JP2015528206A - 最適形状を有するcmos撮像素子および写真植字によってそのような素子を生産するための方法 - Google Patents
最適形状を有するcmos撮像素子および写真植字によってそのような素子を生産するための方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
− 単一の基板上に生成され、行と列に配列された画素グループを含む画像ゾーンであって、一列当たりの画素数は、すべての画素列に対して一様ではなく、各画素は、撮像素子によって受信された光子放射線の関数として生成される電荷を捕集する電荷捕集要素を含む、画像ゾーンと、
− 行ごとに画素をリンクする行伝導体と、
− 列ごとに画素をリンクする列伝導体と、
− 行伝導体にリンクされ、各画素行の個別のアドレス指定を可能にする行アドレス指定ブロックと、
− 列伝導体にリンクされ、行アドレス指定ブロックによって選択された行の画素によって捕集された電荷の読み取りを可能にする列読取ブロックであって、画像ゾーンの周辺に位置する、列読取ブロックと
を含み、
行アドレス指定ブロックおよび列読取ブロックは、画像ゾーンと同じ基板上に生成される、撮像素子である。
− 基板上に生成され、行と列に配列された画素グループを含む画像ゾーンであって、一列当たりの画素数は、すべての画素列に対して一様ではなく、各画素は、撮像素子によって受信された光子放射線の関数として生成される電荷を捕集する電荷捕集要素を含む、画像ゾーンと、
− 行ごとに画素をリンクする行伝導体と、
− 列ごとに画素をリンクする列伝導体と、
− 行伝導体にリンクされ、各画素行の個別のアドレス指定を可能にする行アドレス指定ブロックと、
− 列伝導体にリンクされ、行アドレス指定ブロックによって選択された行の画素によって捕集された電荷の読み取りを可能にする列読取ブロックであって、画像ゾーンの周辺に位置する、列読取ブロックと
を含み、
行アドレス指定ブロックおよび列読取ブロックは、画像ゾーンと同じ基板上に生成される、方法であり、
少なくとも1つのマスクセットを通じて、半導体ウエハの表面がゾーンごとに放射線に露光されるステップを含み、少なくとも1つのマスクセットは、半導体ウエハの表面上に様々なパターンをフォトリソグラフィによって生成することができるように構成され、画像ゾーンは、半導体ウエハの表面上での互いに隣接するパターンの連続生成によって得られ、こうして得られた画像ゾーンは、10cm2以上の表面積を呈することを特徴とし、
実装されるパターンの数は、厳密に1超15未満であることも特徴とする方法にも関する。
Claims (35)
- 基板を形成する半導体ウエハ(22)上に撮像素子をフォトリソグラフィによって生産するための方法であって、センサは、
− 前記基板上に生成され、行と列に配列された画素(24)グループを含む画像ゾーン(23)であって、一列当たりの画素数は、すべての前記画素列に対して一様ではなく、各画素(24)は、前記撮像素子によって受信された光子放射線の関数として生成される電荷を捕集する電荷捕集要素を含む、画像ゾーン(23)と、
− 行ごとに前記画素をリンクする行伝導体(Xi、XRAZi)と、
− 列ごとに前記画素をリンクする列伝導体(Yj)と、
− 前記行伝導体(Xi、XRAZi)にリンクされ、各画素行の個別のアドレス指定を可能にする行アドレス指定ブロック(12)と、
− 前記列伝導体(Yj)にリンクされ、前記行アドレス指定ブロック(12)によって選択された前記行の前記画素(24)によって捕集された前記電荷の読み取りを可能にする列読取ブロック(13)であって、前記画像ゾーン(23)の周辺に位置する、列読取ブロック(13)と
を含み、
前記行アドレス指定ブロック(12)および前記列読取ブロック(13)は、前記画像ゾーンと同じ基板(22)上に生成される、方法であり、
少なくとも1つのマスクセットを通じて、前記半導体ウエハ(22)の表面がゾーンごとに放射線に露光されるステップを含み、前記少なくとも1つのマスクセットは、前記半導体ウエハ(22)の前記表面上に様々なパターンをフォトリソグラフィによって生成することができるように構成され、前記画像ゾーンは、前記半導体ウエハの前記表面上での互いに隣接するパターンの連続生成によって得られ、こうして得られた前記画像ゾーン(23)は、10cm2以上の表面積を呈することを特徴とし、
実装されるパターンの数は、厳密に1超15未満であることも特徴とする方法。 - 前記少なくとも1つのマスクセットの各マスクは、n個の異なる領域を含み、n個のパターンのそれぞれのフォトリソグラフィによる前記生成を可能にし、nは、整数であり、1〜15である、請求項1に記載の方法。
- 前記実装されるパターンの数は、8未満である、請求項1または2に記載の方法。
- 前記画像ゾーンは、2つまたは3つのマスクセット(31、32)によって形成されるパターンの前記生成によって得られる、請求項1または2に記載の方法。
