JP2015514598A - 研磨パッド及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
第二、ポリウレタンマトリックスの組成を変更しなくてはフォアサイズと密度を変えることがとても難しく、
第三、純粋ポリウレタンマトリックスの場合ダイヤモンドディスクでコンディショニング時に摩耗がよくできない問題点によってフォアグレイジング(pore glazing)のような現象(フォアが塞がる現象)が発生するという問題点がある。
5lの4口フラスコにポリテトラメチレングリコール(分子量1000)1600gを投入し、100〜130℃の温度でスチレン単量体400gと開始剤(AIBN)微量を徐徐に投入し、化学的な反応(重合)を誘導してポリテトラメチレングリコール内に均一な微細粒子生成及び分散されるようにする。均一な微細有機粒子が分散されたポリテトラメチレングリコールの粘度は1,700cPs(25℃)であった。
実験例1の均一な微細有機粒子が分散されたポリテドラメチレングリコール(分子量1000)120g、トルエンジイソシアネート52gを投入して70〜80℃の温度で4〜5時間反応させて最終製品のNCO含量を9.0%とした。
キャスティングマシーンを利用して実験例2のイソシアネート予備重合体とMOCA(ウレタン硬化剤の一種である)(混合割合10:3)の反応を誘導し、これと同時に混合物にガスの注入を実施する。ガスが注入された混合物は、80℃四角の鋳型に投入されて略30分間ゲル化させた後100℃オーブンで20時間の間に硬化させた。製造された硬化物を鋳型から取り出して表面を裁断して研磨パッド100の研磨層120を製造した。
110 支持層
120 研磨層
141、142 多孔性フォア
160 研磨層表面
Claims (9)
- 研磨層形成物質を混合させて化学的反応によって固相化させて研磨パッドを製造する方法において、
(a)有機物を物理的方法で粉碎して微細有機粒子で形成させる段階と、
(b)前記(a)段階で形成された微細有機粒子を前記研磨層形成物質に混合させる段階と、
(c)前記(b)段階の混合物にフォアサイズコントロールが可能な不活性気体、カプセル型発泡剤、化学的発泡剤のうちで少なくとも何れか一つを混合して、気相フォアを形成する段階と、
(d)前記(c)段階を通じて生成された混合物をゲル化及び硬化させて研磨層を製造する段階と、
(e)前記研磨層を加工して表面に気相フォアの開放による気孔らを分布させる段階と、を含むことを特徴とする研磨パッドの製造方法。 - 研磨層形成物質を混合させて化学的反応によって固相化させて研磨パッドを製造する方法において、
(a)前記研磨層形成物質に微細有機粒子生成用単量体を含ませて撹拌過程を経て前記単量体らの重合反応によって微細有機粒子を形成及び分散させる段階と、
(b)前記(b)段階の混合物にフォアサイズコントロールが可能な不活性気体、カプセル型発泡剤、化学的発泡剤のうちで少なくとも何れか一つを混合して、気相フォアを形成する段階と、
(c)前記(b)段階を通じて生成された混合物をゲル化及び硬化させて研磨層を製造する段階と、
(d)前記研磨層を加工して表面に気相フォアの開放による気孔らを分布させる段階と、を含むことを特徴とする研磨パッドの製造方法。 - 前記微細有機粒子は、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルクロライド樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ポリエステル樹脂、ゴム(Rubber)ABS(acrylonitrile butadiene styrene copolymer)、SAN(Styrene Acrylonitrile Copolymers)のうちで選択される少なくとも何れか一つで構成されることを特徴とする請求項1または2に記載の研磨パッドの製造方法。
- 前記不活性気体は、周期律表8族元素と、前記研磨層形成物質と反応しない気体のうちで選択されることを特徴とする請求項1または2に記載の研磨パッドの製造方法。
- 前記研磨層に液状微細要素が形成されるようにする液状物質を前記研磨層形成物質に含ませる段階をさらに含むことを特徴とする請求項1または2に記載の研磨パッドの製造方法。
- 被研磨対象の表面と接触して移動することで研磨工程を遂行する研磨パッドにおいて、
前記研磨パッドは研磨層を含んで構成されて、
前記研磨層は有機物の物理的粉砕による微細有機粒子と、単量体の化学的重合反応による微細有機粒子のうちで少なくとも何れか一つを含むと共に、不活性気体、カプセル型発泡剤、化学的発泡剤のうちで少なくとも何れか一つによる気相フォアを含んで構成されて、
前記研磨層の表面には前記気相フォアの開放による気孔らが分布することを特徴とする研磨パッド。 - 前記微細有機粒子は、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルクロライド樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ポリエステル樹脂、ゴム(Rubber)ABS(acrylonitrile butadiene styrene copolymer)、SAN(Styrene Acrylonitrile Copolymers)のうちで選択される少なくとも何れか一つで構成されることを特徴とする請求項6に記載の研磨パッド。
- 前記不活性気体は、周期律表8族元素と、前記研磨層形成物質と反応しない気体のうちで選択されることを特徴とする請求項6または7に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層は前記研磨層内の一定領域を占める液状微細要素らを含んで構成されることを特徴とする請求項6または7に記載の研磨パッド。
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