JP2016041493A - 液体吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents
液体吐出ヘッドの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016041493A JP2016041493A JP2014166394A JP2014166394A JP2016041493A JP 2016041493 A JP2016041493 A JP 2016041493A JP 2014166394 A JP2014166394 A JP 2014166394A JP 2014166394 A JP2014166394 A JP 2014166394A JP 2016041493 A JP2016041493 A JP 2016041493A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measurement pattern
- telecentric measurement
- telecentric
- pattern
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 140
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 27
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 20
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 abstract description 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 5
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 4
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- -1 aromatic sulfonium salt Chemical class 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000003708 edge detection Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/162—Manufacturing of the nozzle plates
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
- G03F7/203—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure comprising an imagewise exposure to electromagnetic radiation or corpuscular radiation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
【解決手段】縮小投影露光装置を用いて露光することにより、感光性樹脂材料を含む層に吐出口のパターンを形成する工程を含む液体吐出ヘッドの製造方法であって、縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの一部であるテレセン測定パターンAを、マスクを介した露光により形成する第一の工程と、第一の工程における露光条件からデフォーカスさせて、縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの他の一部であるテレセン測定パターンBを、マスクを介した露光により形成する第二の工程とを含み、テレセン測定パターンAおよびテレセン測定パターンBの相対的な形成位置ずれ量とデフォーカス量とから、軸外テレセン度を把握する方法。
【選択図】図6
Description
前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの一部である、テレセン測定パターンAを、マスクを介した露光により形成する第一の工程と、
前記第一の工程における露光条件からデフォーカスさせて、前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの他の一部である、テレセン測定パターンBを、マスクを介した露光により形成する第二の工程と、
を含み、
前記テレセン測定パターンAおよび前記テレセン測定パターンBの相対的な形成位置ずれ量とデフォーカス量とから、軸外テレセン度を把握する。
本発明の実施形態の一つとして、縮小投影露光においてテレセン測定パターンの形成と同時に吐出口のパターンを形成する実施形態を、図6を参照して示す。本実施形態では、テレセン測定パターンおよび吐出口のパターンの形成工程を一部削減できるため、コストを削減でき、また製造タクトを短縮できる利点がある。また、経時変化による露光量及び照度ムラ等の装置のばらつきによる影響等も低減できるため、より正確な軸外テレセン度を把握することが可能である。
本発明の他の実施形態の一つとして、図7に示すように、吐出口のパターン14を形成する前にテレセン測定パターンA 12およびテレセン測定パターンB 13を形成することもできる。製造における各条件は実施形態1の条件を適宜採用することができる。
本発明の他の実施形態の一つとして、図8に示すように、吐出口のパターン14を形成した後にテレセン測定パターンA 12およびテレセン測定パターンB 13を形成することもできる。製造における各条件は実施形態1の条件を適宜採用することができる。
2 エネルギー発生素子
3 供給部
9 感光性樹脂材料を含む層(吐出口形成部材)
10 基板
11 吐出口
12 テレセン測定パターンA
13 テレセン測定パターンB
14 吐出口のパターン
15 第一の面
16 記録媒体
17 テレセン測定パターン外枠
171 外枠パターン端部
172 外枠パターン中点位置
173 フォーカス位置
174 光軸
175 主光線
18 テレセン測定パターン内枠
181 内枠パターン端部
182 内枠パターン中点位置
183 デフォーカス位置
19 テレセン測定パターン
20 光線束
21 照明光学系
22 マスク
23 縮小投影光学系
25 マスクの中心に照射される光線
261 マスクの外周部に照射される光線
262 傾き角φ1の光線
263 傾き角φ2の光線
A 理想の着弾位置
B 実際の着弾位置
D デフォーカス量
L 着弾位置のずれ量
R テレセン測定パターンAおよびテレセン測定パターンBの重心位置ずれ量
Z 第一の面から記録媒体までの距離
Claims (11)
- 縮小投影露光装置を用いて露光することにより、感光性樹脂材料を含む層に吐出口のパターンを形成する工程を含む液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの一部である、テレセン測定パターンAを、マスクを介した露光により形成する第一の工程と、
前記第一の工程における露光条件からデフォーカスさせて、前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの他の一部である、テレセン測定パターンBを、マスクを介した露光により形成する第二の工程と、
を含み、
前記テレセン測定パターンAおよび前記テレセン測定パターンBの相対的な形成位置ずれ量とデフォーカス量とから、軸外テレセン度を把握することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記第二の工程において、前記第一の工程における露光条件からデフォーカスさせて、テレセン測定パターンBと共に吐出口のパターンを露光により形成する請求項1に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記テレセン測定パターンAおよび前記テレセン測定パターンBの少なくとも一方が、前記感光性樹脂材料を含む層の第一の面に形成される請求項1又は2に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記テレセン測定パターンA又は前記テレセン測定パターンBのフォーカス位置が、前記感光性樹脂材料を含む層の第一の面に設定される請求項3に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記テレセン測定パターンBが、前記テレセン測定パターンAの内側に形成される請求項1から4のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第一の工程における前記マスクに形成された前記テレセン測定パターンAのパターンの重心位置と、前記第二の工程における前記マスクに形成された前記テレセン測定パターンBのパターンの重心位置とが一致している請求項1から5のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記マスクに形成された前記テレセン測定パターンAと前記マスクに形成された前記テレセン測定パターンBとが相似形である請求項1から6のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記テレセン測定パターンBの面積が、前記テレセン測定パターンAの面積の10〜90%である請求項1から7のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記テレセン測定パターンAと、前記テレセン測定パターンAに最も近接する吐出口との最短距離が20μm以上である請求項1から8のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記デフォーカス量が1μm以上である請求項1から9のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 複数の液体吐出ヘッドを備えるインクジェットプリントヘッドの製造方法であって、
請求項1から10のいずれか1項に記載の方法により複数の液体吐出ヘッドを製造する工程と、
前記把握された軸外テレセン度が近い液体吐出ヘッドを選別する工程と、
