CN111399095A - 光学元件、制造光学元件的方法和光学镜头 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种光学元件、制造光学元件的方法和光学镜头。光学元件包括本体和吸光膜，本体的至少一部分镀有吸光膜，吸光膜包括：第一膜系，第一膜系包括多个膜层，多个膜层包括至少一个金属膜层和至少一个低折射率膜层，金属膜层与低折射率膜层为多个时，金属膜层与低折射率膜层交替设置；第二膜系，第二膜系包括低折射率膜层、高折射率膜层和金属膜层中的至少一种膜层，且第一膜系与第二膜系连接处的膜层的种类不同，第一膜系或第二膜系与本体连接。本发明解决了现有技术中光学镜头存在杂散光多的问题。
Description
技术领域
本发明涉及光学成像设备技术领域，具体而言，涉及一种光学元件、制造光学元件的方法和光学镜头。
背景技术
光学镜头用于将被摄物成像至成像面，如手机的成像于传感器的光学镜头，如可以使用肉眼观察成像的望远镜等。镜头决定成像性能的优劣，因而镜头性能成为设计相机等设备的重要考虑因素，而且近年来随着移动电话等便携式电子装置的发展，便携式电子装置对镜头的要求越来越高。
光学镜头通常包括塑胶镜筒、光学镜片组、遮光片及间隔环等光学元件，光学镜片组设置于塑胶镜筒中，光学镜片组包括多个透镜，透镜之间以嵌合结构彼此嵌合或以间隔环控制透镜间的间隔距离，借以提供适当的光学距离或避免相邻的透镜之间发生摩擦或碰撞而受损，并于透镜间设置遮光片，用以遮蔽塑胶镜筒内部不必要的光线。光线照射进光学镜头后，会在塑胶镜筒的内壁处以及其它各元件表面处发生反射，继而形成了成像面处的杂散光，降低了成像质量。为了减小杂散光的产生，通常在塑胶镜筒的内壁处及透镜的非有效区涂覆黑色涂料，物理涂覆的方式不能有效的控制涂覆的区域，使得光学元件的局部区域产生的杂散光较多。此外，还需要在被涂覆的光学元件的表面设置特殊的结构来满足涂覆的需求。
也就是说，现有技术中光学镜头存在杂散光多的问题。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种光学元件、制造光学元件的方法和光学镜头，以解决现有技术中光学镜头存在杂散光多的问题。
为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种光学元件，包括本体和吸光膜，本体的至少一部分镀有吸光膜，吸光膜包括：第一膜系，第一膜系包括多个膜层，多个膜层包括至少一个金属膜层和至少一个低折射率膜层，金属膜层与低折射率膜层为多个时，金属膜层与低折射率膜层交替设置；第二膜系，第二膜系包括低折射率膜层、高折射率膜层和金属膜层中的至少一种膜层，且第一膜系与第二膜系连接处的膜层的种类不同，第一膜系或第二膜系与本体连接。
进一步地，第一膜系设置在第二膜系与本体之间；或者第一膜系设置在第二膜系内。
进一步地，本体的材料为光学树脂或玻璃。
进一步地，第二膜系包括多个高折射率膜层和多个低折射率膜层时，高折射率膜层与低折射率膜层交替叠置，吸光膜对波长在430nm至780nm范围内的光的平均反射率为R％，R％≦1％；和/或吸光膜对波长在430nm至780nm范围内的光的平均吸收率Abs％，Abs％≧97％。
进一步地，第二膜系仅具有一个膜层时，吸光膜对波长在430nm至780nm范围内的光的平均反射率为R％，R％≦3％；和/或吸光膜对波长在430nm至780nm范围内的光的平均吸收率Abs％，Abs％≧97％。
进一步地，吸光膜中裸露在表面的膜层是金属膜层时，金属膜层的厚度t小于等于20纳米。
进一步地，金属膜层的折射率大于等于2且小于等于4；和/或低折射率膜层的折射率大于等于1.4且小于等于2；和/或高折射率膜层的折射率大于等于2且小于等于4。
进一步地，金属膜层的消光系数大于等于1.5且小于等于4。