- 前記画像ゾーンの前記周辺画素は、少なくとも5つの辺を含む多角形を実質的に形成する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記画像ゾーンの前記周辺画素は、20未満の数の辺を含む多角形を実質的に形成する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記画像ゾーンの前記周辺画素は、正八角形を実質的に形成する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記センサ(61)の各行アドレス指定ブロック(12)は、前記行アドレス指定ブロック(12)に対応する領域を含むパターン(711、712、724)の前記生成によって形成され、前記パターンの少なくとも1つ(711、712)は、前記画素行および前記画素列に対して傾斜している形状を呈する行アドレス指定ブロックを形成する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記センサ(21)の各列読取ブロック(13)は、前記ブロック(13)に対応する領域を含むパターン(311、312、322)の前記生成によって形成され、前記パターンの少なくとも1つ(311、312)は、前記画素行および前記画素列に対して傾斜している形状を呈する列読取ブロックを形成する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記1つまたは複数のマスクセット(31、32)は、長方形の形状であり、前記半導体ウエハ(22)上に生成すべき各パターンは、1つまたは複数の閉塞フラップによって選択される、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記半導体ウエハ(22)の前記表面は、マスクセット(311、312、322、323、324)を通じて露光され、その各マスクは、前記画像ゾーン(23)、前記行アドレス指定ブロック(12)および前記列読取ブロック(13)を囲む切断線(25)の形成を可能にする領域を含み、前記切断線(25)は、前記半導体ウエハ(22)の切断を容易にする、方法であって、前記センサ(21、61、91、111、191)を形成するために前記切断線(25)に沿って前記半導体ウエハ(22)を切断するステップをさらに含む、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載のフォトリソグラフィ方法によって得られる撮像素子。
- 少なくとも2つの列読取ブロック(13)は、異なるランクの行に属する画素(24)と接触する、請求項12に記載の撮像素子。
- 前記一列当たりの画素数は、前記画像ゾーン(23)の前記周辺画素が少なくとも5つの辺を含む多角形を実質的に形成するように適合される、請求項12または13に記載の撮像素子。
- 前記多角形は、20未満の数の辺を含む、請求項14に記載の撮像素子。
- 前記画像ゾーン(23)の前記周辺画素は、正八角形を実質的に形成する、請求項14に記載の撮像素子。
- 前記列読取ブロック(13)は、複数のグループにまとめることができ、各グループは、前記多角形の前記辺(23D、23E、23F)のうちの1つに平行である、請求項14〜16のいずれか一項に記載の撮像素子。
- 第1のグループの前記列読取ブロック(13)は、前記正八角形の第1の辺(23D)上に位置し、第2のグループの前記列読取ブロック(13)は、前記第1の辺に隣接する第2の辺(23E)上に位置し、第3のグループの前記列読取ブロック(13)は、前記第2の辺に隣接する第3の辺(23F)上に位置する、請求項16または17に記載の撮像素子。
- 前記行アドレス指定ブロック(12)は、前記画像ゾーン(23)の前記周辺に位置する、請求項12〜18のいずれか一項に記載の撮像素子。
- 前記行アドレス指定ブロック(12)は、前記正八角形の前記第1、前記第2および前記第3の辺(23D、23E、23F)に対向する辺(23A、23B、23H)上に位置し、前記行伝導体は、前記基板(22)の第1の面上に形成され、前記センサ(61)は、前記基板の第2の面(金属層)上に形成された制御バスと、前記画像ゾーン(23)に形成された金属孔(62)とをさらに含み、前記制御バスは、前記画素列に平行に配向され、前記行アドレス指定ブロック(12)にリンクされ、前記金属孔(62)は、各行伝導体(Xi、XRAZi)を前記制御バスのうちの1つにリンクする、請求項18または19に記載の撮像素子。
- 前記行アドレス指定ブロック(92)は、前記列読取ブロック(92)と同じ前記正八角形の辺(23D、23E、23F)上に位置し、前記行伝導体は、前記基板の第1の面(金属層)上に形成され、前記センサ(91)は、前記基板の第2の面(金属層)上に形成された制御バスと、前記画像ゾーン(23)に形成された金属孔(62)とをさらに含み、前記制御バスは、前記画素列に平行に配向され、前記行アドレス指定ブロック(92)にリンクされ、前記金属孔(62)は、各行伝導体(Xi、XRAZi)を前記制御バスのうちの1つにリンクする、請求項18または19に記載の撮像素子。
- 前記列読取ブロック(13)は、前記正八角形の第1の辺(23A)の一部上、前記第1の辺(23A)に隣接する第2の辺(23B)上、前記第1の辺(23A)に対向する第3の辺(23E)の一部上および前記第2の辺(23B)に対向する第4の辺(23F)上に位置し、前記第1の辺(23A)の前記一部および前記第3の辺(23E)の前記一部は、前記画像ゾーン(23)の前記画素列の各々の読み取りを可能にするために相補性であり、前記行アドレス指定ブロック(12)は、前記第2の辺(23B)に隣接する第5の辺(23C)の一部上、前記第3および第5の辺(23E、23C)に隣接する第6の辺(23D)上、前記第5の辺(23C)に対向する第7の辺(23G)の一部上、ならびに、前記第6の辺(23D)に対向する第8の辺(23H)上に位置し、前記第5の辺(23C)の前記一部および前記第7の辺(23G)の前記一部は、前記画像ゾーン(23)の前記画素行の各々のアドレス指定を可能にするために相補性である、請求項16、17または19に記載の撮像素子。
- 前記行アドレス指定ブロック(12)は、前記画像ゾーン(23)の内側に位置する、請求項11〜18のいずれか一項に記載の撮像素子。
- 前記行アドレス指定ブロック(12)は、最大の画素数を含む前記画素列のうちの1つに隣接する、請求項23に記載の撮像素子。
- 前記行アドレス指定ブロック(12)は、前記画像ゾーン(23)の前記周辺に位置し、いくつかの行アドレス指定ブロック(12)は、前記画素行に平行であり、いくつかの行アドレス指定ブロック(12)は、前記画素行および前記画素列に対して傾斜しており、前記行伝導体は、前記基板の第1の面(金属層)上に形成され、前記センサ(111)は、前記基板の第2の面(金属層)上に形成された制御バスと、前記画像ゾーン(23)に形成された金属孔(62)とをさらに含み、前記制御バスは、前記画素列に平行に配向され、前記行アドレス指定ブロック(12)にリンクされ、前記金属孔(62)は、各行伝導体(Xi、XRAZi)を前記制御バスのうちの1つにリンクする、請求項12〜18のいずれか一項に記載の撮像素子。
- 各列読取ブロック(13)は、前記画素行に平行であり、前記行アドレス指定ブロック(12)は、前記画像ゾーン(23)の前記周辺に位置し、前記画素行に平行であり、前記行伝導体は、前記基板の第1の面(金属層)上に形成され、前記センサは、前記基板の第2の面(金属層)上に形成された制御バスと、前記画像ゾーン(23)に形成された金属孔(62)とをさらに含み、前記制御バスは、前記画素列に平行に配向され、前記行アドレス指定ブロック(12)にリンクされ、前記金属孔(62)は、各行伝導体(Xi、XRAZi)を前記制御バスのうちの1つにリンクする、請求項12または13に記載の撮像素子。
- 各列読取ブロック(13)は、前記画素行に平行であり、前記列読取ブロック(13)の一部は、前記画素列の第1の終端部に位置し、別の部分は、前記画素列の第2の終端部に位置し、前記2つの部分は、前記画像ゾーン(23)の前記画素列の各々の読み取りを可能にするために相補性であり、前記行アドレス指定ブロック(12)は、前記画像ゾーン(23)の前記周辺に位置し、前記画素列に平行であり、前記行アドレス指定ブロック(12)の一部は、前記画素行の第1の終端部に位置し、別の部分は、前記画素行の第2の終端部に位置し、前記2つの部分は、前記画像ゾーン(23)の前記画素行の各々のアドレス指定を可能にするために相補性である、請求項12または13に記載の撮像素子。
- 前記画像ゾーン(23)の前記周辺画素は、凸状六角形を実質的に形成し、その第1の辺は、前記画素行に平行であり、両方とも前記第1の辺に隣接する第2および第3の辺は、前記画素列に平行であり、前記第2および前記第3の辺にそれぞれ隣接する第4および第5の辺は、前記画素行および前記画素列に対して傾斜しており、前記第4および前記第5の辺に隣接する第6の辺は、前記画素行に平行である、請求項12〜15のいずれか一項に記載の撮像素子。
- 前記センサの各画素(24)は、前記撮像素子によって受信された放射線の関数として電荷を生成する感光要素(Dp(i,j))を含む、請求項12〜28のいずれか一項に記載の撮像素子。
- 前記センサ(21、61、91、111、191、211)と光学的に結合され、X線またはガンマ線放射線を前記感光要素(Dp(i,j))の感度が高い放射線に変換することを可能にするシンチレータをさらに含む、請求項29に記載の撮像素子。
- 各画素(24)の前記電荷捕集要素は、電荷を捕集するための電極を含む、請求項12〜28のいずれか一項に記載の撮像素子。
- 前記センサの前記画素(24)の電荷を捕集するために前記電極と電気的に結合された光伝導体をさらに含み、前記光伝導体は、電荷へのX線またはガンマ線放射線の変換を可能にする、請求項31に記載の撮像素子。
- 前記光伝導体は、例えば、テルル化カドミウム(CdTe)、テルル化物、カドミウムおよび亜鉛を含む化合物(CdxTeyZnz)、ヒ化ガリウム(AsGa)、ヨウ化水銀(HgI2)、酸化鉛(PbO)、ヨウ化鉛(PbI2)またはセレニウム(Se)で作られている、請求項32に記載の撮像素子。
- 各行アドレス指定ブロック(12)および各列読取ブロック(13)は、前記行伝導体(Xi、XRAZi)と前記列伝導体(Yj)を外部の回路にリンクすることができる接続パッド(121、131、921、922)を含み、前記接続パッドは、1つまたは複数の線状で各ブロック(12、13)に位置合わせされる、請求項12〜33のいずれか一項に記載の撮像素子。
- 各ブロック(12、13)の前記接続パッド(121、131、921、922)は、前記基板(22)の縁部と位置合わせされる、請求項34または15〜18のいずれか一項に記載の撮像素子。
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---|---|---|---|---|
US9759818B2 (en) * | 2014-09-05 | 2017-09-12 | General Electric Company | Digital flat panel detector with squircle shape |
US10825848B2 (en) * | 2015-09-11 | 2020-11-03 | Teledyne Digital Imaging, Inc | Image sensor and a method to manufacture thereof |
CN105470264A (zh) * | 2015-12-08 | 2016-04-06 | 上海中航光电子有限公司 | 一种阵列基板及显示面板 |
US10121817B2 (en) * | 2015-12-17 | 2018-11-06 | General Electric Company | Radiation detector for use as an image intensifier |
DE102016125331B4 (de) | 2016-02-05 | 2022-12-01 | General Electric Company | Zusammengepasster Flat-Panel-Röntgendetektor, zusammengepasstes Lichtbildgebungspanel und Verfahren zur Herstellung eines Lichtbildgebungspanels |
US11137504B2 (en) | 2016-02-05 | 2021-10-05 | General Electric Company | Tiled radiation detector |
FR3061300B1 (fr) | 2016-12-26 | 2020-06-12 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Procede d'observation d'un objet |
EP3355355B1 (en) * | 2017-01-27 | 2019-03-13 | Detection Technology Oy | Asymmetrically positioned guard ring contacts |
CN111400988B (zh) * | 2018-12-27 | 2023-08-22 | 北京忆芯科技有限公司 | 集成电路芯片的凸点(Bump)盘布局方法 |
FR3119708B1 (fr) * | 2021-02-11 | 2023-08-25 | Trixell | Détecteur numérique à étages de conversion superposés |
Citations (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH049846A (ja) * | 1989-12-20 | 1992-01-14 | Philips Gloeilampenfab:Nv | デバイスの製造方法およびこれに使用するマスク群 |
JPH04144168A (ja) * | 1990-10-04 | 1992-05-18 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像素子 |
JPH05315581A (ja) * | 1992-02-08 | 1993-11-26 | Philips Gloeilampenfab:Nv | 大領域能動マトリックス配列を製造する方法 |
JPH09293661A (ja) * | 1996-04-25 | 1997-11-11 | Toshiba Microelectron Corp | 半導体装置の製造方法及び露光マスク及び半導体装置 |
JP2000162320A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-06-16 | Toshiba Corp | 平面検出器及びこれを用いたx線診断装置 |
WO2000054336A1 (en) * | 1999-03-10 | 2000-09-14 | Photobit Corporation | Stitched circuits larger than the maximum reticle size in sub-micron process |
JP2002236054A (ja) * | 2001-02-07 | 2002-08-23 | Sharp Corp | 電磁波検出器 |
EP1255401A1 (de) * | 2001-05-05 | 2002-11-06 | Manfred Dr. Pfeiffer | Gerät zur Bilderfassung im Oralbereich, insbesondere zur zahnmedizinischen Diagnose |
JP2002344811A (ja) * | 2001-05-14 | 2002-11-29 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像素子 |
US6605488B1 (en) * | 1999-10-12 | 2003-08-12 | Micron Technology, Inc. | Layout technique for semiconductor processing using stitching |
