JP2016040210A - 水素ガスの精製方法及びその精製装置 - Google Patents
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Abstract
Description
すなわち、本発明に係る水素ガスの精製方法は、前記の課題を解決する為に、吸着剤が各々充填された一対の吸着塔を用いて、不純物成分を含有する原料水素ガスを精製する水素ガスの精製方法であって、前記吸着塔で、前記不純物成分を前記吸着剤に吸着させることにより、前記原料水素ガスから分離する吸着工程と、前記吸着工程を終えた吸着塔に対し、加熱したパージガスを供給することにより、前記吸着剤から前記不純物成分を脱着させる加熱再生工程とを少なくとも含む吸着サイクルを、各吸着塔においてそれぞれ繰り返し行い、かつ、一方の吸着塔で前記吸着工程が行われている間は、他方の吸着塔で当該吸着工程以外の工程を行うものであり、前記加熱再生工程は、前記パージガスを循環させながら、前記吸着工程を終えた吸着塔に対し供給を行うことを特徴とする。
即ち、本発明によれば、少なくとも吸着工程と加熱再生工程を含む吸着サイクルが、2つの吸着塔においてそれぞれ行われ、かつ、吸着サイクルは、一方の吸着塔で吸着工程が行われている間は、他方の吸着塔で当該吸着工程以外の工程が行われるように繰り返される。そのため、本発明においては、原料水素ガスから不純物成分を吸着させて分離し精製する操作を、連続的に行うことができ、水素ガスの精製の効率化が図れる。
<水素ガスの精製装置>
本実施の形態1に係る水素ガスの精製装置について、図1を参照しながら以下に説明する。但し、説明に不要な部分は省略し、また説明を容易にする為に拡大または縮小等して図示した部分がある。
次に、本実施の形態1に係る水素ガスの精製方法について、図2〜図12を参照しながら以下に説明する。
本実施の形態の水素ガスの精製方法はTSA法を採用したものであり、各吸着塔においては、(1)吸着工程、(2)減圧工程、(3)再生準備工程、(4)加熱再生工程、(5)冷却工程、(6)昇圧工程の吸着サイクルを順次繰り返す。また、一方の吸着塔で吸着工程が行われている間、他方の吸着塔では当該吸着工程以外の工程、より具体的には(2)減圧工程〜(6)昇圧工程が行われ、この様な切り換えを行いながら2つの吸着塔を稼働させることにより、連続的かつ効率的に原料水素ガスの精製を可能にしている。
図2及び図3に示すように、ステップ1の第1吸着塔10Aにおいては、吸着工程が行われる。すなわち、開閉弁101Aは開弁され、原料供給路21、21Aから第1吸着塔10Aの塔底部に対し原料水素ガスが供給される。原料水素ガスは、第1吸着塔10A内で不純物成分が吸着剤により吸着分離されることにより精製される。そして、精製水素ガスは、塔頂部から精製水素ガス排出路24A、24を介して排出される。尚、精製水素ガス排出路24Aにおける開閉弁106Aは開弁されている。
図2及び図4に示すように、ステップ2の第1吸着塔10Aにおいては、引き続き吸着工程が行われる。
図2及び図5に示すように、ステップ3の第1吸着塔10Aにおいては、引き続き吸着工程が行われる。
図2及び図6に示すように、ステップ4の第1吸着塔10Aにおいては、引き続き吸着工程が行われる。
図2及び図7に示すように、ステップ5の第1吸着塔10Aにおいては、引き続き吸着工程が行われる。
図2に示すように、ステップ6〜10においては、第1吸着塔10Aと第2吸着塔10Bにおいて吸着サイクルが切り替わる。すなわち、ステップ5の終了と共に、第1吸着塔10Aにおける吸着工程が終了し、第2吸着塔10Bにおいて吸着工程が開始される。ステップ6〜10における水素ガスの精製装置1の詳細な動作については、図8〜図12に示す通りであり、前記ステップ1〜5と同様の操作を、第1吸着塔10Aと第2吸着塔10Bにおいて逆にして行うものである。従って、それらの詳細については省略する。
<水素ガスの精製装置>
本実施の形態2に係る水素ガスの精製装置について、図13を参照しながら以下に説明する。尚、前記実施の形態1に係る水素ガスの精製装置1と同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
次に、本実施の形態2に係る水素ガスの精製方法について、図14〜図24を参照しながら以下に説明する。
本実施の形態では、各吸着塔において、(1)吸着工程、(2)減圧工程、(3)再生準備工程、(4)加熱再生工程、(5)昇圧工程、(6)冷却工程の吸着サイクルを順次繰り返すものであり、前記実施の形態1の態様と比較して、冷却工程の前に昇圧工程を行う点が異なる。
図14及び図15に示すように、ステップ1の第1吸着塔10Aにおいては、吸着工程が行われる。すなわち、開閉弁101Aは開弁され、原料供給路21、21Aから第1吸着塔10Aの塔底部に対し原料水素ガスが供給される。原料水素ガスは、第1吸着塔10A内で不純物成分が吸着剤により吸着分離されることにより精製される。そして、精製水素ガスは、塔頂部から精製水素ガス排出路24A、24を介して排出される。尚、精製水素ガス排出路24Aにおける開閉弁106Aは開弁されている。
図14及び図16に示すように、ステップ2の第1吸着塔10Aにおいては、引き続き吸着工程が行われる。
図14及び図17に示すように、ステップ3の第1吸着塔10Aにおいては、引き続き吸着工程が行われる。
図14及び図18に示すように、ステップ4の第1吸着塔10Aにおいては、引き続き吸着工程が行われる。
図14及び図19に示すように、ステップ5の第1吸着塔10Aにおいては、引き続き吸着工程が行われる。
図14に示すように、ステップ6〜10においては、第1吸着塔10Aと第2吸着塔10Bにおいて吸着サイクルが切り替わる。すなわち、ステップ5の終了と共に、第1吸着塔10Aにおける吸着工程が終了し、第2吸着塔10Bにおいて吸着工程が開始される。ステップ6〜10における水素ガスの精製装置2の詳細な動作については、図20〜図24に示す通りであり、前記ステップ1〜5と同様の操作を、第1吸着塔10Aと第2吸着塔10Bにおいて逆にして行うものである。従って、それらの詳細については省略する。
<水素ガスの精製装置>
本実施の形態3に係る水素ガスの精製装置について、図25を参照しながら以下に説明する。尚、前記実施の形態1に係る水素ガスの精製装置1又は実施の形態2に係る水素ガスの精製装置2と同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
次に、本実施の形態3に係る水素ガスの精製方法について、図26〜図32を参照しながら以下に説明する。
本実施の形態では、各吸着塔において、(1)吸着工程、(2)再生準備工程、(3)加熱再生工程、(4)冷却工程の吸着サイクルを順次繰り返すものであり、前記実施の形態1の態様と比較して、減圧工程及び昇圧工程が省略された点が異なる。
図26及び図27に示すように、ステップ1の第1吸着塔10Aにおいては、吸着工程が行われる。すなわち、開閉弁101Aは開弁され、原料供給路21、21Aから第1吸着塔10Aの塔底部に対し原料水素ガスが供給される。原料水素ガスは、第1吸着塔10A内で不純物成分が吸着剤により吸着分離されることにより精製される。そして、精製水素ガスは、塔頂部から精製水素ガス排出路24A、24を介して排出される。尚、精製水素ガス排出路24Aにおける開閉弁106Aは開弁されている。
図26及び図28に示すように、ステップ2の第1吸着塔10Aにおいては、引き続き吸着工程が行われる。
図26及び図29に示すように、ステップ3の第1吸着塔10Aにおいては、引き続き吸着工程が行われる。
図26に示すように、ステップ4〜6においては、第1吸着塔10Aと第2吸着塔10Bにおいて吸着サイクルが切り替わる。すなわち、ステップ3の終了と共に、第1吸着塔10Aにおける吸着工程が終了し、第2吸着塔10Bにおいて吸着工程が開始される。ステップ4〜6における水素ガスの精製装置3の詳細な動作については、図31〜図32に示す通りであり、前記ステップ1〜3と同様の操作を、第1吸着塔10Aと第2吸着塔10Bにおいて逆にして行うものである。従って、それらの詳細については省略する。