进一步地，金属膜层的材料包括Cr、Ti、Cu、Ag、Al中的至少一种；和/或高折射率膜层的材料包括氢化硅、氢化硅锗、SiC、Nb2O5、Ta2O5以及Ti的氧化物中的至少一种；和/或低折射率膜层的材料包括Al、Ti、Sn、Hf、Ta、Y、Zr、Nb的氧化物、氮化物以及氮氧化物中的至少一种。
根据本发明的另一方面，提供了一种制造光学元件的方法，上述的光学元件通过制造光学元件的方法，制造光学元件的方法包括：将光学元件的本体放入到镀膜腔中；在本体的表面的至少一部分交替沉积蒸发金属材料和低折射率材料以形成光学元件的第一膜系，在第一膜系的表面沉积蒸发金属材料或者低折射率材料或者高折射率材料，或者交替沉积低折射率材料和高折射率材料以形成光学元件的第二膜系。在蒸发过程中使用氩离子或氧离子冲击金属材料或高折射率材料或低折射率材料的气体分子，以得到具有第一膜系和第二膜系的光学元件。
根据本发明的另一方面，提供了一种光学镜头，光学镜头包括上述的光学元件。
应用本发明的技术方案，光学元件包括本体和吸光膜，本体的至少一部分镀有吸光膜，吸光膜包括第一膜系和第二膜系，第一膜系设置在本体上，第一膜系包括多个膜层，多个膜层包括至少一个金属膜层和至少一个低折射率膜层，金属膜层与低折射率膜层为多个时，金属膜层与低折射率膜层交替设置；第二膜系设置在第一膜系上，第二膜系包括低折射率膜层、高折射率膜层和金属膜层中的至少一种膜层，且第一膜系与第二膜系连接处的膜层的种类不同。
通过在本体上设置吸光膜，能够增加本体的吸光率，进而可以减少光学元件对光线的反射，可以有效阻挡干扰光线，减少杂散光的产生，提高成像质量。第一膜系和第二膜系的设置使得吸光膜更加的均匀，可以将光学元件的待覆盖的表面完全覆盖住，避免了光学元件的待覆盖的表面部分未覆盖的情况产生，进而使得光学元件能够有效吸收光线。将第一膜系设置成多个膜层的形式，可以有效避免覆盖不均匀地情况，进而可以保证光学元件对光线的吸收效率。
附图说明
构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1示出了本发明的实施例一的光学元件的整体结构示意图；以及
图2示出了图1中吸光膜的反射率的曲线图；
图3示出了图1中吸光膜的吸收率的曲线图；
图4示出了本发明的实施例二的吸光膜的反射率的曲线图；
图5示出了本发明的实施例二的吸光膜的吸收率的曲线图；
图6示出了本发明的实施例三的吸光膜的反射率的曲线图；
图7示出了本发明的实施例三的吸光膜的吸收率的曲线图；
图8示出了本发明的实施例四的吸光膜的反射率的曲线图；
图9示出了本发明的实施例四的吸光膜的吸收率的曲线图。
其中，上述附图包括以下附图标记：
10、本体；20、吸光膜。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
需要指出的是，除非另有指明，本申请使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。
在本发明中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是针对附图所示的方向而言的，或者是针对部件本身在竖直、垂直或重力方向上而言的；同样地，为便于理解和描述，“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外，但上述方位词并不用于限制本发明。
为了解决现有技术中光学镜头存在杂散光多的问题，本发明提供了一种光学元件、制造光学元件的方法和光学镜头。
如图1至图9所示，光学元件包括本体10和吸光膜20，本体10的至少一部分镀有吸光膜20，吸光膜20包括第一膜系和第二膜系，第一膜系包括多个膜层，膜层包括至少一个金属膜层和至少一个低折射率膜层，金属膜层与低折射率膜层为多个时，金属膜层与低折射率膜层交替设置；第二膜系包括低折射率膜层、高折射率膜层和金属膜层中的至少一种膜层，且第一膜系与第二膜系连接处的膜层的种类不同，第一膜系或第二膜系与本体10连接。
