JP2015514081A - シロキサン系化合物、これを含む感光性組成物および感光材 - Google Patents
シロキサン系化合物、これを含む感光性組成物および感光材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015514081A JP2015514081A JP2015503102A JP2015503102A JP2015514081A JP 2015514081 A JP2015514081 A JP 2015514081A JP 2015503102 A JP2015503102 A JP 2015503102A JP 2015503102 A JP2015503102 A JP 2015503102A JP 2015514081 A JP2015514081 A JP 2015514081A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- photosensitive composition
- formula
- weight
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 68
- -1 Siloxane compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 88
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 31
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 12
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 11
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 4
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 claims description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- XFQDAAPROSJLSX-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(9h-fluoren-1-yl)phenoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OCCOC(=O)C=C)=CC=C1C1=CC=CC2=C1CC1=CC=CC=C21 XFQDAAPROSJLSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 2
- 150000007934 α,β-unsaturated carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 claims 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 45
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- KVKFRMCSXWQSNT-UHFFFAOYSA-N n,n'-dimethylethane-1,2-diamine Chemical compound CNCCNC KVKFRMCSXWQSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical class C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 235000019241 carbon black Nutrition 0.000 description 3
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 150000004775 coumarins Chemical class 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazine Chemical compound C1=CN=NC=N1 FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUDVPELGFZKOMD-UHFFFAOYSA-N 1,2-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(C(C)C)C(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 SUDVPELGFZKOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethoxypropane Chemical compound COCC(C)OC LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-thiadiazolidine-2,5-dithione Chemical compound S=C1NNC(=S)S1 BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSNILPMOSNGHLC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-methoxy-3-(piperidin-1-ylmethyl)phenyl]ethanone Chemical compound COC1=CC=C(C(C)=O)C=C1CN1CCCCC1 OSNILPMOSNGHLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-methoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOC CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRQOBNUBCLPPPH-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-4-phenylbenzene Chemical group C1=CC(CC)=CC=C1C1=CC=CC=C1 SRQOBNUBCLPPPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTZSKPAYFHSKOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dichlorophenyl)-2-[2-(2,3-dichlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=C(Cl)C=CC=2)Cl)=C1Cl YTZSKPAYFHSKOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-2-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDZGTNIUZZMDIA-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)-2-methylpropane-1,3-diol 2-sulfanylacetic acid Chemical compound OC(=O)CS.OC(=O)CS.OC(=O)CS.OCC(C)(CO)CO WDZGTNIUZZMDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEDUBNVYPMOFDR-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxypropan-1-ol Chemical compound CCOC(C)CO DEDUBNVYPMOFDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNSGORPKHQFSCW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one;2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1.CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 YNSGORPKHQFSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypropan-1-ol Chemical compound COC(C)CO YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBMHNOGBPBPWTN-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]phenyl]sulfanylpropanoic acid Chemical compound C1=CC(SCCC(=O)O)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 WBMHNOGBPBPWTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYORIVUCOQKMOC-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-7-methoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HYORIVUCOQKMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 3-mercaptopropionate Chemical compound [O-]C(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZLCFHIKESPLTH-UHFFFAOYSA-N 4-Methylbiphenyl Chemical group C1=CC(C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZZLCFHIKESPLTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACMIJDVJWLMBCX-PXAZEXFGSA-N 4-[(3ar,6ar)-2,3,3a,4,6,6a-hexahydro-1h-pyrrolo[2,3-c]pyrrol-5-yl]-6-fluoro-n-methyl-2-(2-methylpyrimidin-5-yl)oxy-9h-pyrimido[4,5-b]indol-8-amine Chemical compound CNC1=CC(F)=CC(C2=C(N3C[C@@H]4NCC[C@@H]4C3)N=3)=C1NC2=NC=3OC1=CN=C(C)N=C1 ACMIJDVJWLMBCX-PXAZEXFGSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGKQZIULZRXRRJ-UHFFFAOYSA-N Butylone Chemical compound CCC(NC)C(=O)C1=CC=C2OCOC2=C1 CGKQZIULZRXRRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHLJQDDVTGMYQK-UHFFFAOYSA-N CC(CCCC[PH2]=O)(C)C Chemical compound CC(CCCC[PH2]=O)(C)C IHLJQDDVTGMYQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIXDXJGRSNUKNG-UHFFFAOYSA-N CC=1C(N=C=O)=CC(N=C=O)=CC1.C(C=C)(=O)O Chemical compound CC=1C(N=C=O)=CC(N=C=O)=CC1.C(C=C)(=O)O GIXDXJGRSNUKNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CN(*)CC(COCCC[Si](OC)(OC)OC)O Chemical compound CN(*)CC(COCCC[Si](OC)(OC)OC)O 0.000 description 1
- WRAWYRVJFGRUIC-UHFFFAOYSA-N CN(C)CC(COCCC[Si](OC)(OC)OC)O Chemical compound CN(C)CC(COCCC[Si](OC)(OC)OC)O WRAWYRVJFGRUIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGOWIIEVDAYTC-UHFFFAOYSA-N ICR-170 Chemical compound Cl.Cl.C1=C(OC)C=C2C(NCCCN(CCCl)CC)=C(C=CC(Cl)=C3)C3=NC2=C1 PWGOWIIEVDAYTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJKRXEBLWJVYJD-UHFFFAOYSA-N N,N'-diethylethylenediamine Chemical compound CCNCCNCC CJKRXEBLWJVYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 101150113227 RED3 gene Proteins 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYTMHMLVADNTTO-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dichlorobenzoyl)-propylphosphoryl]-(2,6-dichlorophenyl)methanone Chemical compound ClC=1C=CC=C(Cl)C=1C(=O)P(=O)(CCC)C(=O)C1=C(Cl)C=CC=C1Cl VYTMHMLVADNTTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYIHVCKWWPHXMZ-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-sulfanylacetyl)oxy-2-[(2-sulfanylacetyl)oxymethyl]propyl] 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCC(CO)(COC(=O)CS)COC(=O)CS RYIHVCKWWPHXMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCCLJFJGIDIZKK-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2-(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CO)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS OCCLJFJGIDIZKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N [3-(2-sulfanylacetyl)oxy-2,2-bis[(2-sulfanylacetyl)oxymethyl]propyl] 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCC(COC(=O)CS)(COC(=O)CS)COC(=O)CS RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920005822 acrylic binder Polymers 0.000 description 1
- 150000003927 aminopyridines Chemical class 0.000 description 1