前記各実施の形態で説明した水素ガスの精製方法においては、さらに、TSA法を行うための工程を追加してもよい。この場合、水素ガスの精製装置1〜3においては、排出された精製水素ガスに対して、PSA法による精製を可能にするためのPSA装置を設けることができる。これにより、吸着工程で吸着塔により吸着できなかった他の不純物成分(例えば、メタン、エタンなど)を除去することができる。そして、PSA装置における吸着塔においては、吸着剤により吸着される成分が前記他の不純物成分のみとなることから、PSA装置においてもパージガス量を削減することができ、その結果、精製水素ガスの高回収率を維持できる。
以下に述べる各実施例においては、図1に示す水素ガスの精製装置1(図1参照)を用いて、図2〜図13に示す吸着サイクルを繰り返すことにより、原料水素ガスの精製のシミュレーションを行った。また、第1吸着塔10A、第2吸着塔10Bのサイズは以下の通りとした。
塔径:500mm
吸着塔径での吸着剤充填高さ:1.5m
吸着塔高さ(T.L間):2m
また、吸着剤の充填量は120kgとした。
吸着剤として、ヤシ殻系活性炭(クラレケミカル(株)製ヤシ殻系活性炭、型番:2GG)を用いた。
先ず、トルエン(純度99.5重量%以上、和光純薬工業株式会社製)、及びメチルシクロへキサン(以下、「MCH」という。純度98重量%以上、和光純薬工業株式会社製)の吸着量(静的吸着容量)について、自動ガス/蒸気吸着量測定装置(型番:BELSORP−18、日本ベル株式会社製)を用いて測定した。トルエンの試料の質量は0.1128g、MCHの試料の質量は0.1064gとした。また、吸着温度は303Kとした。結果を図33に示す。
トルエン:114NL/kg(47質量%)(トルエン濃度5400ppm)
MCH:87NL/kg(38質量%)(MCH濃度5400ppm)
水素:0.001質量%以下
図1に示す水素ガスの精製装置1を用いて、図2〜図13に示す吸着サイクルを繰り返すことにより、原料水素ガスの精製のシミュレーションを行った。
吸着時間:4時間
原料水素ガス流量:305Nm3/h
1サイクル当りに吸着塔に供給される原料水素ガスの供給量=305Nm3/hr×4hr=1220Nm3
1サイクル当りに吸着塔から排出される精製水素ガス量=1.41Nm3
供給圧力:0.9MPaG
原料水素ガスの温度:40℃
塔内圧力:0.9MPaG
<減圧工程>
減圧時間:0.5時間
再生準備時間:0.5時間
塔内圧力:0.01MPaG
加熱再生時間:1.5時間
加熱再生温度(塔底部温度):160℃
パージガス温度:40℃
水素定圧比熱:0.304kcal/(K・Nm3)
パージガス流量:160Nm3/h
塔内圧力:0.01MPaG
冷却時間:1.0時間
冷却温度(塔頂部温度):40℃
冷却ガス温度:40℃
冷却ガス流量:160Nm3/h
塔内圧力:0.01MPaG
昇圧時間:0.5時間
水素ガス回収率(mol%)=(1サイクル当りに吸着塔に導入される原料水素ガス量−1サイクル当りに吸着塔から排出される精製水素ガス量)/(1サイクル当りに吸着塔に供給される原料水素ガス量)×100
本実施例では、原料水素ガスを、トルエン含有濃度2700ppm、メチルシクロヘキサン含有濃度2700ppmのものとした。また、1サイクル当りに吸着塔から排出される精製水素ガス量を1.57Nm3とした。それ以外は、前記実施例1と同様にして原料水素ガスの精製シミュレーションを行った。
その結果、精製水素ガス中におけるトルエン含有濃度及びメチルシクロヘキサン含有濃度を1ppm以下に低減することができた。また、水素ガスの水素回収率は99.87mol%であった。
