JP2015525477A - 位置合わせ誤差を求めるための装置と方法 - Google Patents
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Abstract
Description
1.構造体6を備えた基板5を装置に載せる。
2.基板5を粗く位置決めする。
3.基板5を収容装置1に相対的に固定する。
4.第1の位置合わせマーク7及び/又はマーキング11,11’に基づき、収容装置1の並進運動及び/又は回転運動によって、基板5を精密に位置合わせする。
5.収容装置1の移動によって、全てのX−Y構造体ポジションをスキャン/巡回する。
6.光学系3を用いて、各X−Y構造体ポジションにおいて一つの画像、特にディジタル画像を記録する。
7.X−Y構造体ポジションからの、各構造体6のX−Yポジション、特に各構造体6の第2のマーキング11,11’の偏差を決定する。
8.特にX−Yポジション及び各構造体6のX−Y構造体ポジションを含む移動データを、特にポジションマップの形態で、出力及び/又は記憶する。
2 基板ホルダ
3 光学系
5 基板
5u 周縁部
5o 表面
6 構造体
6o 表面
6r 縁部
7 第1のマーキング
8 輪郭
9 ポジション十字
9x 線
9y 線
10 外縁
11,11’ 第2のマーキング
12 構造体ポジションマップ
13 検出領域
V1,V2 偏差ベクトル
R 回転軸
X X方向
Y Y方向
Z Z方向
Claims (11)
- 基板(5)上に設けられているか又は存在している構造体(6)の位置合わせ誤差を求めるための装置であって、
基板ホルダ(2)と、検出手段とを備えており、
前記基板ホルダ(2)は、前記構造体(6)を備えている前記基板(5)を収容し、
前記検出手段は、前記基板(5)又は前記検出手段の第1の座標系における移動によって、前記基板(5)上の第1のマーキング(7)及び/又は前記構造体(6)上の第2のマーキング(11,11’)のX−Yポジションを検出する、
位置合わせ誤差を求めるための装置において、
前記第1の座標系に依存しない第2の座標系には、前記構造体(6)に関するX’−Y’構造体ポジションが設定されており、前記第1のマーキング(7)及び/又は前記第2のマーキング(11,11’)の前記X−Yポジションからの、前記第2の座標系の各距離を前記装置によって求めることを特徴とする、位置合わせ誤差を求めるための装置。 - 前記検出手段は少なくとも一つの光学系(3)を有しており、特に前記第1の座標系の少なくともX方向及びY方向において、有利には制御装置による制御下で、特に前記第1の座標系の原点を設定するために移動可能であり、且つ、前記第1の座標系において前記検出のために固定可能である光学系(3)を有している、請求項1に記載の装置。
- 特にX方向及びY方向に対して垂直なZ方向における焦点合わせ及び/又は移動によって、前記光学系(3)は検出領域(13)を有しており、該検出領域(13)を用いて、その都度少なくとも1個の構造体(6)を同時に検出可能であり、有利には17個以下の構造体(6)を同時に検出可能であり、更に有利には5個以下の構造体(6)を同時に検出可能であり、理想的にはちょうど1個の構造体(6)を同時に検出可能である、請求項2に記載の装置。
- 前記第2の座標系はコンピュータにおいて規定された座標系であり、該座標系に関して、前記X’−Y’構造体ポジションを含む構造体ポジションフィールドが規定される、請求項1乃至3の少なくとも一項に記載の装置。
- 位置合わせ手段が、特に前記基板ホルダ(2)を収容し、且つ、前記第1のX−Y座標系の少なくともX方向及びY方向において移動可能である収容装置(1)の形態の位置合わせ手段が、前記基板ホルダ(2)上に固定された基板(5)を前記第2の座標系に対して位置合わせするために設けられており、特に、前記基板(5)上の前記第1のマーキング(7)及び/又は前記第2のマーキング(11,11’)を前記検出手段によって検出することによって位置合わせするために設けられている、請求項1乃至4の少なくとも一項に記載の装置。
- 複数の前記X−Yポジション及び/又は前記X’−Y’構造体ポジションが、一つのポジションマップに、特に前記第2の座標系に対応付けられているか、又は、該第2の座標系に相関付けられている一つのポジションマップに記憶され、特に一緒に記憶される、請求項1乃至5の少なくとも一項に記載の装置。
- 基板(5)上に設けられているか又は存在している構造体(6)の位置合わせ誤差を求めるための方法であって、
以下のステップを特に以下の順序で備えており、即ち、
前記基板(5)又は検出手段の第1の座標系における移動によって、前記検出手段が、前記基板(5)上の第1のマーキング(7)及び/又は前記構造体(6)上の第2のマーキング(11,11’)のX−Yポジションを検出するステップを備えている、
位置合わせ誤差を求めるための方法において、
前記第1の座標系に依存しない第2の座標系には、前記構造体(6)に関するX’−Y’構造体ポジションが設定されており、前記第1のマーキング(7)及び/又は前記第2のマーキング(11,11’)の前記X−Yポジションからの、前記第2の座標系の各距離を求めることを特徴とする、位置合わせ誤差を求めるための方法。 - その都度少なくとも1個の構造体(6)を同時に検出し、有利には17個以下の構造体(6)を同時に検出し、更に有利には5個以下の構造体(6)を同時に検出し、理想的にはちょうど1個の構造体(6)を同時に検出する、請求項7に記載の方法。
- 前記検出手段を、前記第1の座標系の原点を設定するために、前記第1のX−Y座標系に対応付けられている光学系収容部を用いて少なくともX方向及びY方向に移動させ、続いて前記第1の座標系において前記検出のために固定する、請求項7又は8に記載の方法。
- 位置合わせ手段によって、特に前記基板ホルダ(2)を収容し、且つ、前記第1のX−Y座標系の少なくともX方向及びY方向において移動可能である収容装置の形態の位置合わせ手段によって、基板ホルダ(2)上に固定された前記基板(5)を前記第2のX−Y座標系に対して位置合わせし、特に、前記基板(5)上の前記第1のマーキング(7)を前記検出手段によって検出することによって位置合わせする、請求項7乃至9の少なくとも一項に記載の方法。
- 複数の前記X−Yポジション及び/又は前記X−Y構造体ポジションを、一つのポジションマップに、特に前記第2の座標系に対応付けられているか、又は、該第2の座標系に相関付けられている一つのポジションマップに記憶し、特に一緒に記憶する、請求項7乃至10の少なくとも一項に記載の方法。
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