通过在本体10上设置吸光膜20，能够增加本体10的吸光率，进而可以减少光学元件对光线的反射，可以有效阻挡干扰光线，减少杂散光的产生，提高成像质量。第一膜系和第二膜系的设置使得吸光膜20更加的均匀，可以将光学元件的待覆盖的表面完全覆盖住，避免了光学元件的待覆盖的表面部分未覆盖的情况产生，进而使得光学元件能够有效吸收光线。将第一膜系设置成多个膜层的形式，可以有效避免覆盖不均匀地情况，进而可以保证光学元件对光线的吸收效率。
可选地，第一膜系设置在第二膜系与本体10之间；或者第一膜系设置在第二膜系内。这样设置可以在保证光学元件对光线的吸收效率的前提下，增加吸光膜20在设计上的多样性，使得吸光膜20能够适应多种光学元件。将第一膜系设置在第二膜系内可以降低金属膜层的反射率，以使得光学元件对光线具有较高的吸收效率，同时具有较低的反射率，以进一步减小了杂散光的产生。
需要说明的是，在本申请中构成第一膜系和第二膜系的膜层均是独立单元，这些独立单元可以相互叠加形成一个子膜系，也可以是一个独立单元作为一个子膜系，这些子膜系之间可以相互叠加，且叠加的次数不限。
具体的，本体10的材料为光学树脂或玻璃。这样设置可以保证本体10具有一定的吸光率，在本体10上再设置吸光膜20能够更好的将光线吸收，减少对光线的反射，减少杂散光的产生。
实施例一
在本实施例中，第二膜系包括多个高折射率膜层和多个低折射率膜层时，高折射率膜层与低折射率膜层交替叠置，吸光膜20对波长在430nm至780nm范围内的光的平均反射率为R％，R％≦1％；和/或吸光膜20对波长在430nm至780nm范围内的光的平均吸收率Abs％，Abs％≧97％。第二膜系为高折射率膜层和低折射率膜层交替叠置，可以有效的增加光线的吸收率，降低本体10对光线的反射率，减少杂散光的产生，进而可以提高成像质量。通过设置高折射率膜层和低折射率膜层可以将光学元件对光线的平均反射率降低到1％以下，对光线的平均吸收率提高到97％以上，可以有效的减少杂散光的产生，提高成像质量。
具体的，吸光膜20中裸露在表面的膜层是金属膜层时，金属膜层的厚度t小于等于20纳米。吸光膜20中裸露在表面的膜层是金属膜层时，金属膜层的厚度大于20纳米的话，就使得金属膜层太厚，使得金属膜层的表面具有金属光泽，进而使得的金属膜层的表面的反光率增加，产生的杂散光较多。而将金属膜层的厚度t限制在小于等于20纳米的范围内，可以有效降低反光率，保证成像质量。
具体的，金属膜层的折射率大于等于2且小于等于4；和/或低折射率膜层的折射率大于等于1.4且小于等于2；和/或高折射率膜层的折射率大于等于2且小于等于4。这样设置使得吸光膜具有良好的吸光率，且具有较低的反射率，进而可以减少杂散光的产生，保证成像质量。
具体的，金属膜层的消光系数大于等于1.5且小于等于4。将金属膜层的消光系数限制在1.5至4的范围内，可以保证金属膜层的吸光率，降低金属膜层的反射率，进而能够有效减少杂散光的产生，保证成像质量。
可选地，金属膜层的材料包括Cr、Ti、Cu、Ag、Al中的至少一种。金属膜层的材料可以仅包括Cr、Ti、Cu、Ag、Al中的一种元素，也可以包括其中的多个元素。当金属膜层的材料包括Cr、Ti、Cu、Ag、Al中的多种物质时，多种物质是混合在一起形成的。需要说明的是，此处的多种物质混合在一起是指物理混合，并不是发射化学反应，不是形成新的物质。金属膜层可以包括Cr、Ti、Cu、Ag、Al中任意的物质的成分是任意的。
可选地，高折射率膜层的材料包括氢化硅、氢化硅锗、SiC、Nb2O5、Ta2O5以及Ti的氧化物中的至少一种。高折射率膜层可以由氢化硅、氢化硅锗、SiC、Nb2O5、Ta2O5以及Ti的氧化物中的一种物质形成，当然也可以由氢化硅、氢化硅锗、SiC、Nb2O5、Ta2O5以及Ti的氧化物中的几种物质混合形成。需要说明的是，此处的几种物质混合在一起是指物理混合，而不会发生化学反应生成新的物质。此处的高折射率膜层的材料是本行业内惯用的高折射率的材料形成的，而不是形成新的材料，也不是应用新的组分配比形成的材料。
可选地，低折射率膜层的材料包括Al、Ti、Sn、Hf、Ta、Y、Zr、Nb的氧化物、氮化物以及氮氧化物中的至少一种。低折射率膜层可以由Al、Ti、Sn、Hf、Ta、Y、Zr、Nb的氧化物、氮化物以及氮氧化物中的一种物质形成，当然也可以由Al、Ti、Sn、Hf、Ta、Y、Zr、Nb的氧化物、氮化物以及氮氧化物中的几种物质混合形成。需要说明的是，此处的几种物质混合在一起是指物理混合，而不会发生化学反应生产新的物质。此处的低折射率膜成的材料是本行业内惯用的低折射率的材料形成的，而不是形成新的材料，也不是应用新的组分配比形成的材料。
光学元件可以是透镜、镜筒、遮光片和间隔环等，可以根据透镜、镜筒、遮光片和间隔环的实际使用需求来对其进行镀膜。
由于金属膜层具有较强的吸光性，但是其本身的反射率也会较高。所以在利用金属膜作为强吸收膜的同时，需要考虑到其带来的反射率较高的反射效果，因此若既要保证膜层整体具有强的吸收性，又具有较低的反射率，就需要在吸收层的基础上增加抗反层。因此，在本发明中将金属膜层与低折射率膜层交替叠置作为一个基础，在此基础上来增加第二膜层的抗反层，从而达到高吸收、低反射的目的。
在本实施例中，本体10为树脂，吸光膜20包括第一膜系和第二膜系，第二膜系包括金属膜层和高折射率膜层和低折射率膜层，吸光膜20的膜层结构为：(Ti3O5+SiO2)+(Cr/SiO2)+Cr+(Ti3O5+SiO2)。从本体10的一侧开始，第一层为Ti3O5，第二层为SiO2，第三层为Cr，第四层为SiO2，第五层为Cr，第六层为Ti3O5，第七层为SiO2。在本实施例中，在本实施例中设置各膜层的厚度为：从邻近本体10一侧起分别为3nm、30.22nm、229.05nm、88.66nm、17.02nm、52.73nm、95.46nm。
在本实施例中，Ti3O5作为高折射率膜层，SiO2作为低折射率膜层，第二膜系包括高折射率膜层和低折射率膜层叠置形成的子膜系，还包括金属膜层形成的子膜系。第二膜系中的子膜系是相对独立的，第一膜系位于第二膜系的两个子膜系之间。
制造光学元件的方法，上述的光学元件通过制造光学元件的方法，制造光学元件的方法包括：将光学元件的本体10放入到镀膜腔中；在本体10的表面的至少一部分交替沉积蒸发金属材料和低折射率材料以形成光学元件的第一膜系，在第一膜系的表面沉积蒸发金属材料或者低折射率材料或者高折射率材料，或者交替沉积低折射率材料和高折射率材料以形成光学元件的第二膜系。在蒸发过程中使用氩离子或氧离子冲击金属材料或高折射率材料或低折射率材料的气体分子，以得到具有第一膜系和第二膜系的光学元件。通过沉积的方式在本体10的表面上形成的膜层更加均匀，形成的光学元件的吸光效果更好，可以有效降低杂散光的产生。在蒸发的过程中使用氩离子或氧离子冲击金属材料或高折射率材料或低折射率材料的气体分子，可以有效保证镀膜腔内气体环境的稳定性和安全性。
光学镜头包括上述的光学元件。包含上述光学元件的光学镜头的杂散光少，成像质量高。
在实际的光学产品的生产过程中，各个光学元件的有效部分和非有效部分都会对光线产生阻挡。对于有效部分的光线，希望尽可能的全部透过，从而可以有效的提高成像质量。而对于非有效部分产生的杂散光，则希望其尽可能的不透过或者少透过。而本发明中的吸光膜20，则可以用来抑制非有效部分的光学作用和有效部分的光学作用部分产生的杂散光，使其光线尽可能的吸收和反射。
根据A+T+R＝1，其中A代表吸收，T代表透过，R代表反射，即对于全部入射的光线来说，其光线被分为吸收、反射和透过三部分光线。由此可以判断出，当其吸收和反射尽可能的大时，则透过将会大大减小，满足光学元件的使用需求。故对于非有效部分的光学元件产生的杂散光，本申请中的吸光膜20均可以满足使用要求。
而对于某些在有效部分的光学作用产生的杂散光而言，虽然目的想消除杂散光，但是如果表面产生的反射率较高，则会引起其外观较亮，对于目视可见的产品外观来说，则会产生不良的效果，故此种情况下，则希望光线尽可能的被吸收且反射较小。此时，本实施例中的吸光膜20则可以满足使用需求。在满足性能良好的情况下，也可以保证其较好的外观，使其目视效果较好，表面不会因为产生较亮的光线反射而引起表面突兀。
实施例二
与实施例一的区别是，第二膜系的结构不同。
在本实施例中，第二膜系仅具有一个膜层时，吸光膜20对波长在430nm至780nm范围内的光的平均反射率为R％，R％≦3％；和/或吸光膜20对波长在430nm至780nm范围内的光的平均吸收率Abs％，Abs％≧97％。第二膜系仅为一个膜层时，便于第二膜系的制作，同时也可以有效增加光线的吸收率，降低本体10对光线的反射率，减少杂散光的产生，进而可以提高成像质量。
在本实施例中，本体10是玻璃，吸光膜20包括第一膜系和第二膜系，第二膜系仅为金属膜层，吸光膜20的膜层的结构为(Cr/Al2O3和SiO2的混合物)^3+Cr。即从本体10的一侧开始，第一层为Cr，第二层为Al2O3和SiO2的混合物，第三层为Cr，第四层Al2O3和SiO2的混合物，第五层为Cr，第六层为Al2O3和SiO2的混合物，第七层为Cr。其中，Cr的消光系数k为2.39，Al2O3和SiO2的混合物的折射率为1.48。在本实施例中，在本实施例中设置各膜层的厚度为：从邻近本体10一侧起分别为59.99nm、35nm、18.31nm、33.23nm、4.31nm、46.55nm、9nm。在本实施例中，Al2O3和SiO2的混合物作为低折射率膜层。
实施例三
与实施例一的区别是，吸光膜仅具有第一膜系。
在本实施例中，本体10是玻璃，吸光膜20仅包括第一膜系，即仅包括金属膜层和低折射率膜层，其膜层结构为：(Cr/SiO2)^4，其中，Cr的消光系数k为2.39，SiO2的折射率为1.47.从本体10的一侧开始，第一层为Cr，第二层为SiO2，第三层为Cr，第四层为SiO2……。在本实施例中，在本实施例中设置各膜层的厚度为：从邻近本体10一侧起分别为59.99nm、35nm、18.31nm、33.23nm、4.31nm、46.55nm、9.3nm、5nm。在本实施例中SiO2作为低折射率膜层。需要说明的是4是指(Cr/SiO2)重复四次。
实施例四
与实施例一的区别是，第二膜系的具体结构不同。
在本实施例中，本体10是树脂，吸光膜20包括第一膜系和第二膜系，第二膜系包括金属膜层和高折射率膜层，吸光膜20的膜层结构为：Ti3O5+(Cr/SiO2)^3+Cr，即从本体10的一侧开始，第一层为Ti3O5，第二层为Cr，第三层为SiO2，第四层为Cr，第五层为SiO2，第六层为Cr，第七层为SiO2，第八层为Cr。在本实施例中，在本实施例中设置各膜层的厚度为：从邻近本体10一侧起分别为5nm、59.99nm、35nm、18.31nm、33.23nm、4.31nm、46.55nm、9.3nm。在本实施例中Ti3O5作为高折射率膜层。
从图2至图9中可以看出，实施例一中的反射率明显低于实施例二至四，且吸收也明显高于后三个实施例。由于在实施例一的膜系结构中加入了高折射率膜层和低折射率膜层相互堆叠的减反射结构，才会使整体的反射率明显降低。换句话说，在本申请中的，第一膜系本身就构成了一个吸收结构，即包含此结构的吸光膜20整体呈现的吸光率较大。实施例二至四中，吸光膜中均包含吸收的第一膜系，即：金属膜层+低折射率膜层。而实施例二至四中的吸光膜20在430nm至780nm波段范围内的反射率小于等于3％，吸收率大于等于97。而实施例一中，除第一膜系外，还增加了高低折射率堆叠而成的抗反结构，即高折射率膜层+低折射率膜层。可以进一步降低反射率。又由于反射率和吸收率正相关，因此吸收率会随之升高。在430nm至780nm波段范围内的反射率小于等于1％，吸收率大于等于99％。
显然，上述所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。
需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、工作、器件、组件和/或它们的组合。
需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种光学元件，其特征在于，包括本体(10)和吸光膜(20)，所述本体(10)的至少一部分镀有所述吸光膜(20)，所述吸光膜(20)包括：
第一膜系，所述第一膜系包括多个膜层，多个所述膜层包括至少一个金属膜层和至少一个低折射率膜层，所述金属膜层与所述低折射率膜层为多个时，所述金属膜层与所述低折射率膜层交替设置；
第二膜系，所述第二膜系包括所述低折射率膜层、高折射率膜层和所述金属膜层中的至少一种膜层，且所述第一膜系与所述第二膜系连接处的所述膜层的种类不同，所述第一膜系或所述第二膜系与所述本体(10)连接。
2.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，
所述第一膜系设置在所述第二膜系与所述本体(10)之间；或者
所述第一膜系设置在所述第二膜系内。
3.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述第二膜系包括多个所述高折射率膜层和多个所述低折射率膜层时，所述高折射率膜层与所述低折射率膜层交替叠置，
所述吸光膜(20)对波长在430nm至780nm范围内的光的平均反射率为R％，R％≦1％；和/或
所述吸光膜(20)对波长在430nm至780nm范围内的光的平均吸收率Abs％，Abs％≧97％。
4.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述第二膜系仅具有一个膜层时，
所述吸光膜(20)对波长在430nm至780nm范围内的光的平均反射率为R％，R％≦3％；和/或
所述吸光膜(20)对波长在430nm至780nm范围内的光的平均吸收率Abs％，Abs％≧97％。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学元件，其特征在于，所述吸光膜(20)中裸露在表面的膜层是所述金属膜层时，所述金属膜层的厚度t小于等于20纳米。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的光学元件，其特征在于，
所述金属膜层的折射率大于等于2且小于等于4；和/或
所述低折射率膜层的折射率大于等于1.4且小于等于2；和/或
所述高折射率膜层的折射率大于等于2且小于等于4。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的光学元件，其特征在于，所述金属膜层的消光系数大于等于1.5且小于等于4。
8.根据权利要求1至4中任一项所述的光学元件，其特征在于，
所述金属膜层的材料包括Cr、Ti、Cu、Ag、Al中的至少一种；和/或
所述高折射率膜层的材料包括氢化硅、氢化硅锗、SiC、Nb2O5、Ta2O5以及Ti的氧化物中的至少一种；和/或
所述低折射率膜层的材料包括Al、Ti、Sn、Hf、Ta、Y、Zr、Nb的氧化物、氮化物以及氮氧化物中的至少一种。
9.一种制造光学元件的方法，其特征在于，权利要求1至8中任一项所述的光学元件通过所述制造光学元件的方法，所述制造光学元件的方法包括：
将所述光学元件的本体(10)放入到镀膜腔中；
在所述本体(10)的表面的至少一部分交替沉积蒸发金属材料和低折射率材料以形成所述光学元件的第一膜系，
在所述第一膜系的表面沉积蒸发所述金属材料或者所述低折射率材料或者高折射率材料，或者交替沉积所述低折射率材料和所述高折射率材料以形成所述光学元件的第二膜系；
在蒸发过程中使用氩离子或氧离子冲击所述金属材料或所述高折射率材料或所述低折射率材料的气体分子，以得到具有所述第一膜系和所述第二膜系的所述光学元件。
10.一种光学镜头，其特征在于，所述光学镜头包括权利要求1至8中任一项所述的光学元件。
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