本実施例では、原料水素ガスを、トルエン含有濃度0ppm、メチルシクロヘキサン含有濃度5400ppmのものとした。また、1サイクル当りに吸着塔から排出される精製水素ガス量を1.74Nm3とした。それ以外は、前記実施例1と同様にして原料水素ガスの精製シミュレーションを行った。
その結果、精製水素ガス中におけるメチルシクロヘキサン含有濃度を1ppm以下に低減することができた。また、水素ガスの水素回収率は99.86mol%であった。
各実施例1〜3のシミュレーション結果から、本実施例の水素ガスの精製装置であると、不純物成分であるトルエン及びメチルシクロヘキサンを1ppm以下に低減することが可能であることが示された。これにより、例えば、燃料電池車への活用を可能にする水素ガスの利用基準も満たすことが分かった。また、水素ガスの回収率も99.86〜99.88mol%であり、従来のTSA法と比較して精製後の水素ガスの損失を低減できることが確認された。
10A 第1吸着塔
10B 第2吸着塔
11 第1冷却器
12 気液分離器
13 ガス圧縮機
14 ガスヒーター(加熱手段)
15 第2冷却器
21、21A、21B 原料供給路(原料供給手段)
22、22A、22B パージガス循環路
23、23A、23B 冷却ガス循環路
24、24A、24B 精製水素ガス排出路
25A、25B パージガス循環路
26、26A、26B 冷却ガス循環路
27A、27B 昇圧路
28 精製水素ガス導入路
29 有機溶剤排出路
30A、30B 他の精製水素ガス導入路
31 冷却ガス導入路
32 パージガス・冷却ガス導入路
33 精製水素ガス導入路
101A〜106A、101B〜106B、107〜113 開閉弁
図2及び図3に示すように、ステップ1の第1吸着塔10Aにおいては、吸着工程が行われる。すなわち、開閉弁101Aは開弁され、原料供給路21、21Aから第1吸着塔10Aの塔底部に対し原料水素ガスが供給される。原料水素ガスは、第1吸着塔10A内で不純物成分が吸着剤により吸着分離されることにより、精製される。そして、精製水素ガスは、塔頂部から精製水素ガス排出路24A、24を介して排出される。尚、精製水素ガス排出路24Aにおける開閉弁106Aは開弁されている。
図14及び図15に示すように、ステップ1の第1吸着塔10Aにおいては、吸着工程が行われる。すなわち、開閉弁101Aは開弁され、原料供給路21、21Aから第1吸着塔10Aの塔底部に対し原料水素ガスが供給される。原料水素ガスは、第1吸着塔10A内で不純物成分が吸着剤により吸着分離されることにより、精製される。そして、精製水素ガスは、塔頂部から精製水素ガス排出路24A、24を介して排出される。尚、精製水素ガス排出路24Aにおける開閉弁106Aは開弁されている。
トルエン:114NL/kg(47質量%)(トルエン濃度5400ppm)
MCH:87NL/kg(38質量%)(MCH濃度5400ppm)
水素:0.001質量%以下
Claims (13)
- 吸着剤が各々充填された一対の吸着塔を用いて、不純物成分を含有する原料水素ガスを精製する水素ガスの精製方法であって、
前記吸着塔で、前記不純物成分を前記吸着剤に吸着させることにより、前記原料水素ガスから分離する吸着工程と、
前記吸着工程を終えた吸着塔に対し、加熱したパージガスを供給することにより、前記吸着剤から前記不純物成分を脱着させる加熱再生工程とを少なくとも含む吸着サイクルを、各吸着塔においてそれぞれ繰り返し行い、
かつ、一方の吸着塔で前記吸着工程が行われている間は、他方の吸着塔で当該吸着工程以外の工程を行うものであり、
前記加熱再生工程は、前記パージガスを循環させながら、前記吸着工程を終えた吸着塔に対し供給を行う水素ガスの精製方法。 - 前記吸着サイクルは、
前記吸着工程直後の吸着塔に対し、その内部に残留している前記残留ガスを排出させて減圧させる減圧工程と、
前記残留ガスに、前記吸着工程中の吸着塔から排出される精製後の水素ガスの一部を混合させて前記パージガスとし、当該パージガスを循環させながら、前記吸着工程を終えた前記吸着塔に供給する再生準備工程とを、
