されて、半田フロー方向(B方向)に沿って延在する。ランド辺155は、ランド辺153およびランド辺154を、半田フロー方向(B方向)の下流側で接続するように形成される。したがって、ランド辺155は、半田フロー方向(B方向)に交差する方向に延在する。このように、ランド辺151、152,153,154および155は、「第1のランド辺」〜「第5のランド辺」にそれぞれ相当する。
これにより、第1のサブランド121には、最終リードランド102Lに隣接して設けられ、かつ、B♯方向(C方向)に沿って区画された部位(ランド辺152,152♯)を有する領域R1と、領域R1と連続的に設けられた領域R2とが形成される。
領域R1は、ランド辺152(152♯)によって、B♯方向に沿った動的な力を受ける余剰半田を、リードランド群102から積極的に排出するように導くことができる。領域R2は、領域R1からの余剰半田を、異なる方向、具体的には、半田フロー方向(B方向)に導くことができる。この結果、領域R2では、ランド辺155に到達した半田が跳ね返されても、半田がリードランド群102へ戻ることがない。すなわち、領域R2では、領域R1からの半田の流れ方向(B♯)を変化させるような経路を形成することにより、半田がリードランド群102へ戻されることを防止できる。
また、領域R2は、半田フロー方向(B方向)に沿った経路を形成することにより、プリント基板10の搬送によって半田に作用する動的な力により、領域R1へ流入した半田を、効果的にリードランド群102から遠ざけることができる。このように、領域R1およびR2は、「第1の領域」および「第2の領域」にそれぞれ相当する。
第2のサブランド122は、分離部170によって第1のサブランド121とは分離される。第2のサブランド122は、第1のサブランド121のランド辺155と対向するランド辺156を有する。これにより、第2のサブランド122は、第1のサブランド121に対して、半田フロー方向(B方向)に沿って隣接する領域R3を形成するように配置される。すなわち、第2のサブランド122によって、半田引きランド120の「第3の領域」が形成される。分離部170は、第1のサブランド121および第2のサブランド122の間に、レジストを剥離しない領域を残すことによって形成することができる。
図7には、図6における模式的なVII−VII断面図が示される。
図7を参照して、第1のサブランド121および第2のサブランド122の各々は、レジスト12を剥離することにより、プリント基板10(半田面11)の表面よりも低くなっている。第1のサブランド121および第2のサブランド122に形成された金属箔14により、余剰半田が吸着される。
この際に、余剰半田は、半田フロー方向(図6中のB方向)に沿って、第1のサブランド121から第2のサブランド122へ向かう方向に導かれる。第1のサブランド121および第2のサブランド122の間の分離部170は、レジスト12が剥離されずに残された領域によって形成されるため、第1のサブランド121および第2のサブランド122よりも高い。このため、分離部170は、第1のサブランド121から第2のサブランド122へ流入した余剰半田が、第2のサブランド122の先端(B方向)に達して跳ね返されたときに、第1のサブランド121への逆流に対する障壁として作用する。このように、分離部170によって、第1のサブランド121および第2のサブランド122の間に凹凸を設けることによって、半田引きランド120へ流された余剰半田が、リードランド群102へ戻されることを防止できる。
なお、分離部170については、レジスト12が剥離された領域に、金属箔が非形成とされた領域を設けることによって形成されてもよい。この場合にも、金属箔の有無によって、分離部170により第1のサブランド121および第2のサブランド122の間に凹凸を設けることができる。
再び図6を参照して、第2のサブランド122の先端は、半田フロー方向(B方向)に沿って、先細りの形状を有するように形成される。このようにすると、第2のサブランド122の先端に到達した余剰半田が、第1のサブランド121へ向けて反対方向に戻る動的な力を、軽減することができる。この結果、半田引きランド120からリードランド群102へ余剰半田が戻ることを防止できる。
再び図5を参照して、第1の辺51に対応して設けられるリードランド群101に対しては、半田フロー方向(B方向)にボディ55に当たった後の半田が供給される。この場合にも、半田は、第1の辺51の延在方向(C方向)に沿って動的な力を受ける。
したがって、リードランド群101においても、半田は、リードランド群102と同様の方向に動的な力を受ける。したがって、リードランド群101に対しても、半田引きランド120と同様に、半田引きランド110が設けられる。半田引きランド110は、第1のサブランド111および第2のサブランド112を有し、第1のサブランド111および第2のサブランド112の各々には、金属箔(銅箔)が形成されている。第1のサブランド111および第2のサブランド112の間は、分離部170と同様に形成された、分離部171によって分離されている。
第1のサブランド111と、リードランド群101のうちの最終リードランド101Lとの配置関係は、リードランド群102における第1のサブランド121および最終リードランド102Lの位置関係と同様である。また、図6にも示されるように、第1のサブランド111および第2のサブランド112は、リードランド群102に対する第1のサブランド121および第2のサブランド122と同様の形状で設けることができる。
また、半田引きランド120において、第2のサブランド122の形状は、分離部170を挟んで、第1のサブランド121のうちの、C方向に沿った辺を有する矩形領域121♯を除いた領域と線対称になるような形状で設けられる。同様に、半田引きランド110においても、第1のサブランド111のうちの、C方向に沿った辺を有する矩形領域111♯を除いた領域と線対称になるような形状で設けられてもよい。すなわち、第1のサブランド111,121は、分離部170,171を挟んで第2のサブランド112,122と線対称の形状(ホームベース状)の領域を含むように形成される。このようにすると、第2のサブランド112,122(領域R3)による余剰半田の吸収効果を高めることができる。
このように、本実施の形態1によるプリント基板によれば、半田引きランド110,120において、リードランド群101,102からの余剰半田の流れ方向(B♯方向、すなわちC方向)に沿った経路を形成する第1の領域と、余剰半田の流れを半田フロー方向に変化させるための第2の領域とを連続的に設け(第1のサブランド111,121)、さらに、半田フロー方向下流に第2の領域から分離された第3の領域(サブランド112,122)を設けることができる。
これにより、リードランド群101,102からの余剰半田を半田引きランド110,120へ積極的に導くとともに、半田引きランド110,120での余剰半田の跳ね返りを、リードランド群101,102へ戻り難くすることができる。
したがって、フロー工程におけるリードランド群101,102での余剰半田を半田引きランド110,120で効果的に吸着することによって、IC50のリードランド間に半田ブリッジが生じることを防止できる。
[実施の形態2]
実施の形態2では、半田フロー方向(B方向)の上流側の半田引きランド120の形状の変形例を説明する。
図8は、実施の形態2に従う半田引きランドの形状を説明する平面図である。図9は、図8に示された、半田引きランド120の拡大図である。
図8および図9を参照して、実施の形態2では、半田フロー方向(B方向)の上流側の半田引きランド120の形状が、下流側の半田引きランド110と異なる。なお、半田引きランド110は「第1の半田引きランド」に対応し、半田引きランド120は「第2の半田引きランド」に対応する。
具体的には、半田引きランド120では、第1のサブランド121の領域R2のB方向(半田フロー方向)に沿った長さ(ランド辺153,154のB方向長さ)が、半田引きランド110の第1のサブランド111よりも短くなる。さらに、図6でのランド辺152♯が省略される。これにより、ランド辺151の一端(半田フロー方向下流側)に対してランド辺152が図6と同様に設けられるのに対して、ランド辺153は、図6とは異なり、ランド辺151の他端(半田フロー方向下流側)に続いて直接配置される。このように、ランド辺152♯を省略して、ランド辺151〜155によって半田引きランド120を形成することも可能である。
B方向上流側の半田引きランド120では、フロー工程において、溶融した半田は、リードランド群102を通過してからボディ55に到達することにより、リードランド群102の配列方向(C方向)に沿って、第1のサブランド121(領域R1)へ向かう動的な力が比較的大きい。
一方で、B方向下流側の半田引きランド110では、フロー工程において、溶融した半田は、ボディ55を乗り越えてからリードランド群102に到達する。したがって、リードランド群101の配列方向(C方向)に沿って、第1のサブランド111(領域R1)へ向かう、余剰半田の動的な力は、相対的に弱くなっている。
したがって、上流側の半田引きランド120では、リードランド群102から流れ込む余剰半田の動的な力が相対的に大きいため、第1のサブランド121における領域R2の長さをそれ程確保しなくても、領域R1への余剰半田を、半田フロー方向(B方向)に隣接した第2のサブランド122へ導くことが可能となる。
一方で、下流側の半田引きランド110では、第1および第2のサブランド111,112は、実施の形態1と同様の形状で形成することによって、領域R2において、リードランド群101からの余剰半田の流れを半田フロー方向(B方向)に沿った方向に変化させる。これにより、余剰半田をサブランド112へ十分に導くことができる。
上述のように、半田引きランドは、電気的な役割を有しておらず、電気的な役割を有していないため、プリント基板上のレイアウト面からは、可能な限り小面積化することが好ましい。
したがって、本実施の形態2によるプリント基板によれば、リードランド群からの余剰半田を第2のサブランド(領域R3)へ導き易く、半田フロー方向(B方向)の上流側のリードランド群102に対応する半田引きランド120を小面積化することができる。
さらに、半田引きランド120では、領域R3を形成する第2のサブランド122の形状も、第1のサブランド121と対応させて変更されることが好ましい。たとえば、図8および図9に示されるように、第2のサブランド122は、分離部170を挟んで、第1のサブランド121に対して線対称の領域を有するような形状で形成される。これにより、第2のサブランド122による半田吸収効果を高めるとともに、小面積化することができる。
[実施の形態3]
実施の形態3では、半田引きランドの半田フロー方向(B方向)の下流側のサブランドの変形例を説明する。
図10は、実施の形態3に従う半田引きランドの第1の例を説明する平面図である。
図10を参照して、実施の形態3に従うプリント基板では、半田引きランド110,120のうちの少なくともいずれかにおいて、第1のサブランド111および/または121に対して、分離部170および/または171を挟んで、半田フロー方向(B方向)の下流側に複数個のサブランドが設けられる。
図10の例では、図8(実施の形態2)と同様に第1のサブランド111および第2のサブランド112が形成されたプリント基板において、第1のサブランド111に対して、分離部171を挟んで、複数個のサブランド112a,112bが設けられる。第1のサブランド121に対応する第2のサブランド122の形状は、図8と同様であるので詳細な説明は繰り返さない。
複数個のサブランド112a,112bの間には、分離部171と同様の分離部によって分離される。したがって、分離部171を超えて半田フロー方向(B方向)へ流入した余剰半田が、第1のサブランド111を経由してリードランド群101へ戻り難くすることができる。
サブランド112a,112bの各々は、分離部171を超えて、第1のサブランド111から流入した余剰半田を、半田フロー方向(B方向)の下流側へ導くような形状、たとえば、図示するような先細りの形状で設けることができる。好ましくは、サブランド112a,112bは、同一形状で設けることが好ましい。また、サブランドの個数についても、面積の増加を考慮すると、できれば2個とすることが好ましい。
あるいは、サブランド112a,112bは、第1のサブランド111と、分離部171を挟んで線対称の形状で設けることも可能である。ただし、面積の増加を考慮すると、図10のような小面積の形状で設けることが好ましい。
図11は、実施の形態3に従う半田引きランドの第2の例を説明する平面図である。
図11の例では、図5(実施の形態1)と同様に第1のサブランド111,121が形成されたプリント基板において、第1のサブランド111,121の両方に対して、分離部170,171を挟んで、複数個の第2のサブランド112a,112bおよび122a,122bが設けられる。
第2のサブランド112a,112b,122a,122bの各々は、図10のサブランド112a,112bと同様の形状で設けることができる。図10と同様に、第2のサブランド122a,122bについても同一形状で設けることが好ましい。
このように実施の形態3によれば、第1のサブランド111,121から分離部170,171を超えて半田フロー方向(B方向)へ流入した余剰半田が、第1のサブランド111,121を経由してリードランド群101,102へ戻り難くすることができる。したがって、IC50のリードランド間に半田ブリッジが生じることをさらに効果的に防止できる。
