JP2016004640A - 荷電粒子線応用装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】荷電粒子線応用装置100は、荷電粒子源101と、荷電粒子源により発生した荷電粒子線を、試料上に集束させる対物レンズ112とを具備している。ここで、荷電粒子線応用装置は、荷電粒子源と対物レンズとの間に設けられた収差発生用素子と、収差発生用素子と対物レンズとの間に設けられた傾斜用偏向器と、収差発生用素子を制御する偏向収差制御部と、収差発生用素子と対物レンズとの間に設けられた第1電磁界重畳多極子106と、第1電磁界重畳多極子を制御する電磁界重畳多極子制御部とを具備している。収差発生素子は、傾斜用偏向器により、試料に対して荷電粒子線を傾斜させたときに発生する複数の収差を、相殺するように機能する。また、第1電磁界重畳多極子は、荷電粒子線において主となる荷電粒子線とはエネルギーの異なる荷電粒子線の軌道を変更するように機能する。
【選択図】図1
Description
図1は、実施の形態1に係わる電子線観察装置100の構成を示す構成図である。電子線観察装置100は、大別すると、電子光学系と制御系とを具備している。
偏向色収差および偏向コマ収差の相殺(打ち消し)に関して、先ず説明する。傾斜観察のために、電子線102を傾斜させる、すなわちビームチルトさせるためのビームチルト用偏向器110による偏向の方向は、収差発生用偏向器104によって電子線102が電子源像123に到達した際の光軸に対する電子線102の傾斜角(θ1)を打消す、逆向きの方向とする。
次に、高次色収差制御用電磁多極子106を用いた高次色収差の抑制を、図2を用いて説明する。図2(A)〜(D)は、ビームチルトの電子光学系の構成を示す概略図である。図2(A)〜(D)において、図1と同じ部分には、同じ符号が付されている。また、説明を容易にするために、図1に示した電子光学系を構成する要素のうち、収差発生用レンズ105、対物レンズ112、及び高次色収差制御用電磁多極子106以外は、省略している。
次に、高次色収差制御用電磁多極子106が、電子線102に含まれる主たる電子線には作用を及ぼさず、電子線エネルギーの異なる電子線(低速電子線202A、高速電子線202B)の軌道が、対物レンズ112内で拡がるのを制御する原理を説明する。この実施の形態において、高次色収差制御用電磁多極子106は、電磁界重畳双極子である。図3(A)および(B)は、高次色収差制御用電磁多極子106の構成を示す概略図である。
次に、図1に示した電子線観察装置100を用いて行う傾斜観察の操作を、図4および図5を参照しながら、説明する。図4は、試料113を傾斜観察する際の操作を示すフローチャート図であり、電子線調整のステップと傾斜観察のステップとを含んでいる。また、図5は、図1に示した入出力部121における表示手段において表示される画像の例を示している。この実施の形態においては、入出力部121は、表示手段と入力手段とが一体化した構成を有している。すなわち、画面に画像の表示を行うとともに、画像の所定部分をタッチすることにより、入力が行われる。
実施の形態1においては、高次色収差制御用電磁多極子106が、電磁界重畳双極子である場合を述べた。実施の形態2は、高次色収差制御用電磁多極子106として、電磁界重畳四極子を用いた例である。電子線観察装置100の構成、偏向色収差および偏向コマ収差の相殺は、実施の形態1と同様である。また、傾斜観察を実施する操作に関しても実施の形態1と同様である。そのため、ここでは、これらに関しての説明は省略し、実施の形態1と異なる高次色収差制御用電磁多極子106についてのみ説明する。
実施の形態1および2においては、収差発生用偏向器が1段(収差発生用偏向器104)の場合を例として示した。しかしながら、収差発生用偏向器は、光軸上に複数段設けるようにしてもよい。実施の形態3では、複数段の例として2段の収差発生用偏向器を設けた例を説明する。収差発生用偏向器が1段のみの場合、収差発生用レンズ105を通過した後に電子源像123を光軸(一点鎖線)上に形成するためには、電子源像122の位置を収差発生用偏向器の位置から動かすことができず、光学条件の自由度が制限されるが、複数段の収差発生用偏向器を設けることにより、光学条件の自由度を高めることが可能となる。すなわち、実施の形態3においては、収差発生用偏向器を2段で構成し、仮想偏向支点を制御可能としている。