前記加熱再生工程の前に含む請求項1に記載の水素ガスの精製方法。 - 前記吸着サイクルは、
前記加熱再生工程後の吸着塔に対し、前記パージガスを少なくとも加熱しないで、冷却ガスとして循環させ供給することにより、前記吸着剤を吸着可能となる温度まで冷却させる冷却工程と、
前記冷却工程後の吸着塔に、前記吸着工程中の吸着塔から排出される精製後の水素ガスの一部を供給することにより昇圧させる昇圧工程とをさらに含む請求項1又は2に記載の水素ガスの精製方法。 - 前記吸着サイクルは、
前記加熱再生工程後の吸着塔に、前記吸着工程中の吸着塔から排出される精製後の水素ガスの一部を供給することにより昇圧させる昇圧工程と、
前記昇圧工程後の吸着塔に対し、前記吸着工程中の吸着塔から排出される精製後の水素ガスの一部を、少なくとも加熱しない状態で供給することにより、前記吸着剤を吸着可能となる温度まで冷却した後、当該精製後の水素ガスの一部を前記原料水素ガスと合流させて、前記吸着工程中の吸着塔に供給する冷却工程をさらに含む請求項1又は2に記載の水素ガスの精製方法。 - 前記吸着サイクルは、
前記吸着工程直後の吸着塔に対し、加熱されていない前記パージガスを供給する再生準備工程と、
前記加熱再生工程直後の吸着塔に対し冷却ガスを供給することにより、充填されている前記吸着剤を冷却する冷却工程とをさらに含み、
前記吸着工程以外の工程を行う吸着塔の塔内の圧力は、当該吸着工程を行うときと略同一であり、
前記再生準備工程及び加熱再生工程は、
前記吸着工程中の吸着塔から排出される精製後の水素ガスの一部を、前記パージガスとして他方の吸着塔に供給した後、当該精製後の水素ガスを前記原料水素ガスと合流させ、当該吸着工程中の吸着塔に供給するものであり、
前記冷却工程は、
前記吸着工程中の吸着塔から排出される精製後の水素ガスの一部を、前記冷却ガスとして他方の吸着塔に供給した後、当該精製後の水素ガスを前記原料水素ガスと合流させ、当該吸着工程中の吸着塔に供給するものである請求項1に記載の水素ガスの精製方法。 - 前記加熱再生工程では、前記パージガスを冷却して、当該パージガス中に含まれる不純物成分を液体に凝縮させ、当該パージガス中に含まれる水素ガスと不純物成分の液体とに気液分離して、当該不純物成分の液体を回収する工程をさらに行う請求項1〜5の何れか1項に記載の水素ガスの精製方法。
- 吸着剤が各々充填された一対の吸着塔を備え、不純物成分を含有する原料水素ガスを精製する水素ガスの精製装置であって、
前記吸着塔で、前記不純物成分を前記吸着剤に吸着させることにより、前記原料水素ガスから分離する吸着工程と、
前記吸着工程を終えた吸着塔に対し、加熱したパージガスを供給することにより、前記吸着剤から前記不純物成分を脱着させる加熱再生工程とを少なくとも含む吸着サイクルを、各吸着塔においてそれぞれ繰り返し行うものであり、
前記一対の吸着塔のうち、前記吸着工程を行う一方の吸着塔には前記原料水素ガスを供給し、当該吸着工程以外の工程を行う他方の吸着塔には当該原料水素ガスを供給しない原料供給手段と、
加熱された前記パージガスを循環させながら、前記加熱再生工程中の吸着塔に供給するパージガス循環路と、
前記パージガス循環路に接続され、前記パージガスを加熱する加熱手段とを備える水素ガスの精製装置。 - 前記吸着サイクルは、
前記吸着工程直後の吸着塔に対し、その内部に残留している前記残留ガスを排出させて減圧させる減圧工程と、
前記残留ガスに、前記吸着工程中の吸着塔から排出される精製後の水素ガスの一部を混合させて前記パージガスとし、当該パージガスを循環させながら、前記吸着工程を終えた前記吸着塔に供給する再生準備工程とを、前記加熱再生工程の前に含み、
前記残留ガスが流れる前記パージガス循環路には、前記精製後の水素ガスの一部を供給する精製水素ガス導入路が連通されている請求項7に記載の水素ガスの精製装置。 - 前記吸着サイクルは、