なお、実施の形態3は、実施の形態1および2と適宜組み合わせることができる。すなわち、実施の形態1または2に従う、第1のサブランド111,121の少なくともいずれかに対して、逐次、サブランド112および/または122を複数個(好ましくは2個)設けることが可能である。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1a〜1d 辺(プリント基板)、10 プリント基板、11 半田面、12 レジスト、14 金属箔 51 第1の辺(IC)、52 第2の辺(IC)、55 ボディ、61,62 リード、101,102 リードランド群、101L,102L 最終リードランド、110,120 半田引きランド、111,121 第1のサブランド、112,112a,112b,122,122a,122b 第2のサブランド、151,152,152♯,153,154,155,156 ランド辺、170,171 分離部、R1,R2 領域(第1のサブランド)、R3 領域(第2のサブランド)。

Claims (7)

  1. 第1の辺および前記第1の辺に対向する第2の辺の各々にリードを有する2方向リード型フラットパッケージの集積回路が実装されるプリント基板であって、
    前記プリント基板の半田面に設けられた、前記第1の辺のリードを半田付けするための第1のリードランド群と、
    前記半田面に設けられた、前記第2の辺のリードを半田付けするための第2のリードランド群と、
    前記第1のリードランド群に隣接して設けられた第1の半田引きランドと、
    前記第2のリードランド群に隣接して設けられた第2の半田引きランドとを備え、
    前記第1および第2のリードランド群の各々は、前記集積回路を前記プリント基板へ半田付けする際の半田フロー方向に対して斜交する第1の方向に沿って配列され、
    前記半田フロー方向は、半田フロー工程における前記プリント基板の搬送方向と反対の方向であり、
    前記第1および第2の半田引きランドの各々は、
    前記第1および第2のリードランド群のうちの前記半田フロー方向の最下流側に位置する最終リードに隣接して設けられ、前記第1の方向に沿って区画された部位を有するように形成される第1の領域と、
    前記第1の領域と連続して設けられ、前記半田フロー方向に沿った経路を形成するための部位を有するように形成される第2の領域と、
    前記第2の領域から分離され、かつ、前記半田フロー方向に沿って前記第2の領域に隣接する第3の領域とを含む、プリント基板。
  2. 連続的に形成される前記第1および第2の領域は、
    前記最終リードに対向するとともに前記最終リードと同等またはそれ以上の長さを有する第1のランド辺と、
    前記第1のランド辺の前記半田フロー方向の上流側の一方端に続いて設けられ、前記第1の方向に沿って延在する第2のランド辺と、
    前記第1のランド辺の他方端に続いて設けられ、前記半田フロー方向に沿って延在する第3のランド辺と、
    前記第2のランド辺と接続されて前記半田フロー方向に沿って延在する第4のランド辺と、
    前記第3および第4のランド辺の間を接続する、前記半田フロー方向に対して交差する方向に延在する第5のランド辺とを含み、
    前記第3の領域は、
    前記第5のランド辺と対応する第6のランド辺を有する、請求項1記載のプリント基板。
  3. 前記第2のリードランド群は、前記第1のリードランド群よりも前記半田フロー方向の上流側に位置しており、
    前記第2の半田引きランドにおける前記第3および第4のランド辺は、前記第1の半田引きランドにおける前記第3および第4のランド辺よりも短い、請求項2記載のプリント基板。
  4. 前記第1および第2の半田引きランドの少なくともいずれかにおいて、前記第3の領域は、前記半田フロー方向に沿って先細りの形状を有するように形成される、請求項1または2に記載のプリント基板。
  5. 前記第1および第2の半田引きランドの少なくともいずれかにおいて、連続的に形成される前記第1および第2の領域は、前記第2および第3の領域を分離する領域を挟んで、前記第3の領域と線対称の形状の領域を含むような形状で形成される、請求項1〜4のいずれか1項に記載のプリント基板。
  6. 前記第1および第2の半田引きランドの少なくともいずれかにおいて、前記第3の領域は、間隔を設けて複数個配置される、請求項1〜5のいずれか1項に記載のプリント基板。
  7. 前記第1の方向は、前記半田フロー方向に対して45度の角度を成す、請求項1〜6のいずれか1項に記載のプリント基板。
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