JP2016033632A - 光学素子 - Google Patents
光学素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016033632A JP2016033632A JP2014157237A JP2014157237A JP2016033632A JP 2016033632 A JP2016033632 A JP 2016033632A JP 2014157237 A JP2014157237 A JP 2014157237A JP 2014157237 A JP2014157237 A JP 2014157237A JP 2016033632 A JP2016033632 A JP 2016033632A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- optical element
- stopper layer
- etching stopper
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 45
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 71
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 62
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 41
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 56
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 claims description 54
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims description 10
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical class [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 24
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 12
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000005365 phosphate glass Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Description
ガラス基板の成形工程では、所望の光学特性を備えたガラス組成からなるガラス板を用意し、外形寸法が最終形状(つまり、カバーガラス100の形状)と略同一となるように、公知の切断方法にて切断する。切断方法は、ダイヤモンドカッターにて切断線を刻設した後に折り割りする方法や、ダイシング装置にて切断する方法がある。なお、この工程で用いるガラス板は、ラッピングなどの粗研磨によって、最終形状に近い板厚寸法まで加工されたものを用いてもよい。ガラス板が切断されると、洗浄され、ガラス基材101が得られる。
次に、SiO2薄膜の形成工程において、ガラス基材101の入射面101a上に、スパッタリング法や真空蒸着法等によって、光学膜厚が略λ/2のSiO2薄膜(つまり、エッチングストッパ層103)を形成する。なお、本実施形態においては、中心波長λを480nm、SiO2の屈折率を1.45とし、設計値としては物理膜厚が約166nmのSiO2薄膜を形成するものとするが、実際の製造工程においては、±10%程度の公差範囲内でばらつき、166nm±10%のSiO2薄膜が形成される。
次に、Cr薄膜の形成工程において、エッチングストッパ層103上に、スパッタリング法や真空蒸着法等によって、遮光膜105のベースとなる、物理膜厚が約0.1μmのCr薄膜を形成する。
レジストコート・ベーキング工程では、Cr薄膜の表面に、フォトレジストを塗布し、所定の時間ベーキングを行う。フォトレジストは、紫外又は赤外の波長領域の光によって溶解性が変化するものであればよく、特に材料は制限されない。また、フォトレジストの塗布方法としては、周知のスピンコート法、ディップコート法等を適用することができる。
露光・レジスト現像工程では、先ず、遮光膜105がパターンニングされたフォトマスクを介して、フォトレジストに光を照射する。そして、フォトレジストに応じた現像液を用いて、フォトレジストを現像し、遮光膜105のパターンに応じたレジストを形成する。
パターンニング工程では、ガラス基材101をCrエッチング液に浸漬して、レジストが形成されていない部分のCr薄膜をエッチングする。エッチングの進行に伴い、レジストが形成されていない部分のCr薄膜がエッチング液中に溶出するが、上述したように、本実施形態においては、Cr薄膜の下側(つまり、Cr薄膜とガラス基材101との間)にエッチングストッパ層103が形成されているため、これによってエッチングがストップし、エッチング液によってガラス基材101の入射面101aが削られることがない。従って、本実施形態においては、ガラス基材101の入射面101aが粗面化することはなく、ガラス基材101の入射面101aに入射する光は乱れることなくガラス基材101内に導かれ、出射面101bから出射される。また、本実施形態の構成によれば、エッチングストッパ層103によってエッチングを確実にストップさせることができるため、ガラス基材101全体を比較的長時間に亘ってエッチング液に浸すことができ、Cr薄膜のエッチング残りがなく、エッジの綺麗な遮光膜105を形成することができる。なお、Crエッチング液としては、例えば、硝酸第二セリウム塩:10〜20%、過塩素酸:5〜10%、水:70〜85%の混合溶液が用いられる。
レジスト剥離工程では、アルコール等のレジスト剥離剤に浸漬して、レジストを剥離する。これによって、ガラス基材101上には、遮光膜105が形成される。
100、100A、100B カバーガラス
101 ガラス基材
101a 入射面
101b 出射面
103 エッチングストッパ層
105 遮光膜
110 反射防止膜
200 固体撮像素子
300 パッケージ
Claims (14)
- 固体撮像素子が内蔵された撮像装置に用いられる光学素子であって、
固体撮像素子に向かう光が入射する入射面と、該入射面に入射した光が透過して前記固体撮像素子に向かって出射される出射面とを表裏に備える透明基板と、
前記入射面及び前記出射面の少なくとも一方の面上を被覆するように形成されたエッチングストッパ層と、
前記透明基板の中心部に形成され、前記光の一部を透過する透光部と、
前記透光部の外周を枠状に取り囲むように、前記エッチングストッパ層上に形成され、前記光の一部を遮光する遮光部と、
を備えることを特徴とする光学素子。 - 少なくとも前記透光部を覆う機能膜を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
- 前記機能膜は、反射防止、赤外線カット、紫外線カットの少なくとも1つ以上の機能を有する光学薄膜であることを特徴とする請求項2に記載の光学素子。
- 前記機能膜は、Al2O3、ZrO2、MgF2が順に積層された反射防止膜であることを特徴とする請求項2に記載の光学素子。