JP2004251876A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-09-09 | Brion Technologies Inc | リソグラフィ工程を監視及び制御するシステム及び方法 |
JP2006519368A (ja) * | 2003-02-14 | 2006-08-24 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | X線検出器 |
WO2006112320A1 (ja) * | 2005-04-15 | 2006-10-26 | Hitachi Medical Corporation | X線平面検出器及びx線画像診断装置 |
JP2007508689A (ja) * | 2003-10-09 | 2007-04-05 | インテロン・エイエス | 画素検出器及びその製造方法並びに検出器アセンブリ |
US20080128698A1 (en) * | 2002-02-05 | 2008-06-05 | Peter Martin | Many million pixel image sensor |
JP2009500053A (ja) * | 2005-07-01 | 2009-01-08 | ウードゥヴェ セミコンダクターズ | コーナーカットを有する画像センサ |
US20090283683A1 (en) * | 2008-05-16 | 2009-11-19 | Dalsa Corporation | Semiconductor device with a CMOS image sensor, apparatus comprising such a semiconductor device and method of manufacturing such a device |
US20100002115A1 (en) * | 2008-07-03 | 2010-01-07 | Xinqiao Liu | Method for Fabricating Large Photo-Diode Arrays |
JP2010050702A (ja) * | 2008-08-21 | 2010-03-04 | Fujifilm Corp | 撮像装置 |
JP2011523524A (ja) * | 2008-04-30 | 2011-08-11 | ウードゥヴェ セミコンダクターズ | 面取りされた角部を備えると共に隣り合う画素行の間にマルチプレクサを有する画像センサ |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8803171D0 (en) * | 1988-02-11 | 1988-03-09 | English Electric Valve Co Ltd | Imaging apparatus |
WO2007014293A1 (en) * | 2005-07-25 | 2007-02-01 | The Regents Of The University Of California | Digital imaging system and method to produce mosaic images |
US7869559B2 (en) * | 2006-10-19 | 2011-01-11 | General Electric Company | X-ray detector methods and apparatus |
US8400539B2 (en) * | 2008-11-12 | 2013-03-19 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. | High density composite focal plane array |
KR20100078103A (ko) * | 2008-12-30 | 2010-07-08 | 주식회사 동부하이텍 | 이미지 센서 및 그 제조 방법 |
-
2012
- 2012-07-05 FR FR1256469A patent/FR2993097B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-07-05 JP JP2015519242A patent/JP6466326B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2013-07-05 WO PCT/EP2013/064320 patent/WO2014006214A1/fr active Application Filing
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Patent Citations (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH049846A (ja) * | 1989-12-20 | 1992-01-14 | Philips Gloeilampenfab:Nv | デバイスの製造方法およびこれに使用するマスク群 |
JPH04144168A (ja) * | 1990-10-04 | 1992-05-18 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像素子 |
JPH05315581A (ja) * | 1992-02-08 | 1993-11-26 | Philips Gloeilampenfab:Nv | 大領域能動マトリックス配列を製造する方法 |