を含むことを特徴とするインクジェットプリントヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014166394A JP6341799B2 (ja) | 2014-08-19 | 2014-08-19 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
US14/824,954 US9315026B2 (en) | 2014-08-19 | 2015-08-12 | Method for manufacturing liquid discharge head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014166394A JP6341799B2 (ja) | 2014-08-19 | 2014-08-19 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016041493A true JP2016041493A (ja) | 2016-03-31 |
JP6341799B2 JP6341799B2 (ja) | 2018-06-13 |
Family
ID=55347529
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014166394A Expired - Fee Related JP6341799B2 (ja) | 2014-08-19 | 2014-08-19 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9315026B2 (ja) |
JP (1) | JP6341799B2 (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06117831A (ja) * | 1992-10-02 | 1994-04-28 | Nikon Corp | 収差計測方法 |
JPH0822951A (ja) * | 1994-07-06 | 1996-01-23 | Canon Inc | 投影光学系のコマ収差を検出する方法 |
US20020102482A1 (en) * | 2000-12-08 | 2002-08-01 | Adlai Smith | Reference wafer and process for manufacturing same |
JP2002289503A (ja) * | 2001-03-27 | 2002-10-04 | Toshiba Corp | フォーカスモニタ方法及び露光装置 |
JP2008173970A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-31 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 |
JP2009255341A (ja) * | 2008-04-15 | 2009-11-05 | Konica Minolta Holdings Inc | ノズルプレートの製造方法 |
JP2013216084A (ja) * | 2012-03-14 | 2013-10-24 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090162797A1 (en) | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing liquid ejection head |
EP2792488B1 (en) * | 2011-12-13 | 2019-09-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing nozzle chips |
JP5904779B2 (ja) * | 2011-12-16 | 2016-04-20 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP6147058B2 (ja) * | 2013-04-01 | 2017-06-14 | キヤノン株式会社 | ノズルチップの製造方法 |
-
2014
- 2014-08-19 JP JP2014166394A patent/JP6341799B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-08-12 US US14/824,954 patent/US9315026B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06117831A (ja) * | 1992-10-02 | 1994-04-28 | Nikon Corp | 収差計測方法 |
JPH0822951A (ja) * | 1994-07-06 | 1996-01-23 | Canon Inc | 投影光学系のコマ収差を検出する方法 |
US20020102482A1 (en) * | 2000-12-08 | 2002-08-01 | Adlai Smith | Reference wafer and process for manufacturing same |
JP2002289503A (ja) * | 2001-03-27 | 2002-10-04 | Toshiba Corp | フォーカスモニタ方法及び露光装置 |
JP2008173970A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-31 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 |
JP2009255341A (ja) * | 2008-04-15 | 2009-11-05 | Konica Minolta Holdings Inc | ノズルプレートの製造方法 |
JP2013216084A (ja) * | 2012-03-14 | 2013-10-24 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6341799B2 (ja) | 2018-06-13 |
US9315026B2 (en) | 2016-04-19 |
US20160052273A1 (en) | 2016-02-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106030413A (zh) | 光刻设备和器件制造方法 | |
JP6008556B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法及び露光方法 | |
US9146461B2 (en) | Method of making nozzle chip | |
JP6039579B2 (ja) | ノズルチップの製造方法 | |
JP6341799B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2013052536A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法、および液体吐出ヘッド | |
US9921488B2 (en) | Maskless exposure method and a maskless exposure device for performing the exposure method | |
US8615881B2 (en) | Oleophobic ink jet orifice plate | |
JP2017187601A (ja) | スクリーンマスクの製造方法 | |
JP4857354B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP6333016B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
KR102015844B1 (ko) | 마스크리스 노광장비 및 이를 이용한 크로스토크 검사방법 | |
JP5449590B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP6071565B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
US9023593B2 (en) | Method of manufacturing liquid ejection head | |
JP6000713B2 (ja) | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 | |
CN107402497B (zh) | 曝光掩模、曝光设备和用于校准曝光设备的方法 | |
US20230341762A1 (en) | Print element substrate and method for manufacturing print element substrate | |
KR20110061318A (ko) | 마스크리스 노광장치의 디지털 마이크로 미러 디바이스용 디지털 광 빔 위치 측정장치 | |
US9102149B2 (en) | Liquid ejection head | |
JP2008256933A (ja) | 画像形成装置、露光装置、および露光装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170601 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180410 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180417 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180515 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6341799 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |