JP2015535813A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015535813A5 JP2015535813A5 JP2015531853A JP2015531853A JP2015535813A5 JP 2015535813 A5 JP2015535813 A5 JP 2015535813A5 JP 2015531853 A JP2015531853 A JP 2015531853A JP 2015531853 A JP2015531853 A JP 2015531853A JP 2015535813 A5 JP2015535813 A5 JP 2015535813A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lower film
- independently
- forming
- unsaturated hydrocarbon
- cyclic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2012-0100898 | 2012-09-12 | ||
| KR1020120100898A KR101993472B1 (ko) | 2012-09-12 | 2012-09-12 | 레지스트 패턴의 하부막 형성용 화합물, 조성물 및 이를 이용한 하부막의 형성방법 |
| PCT/KR2013/008258 WO2014042443A1 (ko) | 2012-09-12 | 2013-09-12 | 레지스트 패턴의 하부막 형성용 화합물, 조성물 및 이를 이용한 하부막의 형성방법 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015535813A JP2015535813A (ja) | 2015-12-17 |
| JP2015535813A5 true JP2015535813A5 (https=) | 2016-10-27 |
| JP6247693B2 JP6247693B2 (ja) | 2017-12-13 |
Family
ID=50278469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015531853A Expired - Fee Related JP6247693B2 (ja) | 2012-09-12 | 2013-09-12 | レジストパターンの下部膜形成用化合物、組成物およびこれを利用した下部膜の形成方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9651867B2 (https=) |
| JP (1) | JP6247693B2 (https=) |
| KR (1) | KR101993472B1 (https=) |
| TW (1) | TWI598694B (https=) |
| WO (1) | WO2014042443A1 (https=) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101788090B1 (ko) | 2014-11-28 | 2017-11-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 중합체, 유기막 조성물, 유기막, 및 패턴형성방법 |
| KR102441290B1 (ko) * | 2015-07-29 | 2022-09-07 | 주식회사 동진쎄미켐 | 유기 반사방지막 형성용 조성물 |
| KR102653125B1 (ko) * | 2016-01-13 | 2024-04-01 | 삼성전자주식회사 | 포토레지스트의 하부막 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
| KR102096270B1 (ko) * | 2017-07-14 | 2020-04-02 | 주식회사 엘지화학 | 중성층 조성물 |
| US10340179B2 (en) | 2017-09-13 | 2019-07-02 | International Business Machines Corporation | Via formation using directed self-assembly of a block copolymer |
| CN108192643B (zh) * | 2018-01-30 | 2020-07-28 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 自取向材料、自取向液晶材料、液晶面板及其制作方法 |
| KR102264694B1 (ko) * | 2018-06-11 | 2021-06-11 | 삼성에스디아이 주식회사 | 고분자 가교제, 이를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물, 및 이를 이용한 패턴형성방법 |
| KR102751329B1 (ko) | 2019-03-28 | 2025-01-07 | 삼성전자주식회사 | 반사방지막 형성용 폴리머 및 조성물과 반사방지막을 이용하는 집적회로 소자의 제조 방법 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002086624A1 (fr) * | 2001-04-10 | 2002-10-31 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Composition servant a former un film antireflet pour procede lithographique |
| KR100886314B1 (ko) * | 2007-06-25 | 2009-03-04 | 금호석유화학 주식회사 | 유기반사방지막용 공중합체 및 이를 포함하는유기반사방지막 조성물 |
| KR100920886B1 (ko) * | 2007-12-13 | 2009-10-09 | 주식회사 효성 | 현상 가능한 유기 반사방지막 형성용 조성물 및 이로부터형성된 유기 반사방지막 |
| US8999492B2 (en) * | 2008-02-05 | 2015-04-07 | Micron Technology, Inc. | Method to produce nanometer-sized features with directed assembly of block copolymers |
| US8221965B2 (en) * | 2008-07-08 | 2012-07-17 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Antireflective coating compositions |
| KR101715343B1 (ko) * | 2009-03-11 | 2017-03-14 | 주식회사 동진쎄미켐 | 반도체 소자의 미세 패턴 형성 방법 |
| US9244352B2 (en) * | 2009-05-20 | 2016-01-26 | Rohm And Haas Electronic Materials, Llc | Coating compositions for use with an overcoated photoresist |
| US8114306B2 (en) | 2009-05-22 | 2012-02-14 | International Business Machines Corporation | Method of forming sub-lithographic features using directed self-assembly of polymers |
| KR101710415B1 (ko) * | 2009-09-14 | 2017-02-27 | 주식회사 동진쎄미켐 | 유기 반사방지막 형성용 이소시아누레이트 화합물 및 이를 포함하는 조성물 |
| KR20130034778A (ko) | 2011-09-29 | 2013-04-08 | 주식회사 동진쎄미켐 | 유도된 자가정렬 공정을 이용한 반도체 소자의 미세패턴 형성 방법 |
| KR20130120586A (ko) * | 2012-04-26 | 2013-11-05 | 삼성전자주식회사 | 패턴 형성 방법 |
-
2012
- 2012-09-12 KR KR1020120100898A patent/KR101993472B1/ko active Active
-
2013
- 2013-09-11 TW TW102132774A patent/TWI598694B/zh not_active IP Right Cessation
- 2013-09-12 WO PCT/KR2013/008258 patent/WO2014042443A1/ko not_active Ceased
- 2013-09-12 JP JP2015531853A patent/JP6247693B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2013-09-12 US US14/427,010 patent/US9651867B2/en not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2015535813A5 (https=) | ||
| TWI715129B (zh) | 半導體抗蝕劑組成物及使用所述組成物形成圖案的方法及系統 | |
| TWI672327B (zh) | 矽基硬式光罩 | |
| TWI753341B (zh) | 聚合物和硬罩幕組成物以及形成圖案的方法 | |
| TW200734825A (en) | Silicon-containing resist underlayer coating forming composition for forming resist under-layer coating of photo-crosslink cure | |
| TW201111917A (en) | Method and materials for reverse patterning | |
| KR20160136316A (ko) | 패턴 형성 방법, 수지 및 레지스트 하층막 형성 조성물 | |
| KR102351281B1 (ko) | 다층 레지스트 프로세스용 무기 막 형성 조성물 및 패턴 형성 방법 | |
| CN103896206B (zh) | 基于硅片刻穿的体硅加工工艺 | |
| JP7033259B2 (ja) | 保護膜を具備する薄膜トランジスタ基板およびその製造方法 | |
| TW201431930A (zh) | 用於硬光罩組合物的單體、硬光罩組合物及形成圖案的方法 | |
| TWI623515B (zh) | 用於硬罩幕組成物的單體和包含此單體的硬罩幕組成物及使用硬罩幕組成物形成圖案的方法 | |
| KR20170008488A (ko) | 신규한 레지스트 하층막 형성용 중합체, 이를 포함하는 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 이를 이용한 레지스트 패턴의 형성 방법 | |
| JP2019031665A (ja) | ケイ素含有下層 | |
| CN111383912B (zh) | 硬掩膜组成物、硬掩模层以及形成图案的方法 | |
| JP6838063B2 (ja) | 金属酸化物を含有する材料、その製造方法及びその使用方法 | |
| TW201135367A (en) | Resist underlayer composition and process of producing integrated circuit devices using the same | |
| KR20140041399A (ko) | 간극 매입용 조성물, 그것을 사용한 간극 매입 방법 및 반도체 소자의 제조 방법 | |
| JP2005352107A (ja) | 犠牲膜形成用組成物、パターン形成方法、犠牲膜及びその除去方法 | |
| TW201936767A (zh) | 導電性組成物及其製造方法以及水溶性聚合物及其製造方法 | |
| WO2018155188A1 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| TWI456351B (zh) | 用於光阻底層之包含芳香環的聚合物、包含該聚合物之光阻底層組成物及使用該組成物將裝置圖案化的方法 | |
| TWI884931B (zh) | 相分離構造形成用樹脂組成物及包含相分離構造之構造體之製造方法 | |
| TW201124489A (en) | Composition for forming a layer for protecting an organic surface | |
| CN105026389B (zh) | 用于硬遮罩组成物的单体、包含所述单体的硬遮罩组成物及使用所述组成物形成图案的方法 |