- 前記エッチングストッパ層が、SiO2、Al2O3又はZrO2の薄膜で形成されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記光の中心波長をλとしたとき、前記エッチングストッパ層の光学膜厚が、略λ/2であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記エッチングストッパ層の物理膜厚が、前記透明基板の板厚に対して、0.3〜200.0ppmであることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記透明基板の板厚が、0.1〜1.0mmであり、前記エッチングストッパ層の物理膜厚が、0.3〜20.0nmであることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記遮光部が、少なくともCrを含む薄膜によって形成されていることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記遮光部が、フォトリソグラフィ法を用いたエッチングによって形成されることを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記透光部の面積が、前記固体撮像素子の受光面の面積よりも大きいことを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記光学素子は、前記固体撮像素子を収容するパッケージの前面に取り付けられるカバーガラスであることを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記透明基板は、近赤外線領域の波長の光を吸収する近赤外線吸収ガラスであることを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記近赤外線吸収ガラスは、Cu2+を含有するフツリン酸塩系ガラス、又はCu2+を含有するリン酸塩系ガラスからなることを特徴とする請求項13に記載の光学素子。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014157237A JP6272175B2 (ja) | 2014-07-31 | 2014-07-31 | 光学素子 |
TW104108341A TWI636559B (zh) | 2014-07-31 | 2015-03-16 | 光學元件 |
TW104108339A TWI682190B (zh) | 2014-03-19 | 2015-03-16 | 光學元件 |
CN201510122107.8A CN105093371B (zh) | 2014-07-31 | 2015-03-19 | 光学元件 |
KR1020150038192A KR101988934B1 (ko) | 2014-03-19 | 2015-03-19 | 광학 소자 |
CN201510121666.7A CN104932048A (zh) | 2014-03-19 | 2015-03-19 | 光学元件 |
CN201520157237.0U CN204666855U (zh) | 2014-03-19 | 2015-03-19 | 光学元件 |
KR1020150083351A KR101985813B1 (ko) | 2014-07-31 | 2015-06-12 | 광학 소자 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014157237A JP6272175B2 (ja) | 2014-07-31 | 2014-07-31 | 光学素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016033632A true JP2016033632A (ja) | 2016-03-10 |
JP6272175B2 JP6272175B2 (ja) | 2018-01-31 |
Family
ID=54574221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014157237A Active JP6272175B2 (ja) | 2014-03-19 | 2014-07-31 | 光学素子 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6272175B2 (ja) |
KR (1) | KR101985813B1 (ja) |
CN (1) | CN105093371B (ja) |
TW (1) | TWI636559B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022044653A (ja) * | 2017-05-29 | 2022-03-17 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 撮像装置 |
WO2022118659A1 (ja) * | 2020-12-02 | 2022-06-09 | 東海光学株式会社 | 光学薄膜の製造方法及び光学薄膜 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW202319826A (zh) | 2021-07-16 | 2023-05-16 | 大立光電股份有限公司 | 透鏡組、光學裝置與電子裝置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5630107A (en) * | 1979-08-21 | 1981-03-26 | Canon Inc | Color filter |
JP2002372763A (ja) * | 2001-04-10 | 2002-12-26 | Mitsubishi Electric Corp | 赤外線カメラ用光学窓およびそれを用いた赤外線カメラ並びに赤外線カメラ用光学窓の製造方法 |
JP2007242877A (ja) * | 2006-03-08 | 2007-09-20 | Sony Corp | 固体撮像素子 |
JP2008258367A (ja) * | 2007-04-04 | 2008-10-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 固体撮像素子、固体撮像装置およびその製造方法 |
JP2013012506A (ja) * | 2011-06-28 | 2013-01-17 | Sony Corp | 固体撮像素子の製造方法、固体撮像素子、電子機器の製造方法、および電子機器。 |
WO2013061990A1 (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-02 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタとその製造方法、並びに撮像装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5942749B2 (ja) * | 1979-07-11 | 1984-10-17 | 株式会社東芝 | 多層膜のエツチング方法 |
JP3998234B2 (ja) * | 2001-11-09 | 2007-10-24 | キヤノン株式会社 | 撮像装置 |
US20040071889A1 (en) * | 2002-08-07 | 2004-04-15 | Hoya Corporation | Method of producing an antireflection-coated substrate |
JP4594703B2 (ja) | 2004-11-19 | 2010-12-08 | オリンパス株式会社 | 固体撮像素子ユニット |
JP2007183366A (ja) * | 2006-01-05 | 2007-07-19 | Pentax Corp | 防塵性光透過性部材及びその用途、並びにその部材を具備する撮像装置 |
CN102597823B (zh) | 2009-11-04 | 2014-12-03 | 旭硝子株式会社 | 近红外线截止滤光片 |
TWI440969B (zh) * | 2009-12-22 | 2014-06-11 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 遮光元件陣列之製造方法 |
JP5663925B2 (ja) * | 2010-03-31 | 2015-02-04 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置、および、その製造方法、電子機器 |
CN204536583U (zh) * | 2014-03-19 | 2015-08-05 | 豪雅冠得股份有限公司 | 光学元件 |
-
2014
- 2014-07-31 JP JP2014157237A patent/JP6272175B2/ja active Active
-
2015
- 2015-03-16 TW TW104108341A patent/TWI636559B/zh active
- 2015-03-19 CN CN201510122107.8A patent/CN105093371B/zh active Active
- 2015-06-12 KR KR1020150083351A patent/KR101985813B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5630107A (en) * | 1979-08-21 | 1981-03-26 | Canon Inc | Color filter |
JP2002372763A (ja) * | 2001-04-10 | 2002-12-26 | Mitsubishi Electric Corp | 赤外線カメラ用光学窓およびそれを用いた赤外線カメラ並びに赤外線カメラ用光学窓の製造方法 |
JP2007242877A (ja) * | 2006-03-08 | 2007-09-20 | Sony Corp | 固体撮像素子 |
JP2008258367A (ja) * | 2007-04-04 | 2008-10-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 固体撮像素子、固体撮像装置およびその製造方法 |
JP2013012506A (ja) * | 2011-06-28 | 2013-01-17 | Sony Corp | 固体撮像素子の製造方法、固体撮像素子、電子機器の製造方法、および電子機器。 |
WO2013061990A1 (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-02 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタとその製造方法、並びに撮像装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022044653A (ja) * | 2017-05-29 | 2022-03-17 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 撮像装置 |
US11810935B2 (en) | 2017-05-29 | 2023-11-07 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Imaging device, solid state image sensor, and electronic device |
JP7449317B2 (ja) | 2017-05-29 | 2024-03-13 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 撮像装置 |
WO2022118659A1 (ja) * | 2020-12-02 | 2022-06-09 | 東海光学株式会社 | 光学薄膜の製造方法及び光学薄膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105093371B (zh) | 2019-06-21 |
CN105093371A (zh) | 2015-11-25 |
KR20160016581A (ko) | 2016-02-15 |
KR101985813B1 (ko) | 2019-06-05 |
JP6272175B2 (ja) | 2018-01-31 |
TWI636559B (zh) | 2018-09-21 |
TW201605033A (zh) | 2016-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5947976B2 (ja) | 近赤外線吸収ガラス、及びその製造方法 | |
KR101908541B1 (ko) | 투명 기판 | |
JP6034785B2 (ja) | 光学部材 | |
KR102061477B1 (ko) | 근적외선 커트 필터 | |
CN104204873B (zh) | 近红外线截止滤波器 | |
JP5849719B2 (ja) | 光吸収体及びこれを用いた撮像装置 | |
JP2016015479A (ja) | 光学素子 | |
KR101988934B1 (ko) | 광학 소자 | |
JP6272175B2 (ja) | 光学素子 | |
JP2005347416A (ja) | 固体撮像装置、半導体ウエハ及びカメラモジュール | |
JP2004354735A (ja) | 光線カットフィルタ | |
JP2010032867A (ja) | Irカットフィルタ | |
CN204536583U (zh) | 光学元件 | |
JP6312260B2 (ja) | 光学素子 | |
CN111399095A (zh) | 光学元件、制造光学元件的方法和光学镜头 | |
JP2017167557A (ja) | 光吸収体及びこれを用いた撮像装置 | |
JP6136661B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタ | |
JP2013114103A (ja) | 光学系および光学機器 | |
JP6156468B2 (ja) | 光吸収体及びこれを用いた撮像装置 | |
JP7093194B2 (ja) | 光源角度測定装置及び人工衛星 | |
JPH0516003B2 (ja) | ||
TW202415984A (zh) | 散景濾光膜、成像光學鏡頭、取像裝置及電子裝置 | |
JP2007086289A (ja) | 光学素子及び光学機器 | |
CN115993176A (zh) | 光谱成像芯片结构 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160628 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20160628 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170331 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170607 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170828 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171228 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6272175 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |