JP2016041493A - 液体吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】記録を行った際、液体の着弾位置ずれ量を把握することができる液体吐出ヘッドを提供する。
【解決手段】縮小投影露光装置を用いて露光することにより、感光性樹脂材料を含む層に吐出口のパターンを形成する工程を含む液体吐出ヘッドの製造方法であって、縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの一部であるテレセン測定パターンAを、マスクを介した露光により形成する第一の工程と、第一の工程における露光条件からデフォーカスさせて、縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの他の一部であるテレセン測定パターンBを、マスクを介した露光により形成する第二の工程とを含み、テレセン測定パターンAおよびテレセン測定パターンBの相対的な形成位置ずれ量とデフォーカス量とから、軸外テレセン度を把握する方法。
【選択図】図6

Description

本発明は、液体吐出ヘッドの製造方法に関する。
吐出口から液体を吐出する液体吐出ヘッドとしては、例えばインクを紙等の記録媒体に吐出して記録を行うインクジェット記録ヘッドが挙げられる。液体吐出ヘッドを製造する方法としては、例えば特許文献1に記載された方法が挙げられる。まず、吐出口から液体を吐出させるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を有する基板を用意する。次いで、基板上に光吸収剤を含むポジ型感光性樹脂の層を形成する。そして、ポジ型感光性樹脂の層に対して露光及び現像処理を行い、流路の形状を有する流路パターンを形成する。次いで、該流路パターンを覆うように吐出口形成部材となる感光性を有する層を形成し、該感光性を有する層に対してi線(波長365nm)による露光・現像処理を行い、吐出口を形成する。その後、前記流路パターンを除去することにより、流路を形成する。
特開2009−166492号公報
前記方法では、吐出口形成部材となる感光性を有する層に対して露光を行う際、縮小投影露光を用いることができる。この場合、本発明者等は、露光エリアの外周近傍に形成された吐出口について、該吐出口より吐出された液体が理想の着弾位置からずれ、その結果、記録(例えば印字)を行った際に記録品位が低下することを見出した。その原因を解析した結果、本発明者等は、縮小投影露光を行う場合、露光エリアの中央部に比べて露光エリアの端部近傍では、主光線の光軸に対する傾きが大きくなることを見出した。そのため、各吐出口を露光する主光線の光軸に対する傾きは、厳密には僅かに異なる。この差が印字品位に影響することを考えると、液体吐出ヘッド内の吐出口を形成するための主光線の光軸に対する傾きを把握することは、印字品位の向上・安定化につながる。
主光線の光軸に対する傾きは、得られた液体吐出ヘッドを備えるインクジェットプリントヘッドによって実際に印字を行うことで把握できる。しかしながら、この方法では印字が可能な形態までインクジェットプリントヘッドの作製を進める必要がある。もし印字を行った結果、印字品位が規格を外れた場合には、製品として出荷できない懸念がある。そのため、なるべく早い段階で主光線の光軸に対する傾きを把握することが望ましい。
そこで、吐出口形成の際に、主光線の光軸に対する傾きを把握可能なパターン(以下、「テレセン測定パターン」と呼ぶ)を吐出口形成位置の近傍に形成すれば、液体吐出ヘッドの製造の段階で記録への影響を把握することができると考えられる。さらに、各液体吐出ヘッドについて主光線の光軸に対する傾き度合を一定の値でランク分けすることで、インクジェットプリントヘッドの作製にフィードバックをかけることができると考えられる。例えば、複数の液体吐出ヘッドを備えるインクジェットプリントヘッドにおいて、ランクの近い液体吐出ヘッドを選別し、インクジェットプリントヘッドの製造に用いることで、インクジェットプリントヘッド全体として印字品位の向上、安定化が期待できる。
本発明は、記録を行った際、液体の着弾位置ずれ量を把握することができる液体吐出ヘッドを提供することを目的とする。
本発明に係る液体吐出ヘッドの製造方法は、縮小投影露光装置を用いて露光することにより、感光性樹脂材料を含む層に吐出口のパターンを形成する工程を含む液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの一部である、テレセン測定パターンAを、マスクを介した露光により形成する第一の工程と、