実施の形態1から3においては、ビームチルト用偏向器が1段(ビームチルト用偏向器110)の場合を示した。この実施の形態3においては、高次色収差制御用電磁多極子106と対物レンズ112との間に、複数段のビームチルト用偏向器が設けられる。実施の形態3で述べたのと同様に、ビームチルト用偏向器が1段のみの場合、対物レンズ112を通過した後、試料113上にてクロスオーバーを光軸上に形成するためには、電子源像123、すなわち対物レンズ112の物面の位置を、ビームチルト用偏向器の位置から動かすことができず、光学条件の自由度が制限される。この実施の形態4においては、ビームチルト用偏向器を2段で構成し、仮想偏向支点を制御可能としている。
実施の形態1〜4においては、高次色収差制御用電磁多極子が1段(高次色収差制御用電磁多極子106)の場合を示した。高次色収差制御用電磁多極子が1段の場合には、電子光学系の構成およびその制御の簡略化を図ることが可能である。しかしながら、実施の形態1で説明したように、高次色収差制御用電磁多極子106により偏向されたエネルギーの異なる電子線の軌道は、図2(B)に示した偏向色収差補正時の軌道と厳密には一致しないため、収差発生用偏向器で発生させる偏向色収差量が微小に変動する。この実施の形態5においては、この問題を解決するために、高次色収差制御用電磁多極子が、複数段設けられる。ここでは、2段の高次色収差制御用電磁多極子901、902が、光軸に沿って設けられた例を説明する。
Claims (9)
- 荷電粒子源により発生した荷電粒子線を対物レンズにより、試料上に集束させる、荷電粒子線応用装置であって、
前記荷電粒子線応用装置は、
前記荷電粒子源と前記対物レンズとの間に設けられた収差発生用素子と、
前記収差発生用素子と前記対物レンズとの間に設けられた傾斜用偏向器と、
前記収差発生用素子を制御する偏向収差制御部と、
前記収差発生用素子と前記対物レンズとの間に設けられた第1電磁界重畳多極子と、
前記第1電磁界重畳多極子を制御する電磁界重畳多極子制御部と、
を具備する、荷電粒子線応用装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線応用装置において、
前記偏向収差制御部は、前記荷電粒子線が前記対物レンズに入射する際の、前記対物レンズにおける位置によって定まる偏向色収差あるいは偏向コマ収差を打ち消すように、前記収差発生用素子を制御する、荷電粒子線応用装置。 - 請求項1あるいは2に記載の荷電粒子線応用装置において、
前記電磁界重畳多極子制御部は、前記荷電粒子線において主たる荷電粒子線の軌道の変化を打ち消すような第1電磁界重畳場を、前記第1電磁界重畳多極子が形成するように、前記第1電磁界重畳多極子を制御する、荷電粒子線応用装置。 - 請求項3に記載の荷電粒子線応用装置において、
前記第1電磁界重畳場は、双極子場あるいは四極子場である、荷電粒子線応用装置。 - 請求項1あるいは2に記載の荷電粒子線応用装置において、
前記収差発生用素子は、前記荷電粒子線の光軸に設けられた、少なくとも1段のレンズと、少なくとも1段の偏向器とを、具備する、荷電粒子線応用装置。 - 請求項1あるいは2に記載の荷電粒子線応用装置において、
前記傾斜用偏向器は、それぞれ、前記荷電粒子線の光軸に設けられた、少なくとも2段の偏向器を、具備する、荷電粒子線応用装置。 - 請求項1あるいは2に記載の荷電粒子線応用装置において、
前記荷電粒子線応用装置は、前記収差発生用素子と前記対物レンズとの間に設けられ、前記電磁界重畳多極子制御部によって制御される第2電磁界重畳多極子を、具備する、荷電粒子線応用装置。 - 請求項7に記載の荷電粒子線応用装置において、
前記電磁界重畳多極子制御部は、前記荷電粒子線において主たる荷電粒子線の軌道の変化を打ち消すような第1電磁界重畳場と第2電磁界重畳場とを、前記第1電磁界重畳多極子と前記第2電磁界重畳多極子とが形成するように、前記第1電磁界重畳多極子および前記第2電磁界重畳多極子を制御し、
前記主たる荷電粒子線のエネルギーと異なるエネルギーを有する荷電粒子線に対して、前記第1電磁界重畳場が作用する方向と、前記第2電磁界重畳場が作用する方向とが、同一あるいは逆向きになるように、前記電磁界重畳多極子制御部は、前記第1電磁界重畳多極子および前記第2電磁界重畳多極子を制御する、荷電粒子線応用装置。 - 請求項8に記載の荷電粒子線応用装置において、
前記第1電磁界重畳場および第2電磁界重畳場のそれぞれは、双極子場あるいは四極子場である、荷電粒子線応用装置。
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