JPH09293661A (ja) * | 1996-04-25 | 1997-11-11 | Toshiba Microelectron Corp | 半導体装置の製造方法及び露光マスク及び半導体装置 |
JP2000162320A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-06-16 | Toshiba Corp | 平面検出器及びこれを用いたx線診断装置 |
WO2000054336A1 (en) * | 1999-03-10 | 2000-09-14 | Photobit Corporation | Stitched circuits larger than the maximum reticle size in sub-micron process |
US6605488B1 (en) * | 1999-10-12 | 2003-08-12 | Micron Technology, Inc. | Layout technique for semiconductor processing using stitching |
JP2002236054A (ja) * | 2001-02-07 | 2002-08-23 | Sharp Corp | 電磁波検出器 |
EP1255401A1 (de) * | 2001-05-05 | 2002-11-06 | Manfred Dr. Pfeiffer | Gerät zur Bilderfassung im Oralbereich, insbesondere zur zahnmedizinischen Diagnose |
JP2002344811A (ja) * | 2001-05-14 | 2002-11-29 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像素子 |
US20080128698A1 (en) * | 2002-02-05 | 2008-06-05 | Peter Martin | Many million pixel image sensor |
JP2004251876A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-09-09 | Brion Technologies Inc | リソグラフィ工程を監視及び制御するシステム及び方法 |
JP2006519368A (ja) * | 2003-02-14 | 2006-08-24 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | X線検出器 |
JP2007508689A (ja) * | 2003-10-09 | 2007-04-05 | インテロン・エイエス | 画素検出器及びその製造方法並びに検出器アセンブリ |
WO2006112320A1 (ja) * | 2005-04-15 | 2006-10-26 | Hitachi Medical Corporation | X線平面検出器及びx線画像診断装置 |
JP2009500053A (ja) * | 2005-07-01 | 2009-01-08 | ウードゥヴェ セミコンダクターズ | コーナーカットを有する画像センサ |
JP2011523524A (ja) * | 2008-04-30 | 2011-08-11 | ウードゥヴェ セミコンダクターズ | 面取りされた角部を備えると共に隣り合う画素行の間にマルチプレクサを有する画像センサ |
US20090283683A1 (en) * | 2008-05-16 | 2009-11-19 | Dalsa Corporation | Semiconductor device with a CMOS image sensor, apparatus comprising such a semiconductor device and method of manufacturing such a device |
US20100002115A1 (en) * | 2008-07-03 | 2010-01-07 | Xinqiao Liu | Method for Fabricating Large Photo-Diode Arrays |
JP2010050702A (ja) * | 2008-08-21 | 2010-03-04 | Fujifilm Corp | 撮像装置 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
GREG KREIDER AND JAN T. BOSIERS: "An mK x nK Bouwblok CCD Image Sensor Family Part I: Design", IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, vol. 49, no. 3, JPN6018016475, 7 August 2002 (2002-08-07), US, pages 361 - 369, XP001102686, ISSN: 0003793445, DOI: 10.1109/16.987104 * |
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