前記加熱再生工程後の吸着塔に対し、前記パージガスを少なくとも加熱しないで、冷却ガスとして循環させ供給することにより、前記吸着剤を吸着可能となる温度まで冷却させる冷却工程と、
前記冷却工程後の吸着塔に、前記吸着工程中の吸着塔から排出される精製後の水素ガスの一部を供給することにより昇圧させる昇圧工程とをさらに含み、
前記一対の吸着塔には、
前記パージガス循環路から分岐しており、前記冷却工程中の吸着塔に対し前記冷却ガスを循環して供給させるための冷却ガス循環路と、
前記吸着工程中の吸着塔から前記昇圧工程中の吸着塔に対し、精製後の水素ガスの一部を供給するための昇圧路とが設けられ、
さらに、前記パージガス循環路には、前記冷却工程において前記冷却ガスを前記冷却ガス循環路に送り出すためのガス圧縮機が設けられている請求項8に記載の水素ガスの精製装置。 - 前記吸着サイクルは、
前記吸着工程直後の吸着塔に対し、その内部に残留している前記残留ガスを排出させて減圧させる減圧工程と、
前記残留ガスに、前記吸着工程中の吸着塔から排出される精製後の水素ガスの一部を混合させて前記パージガスとし、当該パージガスを循環させながら、前記吸着工程を終えた前記吸着塔に供給する再生準備工程とを、前記加熱再生工程の前に含み、
前記一対の吸着塔の間には、前記吸着工程中の吸着塔から前記再生準備工程を行う吸着塔に対し、精製後の水素ガスの一部を供給するための他の精製水素ガス導入路が設けられている請求項7に記載の水素ガスの精製装置。 - 前記吸着サイクルは、
前記加熱再生工程後の吸着塔に、前記吸着工程中の吸着塔から排出される精製後の水素ガスの一部を供給することにより昇圧させる昇圧工程と、
前記昇圧工程後の吸着塔に対し、前記吸着工程中の吸着塔から排出される精製後の水素ガスの一部を、少なくとも加熱しない状態で供給することにより、前記吸着剤を吸着可能となる温度まで冷却した後、当該精製後の水素ガスの一部を前記原料水素ガスと合流させて、前記吸着工程中の吸着塔に供給する冷却工程をさらに含み、
前記原料供給手段には、前記パージガス循環路から分岐した冷却ガス導入路が接続されており、当該冷却ガス導入路は前記冷却工程で冷却ガスとして使用した精製後の水素ガスを当該原料供給手段に供給するものであり、
前記パージガス循環路には、前記冷却工程で使用した冷却ガスを前記冷却ガス導入路に送り出すガス圧縮機が設けられ、
前記他の精製水素ガス導入路は、前記昇圧工程又は冷却工程においても、前記吸着工程中の吸着塔から排出される精製後の水素ガスの一部を、当該昇圧工程中又は冷却工程中の吸着塔に供給する請求項10に記載の水素ガスの精製装置。 - 前記吸着サイクルは、
前記吸着工程直後の吸着塔に対し、加熱されていない前記パージガスを供給する再生準備工程と、
前記加熱再生工程直後の吸着塔に対し冷却ガスを供給することにより、充填されている前記吸着剤を冷却する冷却工程とをさらに含み、
前記吸着工程以外の工程を行う吸着塔の塔内の圧力は、当該吸着工程を行うときと略同一であり、
前記パージガス循環路には、前記吸着工程中の吸着塔から排出される精製後の水素ガスの一部を、前記パージガス又は冷却ガスとして、当該吸着工程以外の工程を行う吸着塔に供給するための、さらに他の精製水素ガス導入路が接続されており、
前記原料供給手段には、前記パージガス循環路から分岐したパージガス・冷却ガス導入路が接続されており、当該パージガス・冷却ガス導入路は、前記パージガス又は冷却ガスとして使用された精製後の水素ガスを当該原料供給手段に供給するものである請求項7に記載の水素ガスの精製装置。 - 前記パージガス循環路には、
前記加熱再生工程において、前記パージガスを冷却させて、当該パージガス中に含まれる不純物成分を液体に凝縮させる冷却器と、
前記不純物成分の液体と前記パージガスに含まれる水素ガスに気液分離させ、当該不純物成分の液体を回収する気液分離器とが設けられている請求7〜12の何れか1項に記載の水素ガスの精製装置。
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