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Claims (20)
- 可変内径を有する中空体を備えた超伝導高周波空洞内に電極を配置する工程と、
前記超伝導高周波空洞内で垂直に配向された前記電極に対して前記超伝導高周波空洞の前記中空体を垂直に向ける工程と、
硫酸水溶液を含み、フッ化水素酸を含むまず、１５ｃＰ未満の粘度を有する電解質溶液を前記超伝導高周波空洞に充填する工程と、
前記超伝導高周波空洞と前記電極との間に電流を通す工程とを備え、
前記電流は、複数のアノードパルスと複数のカソードパルスとからなり、
前記カソードパルスは、前記アノードパルスの少なくともいくつかの間に挿入されることを特徴とする超伝導高周波空洞を電解研磨する方法。 - 前記電解質溶液は、約４ｃＰ未満の粘度を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
- 前記電解質溶液は、約２００ｍＳ／ｃｍ超の導電率を有することを特徴とする請求項２に記載の方法。
- 前記電圧及び前記アノードパルスオン時間は、カソードパルスにより効果的に除去される厚さに不動態金属酸化物の形成を限定しつつ、超伝導高周波空洞を研磨するように調整されることを特徴とする請求項３に記載の方法。
- 前記カソードパルス電圧は、４Ｖ超であることを特徴とする請求項４に記載のシステム。
- 前記超伝導高周波空洞は、ニオブ及びニオブ合金、チタン及びチタン合金、ジルコニア及びジルコニア合金、ハフニウム及びハフニウム合金、タンタル及びタンタル合金、モリブデン及びモリブデン合金、タングステン及びタングステン合金、クロムコバルト合金からなる一群から選択された金属からなることを特徴とする請求項２に記載の方法。
- 前記超伝導高周波空洞は、ニオブ又はニオブ合金からなることを特徴とする請求項６に記載の方法。
- 前記電解質溶液は、電解質水溶液であることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
- 前記電解質は、少なくとも約１０％の水を含むことを特徴とする請求項８に記載の方法。
- 前記電解質は、約１重量％〜７０重量％の硫酸を含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
- 前記電解質は、約２０重量％〜４０重量％の硫酸を含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
- 前記前記電解質溶液は、フッ化物酸又塩を実質的に含まないことを特徴とする請求項１に記載の方法。
- 前記超伝導高周波空洞は、前記電流を通す工程の間、静止していることを特徴とする請求項１に記載の方法。
- 前記超伝導高周波空洞に前記電解質溶液を完全に充填する工程をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
- 前記中空体は底部及び頂部を有し、前記充填工程は、前記底部を通して前記中空体を充填し、前記頂部を通して前記電解質溶液を排出する工程をさらに備え、前記電解質溶液は、前記電流を通す工程の間、前記超伝導高周波空洞の前記中空体を通して流れることを特徴とする請求項１に記載の方法。
- 前記超伝導高周波空洞の前記中空体は、球根状のセルを備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
- 前記超伝導高周波空洞の前記中空体は、複数の球根状のセルを含む垂直なカラムを備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
- 前記超伝導高周波空洞の前記中空体は、第１端部、第２端部及び中央部を含み、前記中空体の最大内径は、前記中央部上に配置されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
- ニオブ又はニオブ合金を含み、可変内径を有する中空体を備えた超伝導高周波空洞内に電極を配置する工程と、
前記超伝導高周波空洞内で垂直に配向された前記電極に対して前記超伝導高周波空洞の前記中空体を垂直に向ける工程と、
硫酸水溶液を含み、フッ化水素酸を含むまず、１５ｃＰ未満の粘度を有する電解質溶液を前記超伝導高周波空洞に完全に充填する工程と、
前記超伝導高周波空洞と前記電極との間に電流を通す工程と、
前記電流を通す工程の間に前記超伝導高周波空洞を静止位置に保持する工程とを備え、
前記電流は、複数のアノードパルスと複数のカソードパルスとからなり、
前記カソードパルスは、前記アノードパルスの少なくともいくつかの間に挿入されることを特徴とする超伝導高周波空洞を電解研磨する方法。 - ニオブ又はニオブ合金を含み、球根状の中空体を備えた超伝導高周波空洞内に電極を配置する工程と、
前記超伝導高周波空洞内で垂直に配向された前記電極に対して前記超伝導高周波空洞の前記球根状の中空体を垂直に向ける工程と、
硫酸水溶液を含み、フッ化水素酸を含むまず、１５ｃＰ未満の粘度を有する電解質溶液を電解質供給タンクから前記超伝導高周波空洞に充填する工程と、
前記超伝導高周波空洞と前記電極との間に電流を通す工程と、
前記電流を通す工程の間に前記超伝導高周波空洞を静止位置に保持する工程と、
その底部を通して前記超伝導高周波空洞内に前記電解質溶液を誘導し、その頂部を通して前記超伝導高周波空洞から前記電解質溶液を排出することにより、前記電流を通す工程の間に電解質供給タンクからの前記電解質溶液の流れを調整する工程とを備え、
前記電流は、複数のアノードパルスと複数のカソードパルスとからなり、
前記カソードパルスは、前記アノードパルスの少なくともいくつかの間に挿入されることを特徴とする超伝導高周波空洞を電解研磨する方法。
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