前記第一の工程における露光条件からデフォーカスさせて、前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの他の一部である、テレセン測定パターンBを、マスクを介した露光により形成する第二の工程と、
を含み、
前記テレセン測定パターンAおよび前記テレセン測定パターンBの相対的な形成位置ずれ量とデフォーカス量とから、軸外テレセン度を把握する。
また、本発明に係るインクジェットプリントヘッドの製造方法は、複数の液体吐出ヘッドを備えるインクジェットプリントヘッドの製造方法であって、本発明に係る方法により複数の液体吐出ヘッドを製造する工程と、前記把握された軸外テレセン度が近い液体吐出ヘッドを選別する工程と、を含む。
本発明によれば、得られる液体吐出ヘッドの吐出口の傾きを事前に把握できるため、記録を行った際、液体の着弾位置ずれ量を把握することができる液体吐出ヘッドを提供することができる。
本発明に係る方法により製造される液体吐出ヘッドの一例を示す模式的斜視図である。 縮小投影露光装置によって縮小投影露光を行う様子を示した模式的断面図である。 縮小投影露光における光線および吐出口の傾きを示す模式的断面図である。 テレセン測定パターンの形成方法の一例を示す模式的上面図である。 テレセン測定パターンの形成方法の一例および軸外テレセン度の測定原理を示す模式的断面図である。 実施形態1に係るテレセン測定パターンおよび吐出口の形成工程を示す模式的上面図である。 実施形態2に係るテレセン測定パターンおよび吐出口の形成工程を示す模式的上面図である。 実施形態3に係るテレセン測定パターンおよび吐出口の形成工程を示す模式的上面図である。
本発明に係る液体吐出ヘッドの製造方法は、縮小投影露光装置を用いて露光することにより、感光性樹脂材料を含む層に吐出口のパターンを形成する工程を含む液体吐出ヘッドの製造方法であって、前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの一部である、テレセン測定パターンAを、マスクを介した露光により形成する第一の工程と、前記第一の工程における露光条件からデフォーカスさせて、前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの他の一部である、テレセン測定パターンBを、マスクを介した露光により形成する第二の工程と、を含み、前記テレセン測定パターンAおよび前記テレセン測定パターンBの相対的な形成位置ずれ量とデフォーカス量とから、軸外テレセン度を把握する。
また、本発明に係るインクジェットプリントヘッドの製造方法は、複数の液体吐出ヘッドを備えるインクジェットプリントヘッドの製造方法であって、本発明に係る方法により複数の液体吐出ヘッドを製造する工程と、前記把握された軸外テレセン度が近い液体吐出ヘッドを選別する工程と、を含む。
前述したように、本発明者等は、縮小投影露光において、光線がマスクに形成された露光パターンを通過する位置が、吐出口から吐出した液体の着弾位置ずれ量に影響を与えることを見出した。以下、この点に関して詳細に説明する。
図2は、縮小投影露光装置によって縮小投影露光を行う様子を示している。縮小投影露光装置は、光源からの光線束20をマスク22に向けて照射する照明光学系21と、マスク22に形成された透光パターン(露光パターン)を、感光性樹脂材料を含む層に縮小投影する縮小投影光学系23と、を備える。ここで、照明光学系21から照射される光線束20の中心とマスク22の中心が同軸上にある場合、マスク22の外周部に照射される光線261は、マスク22の中心に照射される光線25よりも、液体吐出ヘッド1の表面に対して傾いて入射する。即ち、マスク22の中心に照射される光線25が液体吐出ヘッド1の表面に垂直に入射したとしても、マスク22の外周部に照射される光線261は、液体吐出ヘッド1の表面に垂直な方向に対して僅かに傾く。
マスク22に形成された露光パターンのうち、マスク22の外周部付近に配置された露光パターンを通過した光線は、所定の傾きをもって液体吐出ヘッド1に投影されるため、液体吐出ヘッド1上の吐出口も傾いて形成されることになる。傾いて形成された吐出口から吐出される液滴は、理想の着弾位置からずれて記録媒体に着弾することになる。本発明に係る液体吐出ヘッドの製造方法によれば、この理想の着弾位置からのずれを事前に把握することができる。
図1は、本発明に係る方法により製造される液体吐出ヘッドの一例を示す模式図である。図1に示される液体吐出ヘッド1は、液体を吐出するエネルギーを発生させるエネルギー発生素子2が、所定のピッチで2列に並んで形成された基板10を有する。基板10には、液体を供給する供給部3が、エネルギー発生素子2の2つの列の間に開口している。基板10上には、吐出口形成部材9によって、各エネルギー発生素子2に対応した吐出口11と、供給部3から各吐出口11に連通する流路(不図示)が形成されている。
このように、吐出口形成部材9は、流路の一部を形成する部材としても機能する。そこで、吐出口形成部材9に含まれる材料には、高い機械的強度、下地との密着性、耐インク性、更には吐出口11の微細なパターンをパターニングするための解像性が求められる。これらの特性を満足する材料としては、例えばカチオン重合型のエポキシ樹脂が挙げられる。該エポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールAとエピクロルヒドリンとの反応物、含ブロモビスフェノールAとエピクロルヒドリンとの反応物、フェノールノボラック又はo−クレゾールノボラックとエピクロルヒドリンとの反応物が挙げられる。該エポキシ樹脂のエポキシ当量は2000以下であることが好ましく、1000以下であることがより好ましい。該エポキシ当量が2000以下であることにより、エポキシ樹脂の硬化反応の際に架橋密度が低下せず、密着性や耐インク性が向上する。
前記エポキシ樹脂を硬化させるための光カチオン重合開始剤としては、光照射により酸を発生する化合物が挙げられる。例えば、芳香族スルフォニウム塩や芳香族ヨードニウム塩が挙げられる。また、必要に応じて、波長増感剤を添加してもよい。波長増感剤としては、例えば(株)ADEKAより市販されているSP−100(商品名)が挙げられる。
図1に示される液体吐出ヘッド1は、吐出口11が形成された第一の面が記録媒体の記録面に対向するように配置される。そして、供給部3を介して流路内に充填された液体(例えばインク)に、エネルギー発生素子2によって発生するエネルギーを加えることによって、吐出口11から液滴を吐出させる。この液滴を記録媒体に付着させることによって記録を行う。
次に、縮小投影露光装置について、再び図2を用いて説明する。露光には、例えば高圧水銀灯から放射される光線のうちi線を用いることができる。露光はこれに限られるものではなく、パターニングする部材が感光する波長を有する光であればよい。
ここで、縮小投影光学系では、フォーカス位置をベストフォーカスからデフォーカスさせると、ディストーション(デフォーカスディストーション)が発生することがある。デフォーカスの度合いによってディストーションの大きさは変化する。本発明では、このデフォーカスディストーションの大きさを「軸外テレセン度」と定義する。「テレセン」とは「テレセントリック」の略称であり、テレセントリック性とは光学系の光軸に対する主光線の平行性を表すものである。
軸外テレセン度の絶対値は、光線束の中心の光線に比べて、光線束の外側の光線の方が大きくなる傾向にある。なお、光線束の中心とは、マスクと平行な断面における、光線束の重心を意味する。光線束の中心とマスクの中心が一致している(同軸上にある)場合、マスク22の中心に照射される光線25に比べて、マスク22の外周部に照射される光線261の方が、軸外テレセン度の絶対値は大きくなる。マスク22の中心と縮小投影光学系23の光軸は基本的に一致しているので、縮小投影光学系23の光軸との関係でも同様である。軸外テレセン度の影響により、照明光学系21からマスク22に照射される光線20が、液体吐出ヘッド1の表面に垂直な方向に対して傾きをもつことになる。この光線の傾き角をφ1とすると、1μmデフォーカスさせることによるディストーションによる結像位置の変化は、1000×tanφ1(nm)と示される。通常、結像位置の変化は「nm」のオーダーとなるので、傾き角φ1は非常に小さい値であり、tanφ1≒sinφ1としても差し支えない。
図3(a)に示されるように、傾き角(入射角)φ1の光線262が基板上の吐出口形成部材9に照射されると、パターニングされる吐出口の傾き角φ2は、吐出口形成部材9に含まれる感光性樹脂材料の屈折率をn、空気の屈折率を1とすると、φ2≒φ1/nと示される。
図3(b)に示されるように、傾き角φ2の光線263により形成された吐出口11から吐出される液滴は、吐出口11の傾き角φ2によって、吐出口形成部材9の表面である第一の面15に垂直な方向に対して傾いて吐出される。このため、記録媒体16に着弾した際に、理想の着弾位置Aからずれて液体が着弾することになる(実際の着弾位置B)。第一の面15から記録媒体16までの距離をZとした場合、着弾位置のずれ量Lは、L=Ztanφ2となる。
本発明では、例えば以下のように液体吐出ヘッドを作製することができる。まず、吐出口から液体を吐出させるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を有する基板を用意する。次いで、該基板上に光吸収剤を含む感光性樹脂を含む層を形成する。そして、フォトリソグラフィ法により、該感光性樹脂を含む層に対して露光を行い、流路の形状を有するパターンを形成する。次いで、該パターンを覆うように吐出口形成部材となる感光性樹脂材料を含む層を形成する。該感光性樹脂材料は、ネガ型であってもポジ型であっても良い。
次に、透光パターンが形成されたマスクを介して、前記感光性樹脂材料を含む層に対し、上記の縮小投影露光装置を用いて縮小投影露光する。なお、マスクには、感光性樹脂材料を含む層に形成する吐出口パターンに対応する透光パターンが形成されている。ここで、該マスクにテレセン測定パターン用の透光パターンが形成されていてもよく、該マスクとは別のマスクにテレセン測定パターン用の透光パターンが形成され、別途縮小投影露光が行われてもよい。それから、現像処理を行うことにより、マスク上の透光パターンに対応する吐出口パターン、テレセン測定パターンが感光性樹脂材料を含む層に形成される。その後、吐出口を介して前記流路パターンを除去することにより、吐出口形成部材内に流路が形成される。
次に、本発明におけるテレセン測定パターンの製造プロセスの一例について説明する。図4(a)〜(c)は、吐出口形成部材9上にテレセン測定パターンを形成する方法の一例を示す模式的上面図である。図4(a)に示されるように、吐出口形成部材9の第一の面上にテレセン測定パターン外枠17となるパターン(以下、「テレセン測定パターンA」と示す)を縮小投影露光により形成する。また、便宜上、図4(a)に記載の通り、x方向およびy方向を設定する。吐出口形成部材9を形成する感光性樹脂材料は、先述の通り、ネガ型であってもポジ型であっても良いが、以降ネガ型の場合を考える。図4(a)において、テレセン測定パターン外枠17で囲まれる領域は未露光領域であり、つまりテレセン測定パターンAは未露光領域で形成される。次いで、図4(b)に示されるように、テレセン測定パターン内枠18となるパターン(以下、「テレセン測定パターンB」と示す)を、先ほど形成したテレセン測定パターンAの内側に形成する。図4(b)において、テレセン測定パターン内枠18で囲まれる領域は露光領域であり、つまりテレセン測定パターンBは露光領域で形成される。この時、テレセン測定パターンBはテレセン測定パターンAを形成したフォーカス値からデフォーカスさせて形成する。マスクに形成されたテレセン測定パターンBはマスクに形成されたテレセン測定パターンAと相似形であることが好ましい。また、マスクに形成されたテレセン測定パターンAの重心位置と、マスクに形成されたテレセン測定パターンBの重心位置とが一致するようにパターン位置を設定する。但し、軸外テレセンが発生する場合、図4(b)に示されるように表面上は両パターン位置の重心はずれて形成される。この理由については、図5の説明において記載する。その後、図4(c)に示されるように、現像処理を行うことで、テレセン測定パターンAとテレセン測定パターンBの間の未露光領域が除去され、テレセン測定パターン19が形成される。
次に、本発明におけるテレセン測定パターンの製造プロセス、および軸外テレセン度の測定原理について説明する。図5(a)〜(c)は感光性樹脂材料を含む層9の第一の面上にテレセン測定パターンを形成する場合の模式的断面図であり、各々が図4(a)〜(c)のx方向の断面に相当する。縮小投影露光装置の露光が軸外テレセン度を持つ場合、図5(a)に示されるように、テレセン測定パターンA(未露光領域)は光軸に対してある傾きをもって形成される。この時、外枠パターン端部171および外枠パターン中点位置172は図5(a)のように示される。フォーカス位置173は任意に設定可能であるが、ここでは感光性樹脂材料を含む層の第一の面をフォーカス位置173(上面基準)とした。次いで、図5(b)に示されるように、テレセン測定パターンBを形成する。この時、内枠パターン端部181および内枠パターン中点位置182は図5(b)のように示される。テレセン測定パターンBの形成においては、テレセン測定パターンAを形成したフォーカス位置173からデフォーカスさせている(デフォーカス位置183)。そのため、テレセン測定パターンAとテレセン測定パターンBについて、それぞれのフォーカス位置におけるパターンの重心位置は一致する。一方、テレセン測定パターンAのフォーカス位置173における、それぞれのパターンの重心位置は軸外テレセン度による分だけズレが生じる。次いで、図5(c)に示されるように、現像処理を行うことでテレセン測定パターンが形成される。ここで、テレセン測定パターンAおよびテレセン測定パターンBの重心位置ずれ量Rとデフォーカス量Dから、軸外テレセン度が算出される。軸外テレセン度については、先述の図3の考え方を用いることで求められる。具体的には、R/Dが軸外テレセン度となる。重心位置ずれ量Rの算出は、例えばテレセン測定パターンAおよびテレセン測定パターンBのエッジを検出することによって、その中点から算出できる。エッジの検出方法としては光の反射等を利用した光学的手法を用いることが可能である。なお、図5ではx方向の場合を考えたが、y方向についても同様の考え方で軸外テレセン度の測定が可能である。
以下、本発明に係る方法の実施形態を示す。なお、本発明は該実施形態に制限されるものではなく、本発明の思想及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。また、該実施形態ではテレセン測定パターンおよび吐出口の形成に関する工程を示すが、他の工程については前述した工程を適宜適用できる。
(実施形態1)
本発明の実施形態の一つとして、縮小投影露光においてテレセン測定パターンの形成と同時に吐出口のパターンを形成する実施形態を、図6を参照して示す。本実施形態では、テレセン測定パターンおよび吐出口のパターンの形成工程を一部削減できるため、コストを削減でき、また製造タクトを短縮できる利点がある。また、経時変化による露光量及び照度ムラ等の装置のばらつきによる影響等も低減できるため、より正確な軸外テレセン度を把握することが可能である。
まず、図6(a)に示されるように、感光性樹脂材料を含む層9の吐出口形成位置の近傍に、テレセン測定パターン外枠17を構成するテレセン測定パターンA 12を、縮小投影露光装置を用いた露光により形成する。感光性樹脂材料を含む層9の材料としてネガ型感光性樹脂を用いる場合、吐出口を形成する領域は遮光を行う。遮光を行う領域は、吐出口の大きさ、照明条件(開口数、絞り量等)、露光量、感光性樹脂材料を含む層9の感光性等にもよるが、吐出口形成位置を含め、吐出口形成位置の端部から少なくとも10μm以内の領域について遮光を行うことが好ましい。図6(a)では吐出口形成位置を含む斜線の領域について遮光を行っている。
テレセン測定パターンA 12の形状としては、特に限定されないが、軸外テレセン度の算出の簡便性を考慮すると、長方形又は円形が好ましい。テレセン測定パターンAのパターンの大きさとしては、特に限定されず、装置の解像性及び感光性樹脂材料を含む層9の現像性等を考慮して適宜設定することができる。テレセン測定パターンAのパターンが長方形である場合、例えば、縦の長さは10μm〜500μm、横の長さは10μm〜500μmとすることができる。また、テレセン測定パターンAのパターンが円形である場合、例えば、直径は10μm〜500μmとすることができる。
テレセン測定パターンA 12のパターン位置としては、より厳密に吐出口の軸外テレセン度を把握する観点から、吐出口形成位置近傍に配置することが好ましい。即ち、テレセン測定パターンA 12と、テレセン測定パターンA 12に最も近接する吐出口との最短距離が1000μm以下であることが好ましく、200μm以下であることがより好ましい。一方、前述したように吐出口を形成する領域は遮光するため、テレセン測定パターンA 12と、テレセン測定パターンA 12に最も近接する吐出口との最短距離は20μm以上であることが好ましく、50μm以上であることがより好ましい。
次いで、図6(b)に示されるように、縮小投影露光装置を用いた露光により、テレセン測定パターン内枠18を構成するテレセン測定パターンB 13の形成と同時に、吐出口のパターン14を形成する。この時、前記工程におけるマスクに形成されたテレセン測定パターンA 12のパターンの重心位置と、本工程におけるマスクに形成されたテレセン測定パターンB 13のパターンの重心位置とが一致するように露光を行う。さらに、テレセン測定パターンA 12を形成したフォーカス位置からデフォーカスさせてパターニングを行う。デフォーカス量は1μm以上であることが好ましく、3μm以上であることがより好ましい。デフォーカス量が1μm以上であることにより、テレセン測定パターンA 12およびテレセン測定パターンB 13のパターンの重心位置ずれ量Rが適度に大きくなり、誤差やバラツキの影響を受けにくくなる。デフォーカス量の上限は特に限定されないが、例えば50μm以下とすることができる。
また、フォーカス位置については、テレセン測定パターンA 12又はテレセン測定パターンB 13のフォーカス位置を、感光性樹脂材料を含む層9の第一の面、すなわち表面(上面基準)に設定するのが好ましい。これは、軸外テレセン度を測定する際に、吐出口形成部材の第一の面でパターンエッジを検出して、形成位置ずれ量を求めることができるためである。
また、テレセン測定パターンA 12とテレセン測定パターンB 13により、軸外テレセン度を測定するため、両パターンは露光装置のマスク上において、同じ位置で露光する。例えば、テレセン測定パターンA 12を形成するためのマスクと、吐出口のパターン 14およびテレセン測定パターンB 13を形成するためのマスクとをそれぞれ用意して、マスクを交換して露光することができる。また、これにより、両者のパターンの重心位置が一致するようにマスクを配置することができ、マスクに形成されたテレセン測定パターンA 12とマスクに形成されたテレセン測定パターンB 13との重心位置を容易に一致させることができる。
テレセン測定パターンB 13は、テレセン測定パターンA 12の内側に形成されることが好ましい。また、マスクに形成されたテレセン測定パターンB 13の形状は、マスクに形成されたテレセン測定パターンA 12の形状と相似形であることが好ましい。テレセン測定パターンB 13の面積は、テレセン測定パターンA 12の面積の10〜90%であることが、軸外テレセン度を精度よく算出することができるため好ましい。テレセン測定パターンB 13の面積は、テレセン測定パターンA 12の面積の30〜70%であることがより好ましい。
次いで、図6(c)に示されるように、現像処理を行い吐出口11およびテレセン測定パターン19を形成する。その後、テレセン測定パターンA 12およびテレセン測定パターンB 13の相対的な形成位置ずれ量とデフォーカス量とから、上述した方法により軸外テレセン度を把握する。
なお、テレセン測定パターン19は吐出口形成部材の第一の面上に複数形成してもよい。吐出口11が形成されている方向に沿って、特定の間隔でテレセン測定パターン19を配置することで、吐出口11列内の軸外テレセン度の分布傾向を把握することができ、より詳細な着弾位置の予想を行うことができる。テレセン測定パターン19を複数配置する場合、テレセン測定パターン19の間隔は任意で設定可能であるが、吐出口11の形成間隔に合わせて、吐出口11の形成間隔の整数倍の間隔で配置することが好ましい。
(実施形態2)
本発明の他の実施形態の一つとして、図7に示すように、吐出口のパターン14を形成する前にテレセン測定パターンA 12およびテレセン測定パターンB 13を形成することもできる。製造における各条件は実施形態1の条件を適宜採用することができる。
(実施形態3)
本発明の他の実施形態の一つとして、図8に示すように、吐出口のパターン14を形成した後にテレセン測定パターンA 12およびテレセン測定パターンB 13を形成することもできる。製造における各条件は実施形態1の条件を適宜採用することができる。
1 液体吐出ヘッド
2 エネルギー発生素子
3 供給部
9 感光性樹脂材料を含む層(吐出口形成部材)
10 基板
11 吐出口
12 テレセン測定パターンA
13 テレセン測定パターンB
14 吐出口のパターン
15 第一の面
16 記録媒体
17 テレセン測定パターン外枠
171 外枠パターン端部
172 外枠パターン中点位置
173 フォーカス位置
174 光軸
175 主光線
18 テレセン測定パターン内枠
181 内枠パターン端部
182 内枠パターン中点位置
183 デフォーカス位置
19 テレセン測定パターン
20 光線束
21 照明光学系
22 マスク
23 縮小投影光学系
25 マスクの中心に照射される光線
261 マスクの外周部に照射される光線
262 傾き角φ1の光線
263 傾き角φ2の光線
A 理想の着弾位置
B 実際の着弾位置
D デフォーカス量
L 着弾位置のずれ量
R テレセン測定パターンAおよびテレセン測定パターンBの重心位置ずれ量
Z 第一の面から記録媒体までの距離

Claims (11)

  1. 縮小投影露光装置を用いて露光することにより、感光性樹脂材料を含む層に吐出口のパターンを形成する工程を含む液体吐出ヘッドの製造方法であって、
    前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの一部である、テレセン測定パターンAを、マスクを介した露光により形成する第一の工程と、
    前記第一の工程における露光条件からデフォーカスさせて、前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの他の一部である、テレセン測定パターンBを、マスクを介した露光により形成する第二の工程と、
    を含み、
    前記テレセン測定パターンAおよび前記テレセン測定パターンBの相対的な形成位置ずれ量とデフォーカス量とから、軸外テレセン度を把握することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
  2. 前記第二の工程において、前記第一の工程における露光条件からデフォーカスさせて、テレセン測定パターンBと共に吐出口のパターンを露光により形成する請求項1に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  3. 前記テレセン測定パターンAおよび前記テレセン測定パターンBの少なくとも一方が、前記感光性樹脂材料を含む層の第一の面に形成される請求項1又は2に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  4. 前記テレセン測定パターンA又は前記テレセン測定パターンBのフォーカス位置が、前記感光性樹脂材料を含む層の第一の面に設定される請求項3に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  5. 前記テレセン測定パターンBが、前記テレセン測定パターンAの内側に形成される請求項1から4のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  6. 前記第一の工程における前記マスクに形成された前記テレセン測定パターンAのパターンの重心位置と、前記第二の工程における前記マスクに形成された前記テレセン測定パターンBのパターンの重心位置とが一致している請求項1から5のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  7. 前記マスクに形成された前記テレセン測定パターンAと前記マスクに形成された前記テレセン測定パターンBとが相似形である請求項1から6のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  8. 前記テレセン測定パターンBの面積が、前記テレセン測定パターンAの面積の10〜90%である請求項1から7のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  9. 前記テレセン測定パターンAと、前記テレセン測定パターンAに最も近接する吐出口との最短距離が20μm以上である請求項1から8のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  10. 前記デフォーカス量が1μm以上である請求項1から9のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  11. 複数の液体吐出ヘッドを備えるインクジェットプリントヘッドの製造方法であって、
    請求項1から10のいずれか1項に記載の方法により複数の液体吐出ヘッドを製造する工程と、
    前記把握された軸外テレセン度が近い液体吐出ヘッドを選別する工程と、
    を含むことを特徴とするインクジェットプリントヘッドの製造方法。
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