- NJVHCUNZAMFQNA-UHFFFAOYSA-N azane;n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical compound N.O=NN(O)C1=CC=CC=C1 NJVHCUNZAMFQNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N coumarin 6 Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUKZAGXMHTUAFE-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid methyl ester Natural products CCCCCC(=O)OC NUKZAGXMHTUAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000010187 litholrubine BK Nutrition 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- OAVPQXXPJZPXTA-UHFFFAOYSA-N n,n'-di(propan-2-yl)propane-1,3-diamine Chemical compound CC(C)NCCCNC(C)C OAVPQXXPJZPXTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEPGHZIEOVULBU-UHFFFAOYSA-N n,n'-diethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCNCCCNCC BEPGHZIEOVULBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQUPIHHYKUEXQD-UHFFFAOYSA-N n,n′-dimethyl-1,3-propanediamine Chemical compound CNCCCNC UQUPIHHYKUEXQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/10—Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0755—Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
- G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
- G03F7/202—Masking pattern being obtained by thermal means, e.g. laser ablation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
Description
その他、光を遮断する遮光膜の役割を果たす黒隔膜のブラックマトリックスを形成する時は、フォトレジストに黒色顔料、カーボンブラック、ペリレンブラック、二酸化チタンなどを分散させた溶液を使用することができる。
R1、R1’、R1’’、R2、R2’およびR2’’は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に炭素数1〜6のアルコキシ基であり、
R3およびR4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基であり、
R5、R6、R7およびR8は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に炭素数1〜6のアルキレン基であり、
Xは、−CRR’−で表され、RおよびR’は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に水素または炭素数1〜6のアルキル基であり、
nは、1〜10の整数である。
前記アルコキシ基は、アルキル基で置換された酸素ラジカルを指す。アルキル基としては、前記アルキル基を使用することができ、アルコキシ基は、直鎖または分枝鎖であり得る。具体例としては、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、n−ブトキシまたはペントキシなどがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
もう一つの実施態様によれば、前記化学式1において、R5、R6、R7およびR8は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に炭素数1〜6のアルキレン基である。具体的には、R5およびR6は、互いに同一または異なり、それぞれ独立にメチレン基またはエチレン基であり得る。具体的には、R7およびR8は、プロピレン基であり得る。
前記感光性組成物は、感光材において乾燥および/または硬化によって溶媒の少なくとも一部が除去された状態または光硬化された状態で存在する。
N,N’−ジメチルエチレンジアミン(Aldrich)10molと、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(Shinetsu KBM−403)20molを、それぞれプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈させた。N,N’−ジメチルエチレンジアミンが希釈された溶液を50℃に維持し、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(Shinetsu KBM−403)が希釈された溶液を徐々に添加して反応させた。得られた溶液をカラムにより分離した後、真空蒸留を利用して溶媒を除去し、化学式3で表される化合物を得た。
前記合成例1において3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(Shinetsu社KBM−403)の代わりに、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン(Shinetsu社KBE−403)を使用したことを除いては、同様の方法を用いて反応させることにより、化学式4で表される化合物を得た。
前記合成例1においてN,N’−ジメチルエチレンジアミン(Aldrich)の代わりに、N,N’−ジエチルエチレンジアミン(Aldrich)を使用したことを除いては、同様の方法を用いて反応させることにより、化学式5で表される化合物を得た。
前記合成例3において3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(Shinetsu社KBM−403)の代わりに、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン(Shinetsu社KBE−403)を使用したことを除いては、同様の方法を用いて反応させることにより、化学式6で表される化合物を得た。
前記合成例1においてN,N’−ジメチルエチレンジアミン(Aldrich)の代わりに、N,N’−ジメチル−1,3−プロパンジアミン(Aldrich)を使用したことを除いては、同様の方法を用いて反応させることにより、化学式7で表される化合物を得た。
前記合成例5において3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(Shinetsu社KBM−403)の代わりに、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン(Shinetsu社KBE−403)を使用したことを除いては、同様の方法を用いて反応させることにより、化学式8で表される化合物を得た。
前記合成例1においてN,N’−ジメチルエチレンジアミン(Aldrich)の代わりに、N,N’−ジエチル−1,3−プロパンジアミン(Aldrich)を使用したことを除いては、同様の方法を用いて反応させることにより、化学式9で表される化合物を得た。
前記合成例7において3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(Shinetsu社KBM−403)の代わりに、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン(Shinetsu社KBE−403)を使用したことを除いては、同様の方法を用いて反応させることにより、化学式10で表される化合物を得た。
前記合成例1においてN,N’−ジメチルエチレンジアミン(Aldrich)の代わりに、N,N’−ジイソプロピル−1,3−プロパンジアミン(Aldrich)を使用したことを除いては、同様の方法を用いて反応させることにより、化学式11で表される化合物を得た。
前記合成例9において3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(Shinetsu社KBM−403)の代わりに、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン(Shinetsu社KBE−403)を使用したことを除いては、同様の方法を用いて反応させることにより、化学式12で表される化合物を得た。
本出願の効果を確認するために、次のような感光性組成物を製造した。アルカリ可溶性樹脂からなるバインダーBzMA/MAA(モル比:70/30、Mw:24,000)16g、架橋性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの化合物8g、光重合開始剤としてCiba−Geigy社のIrgacure369(2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン)1g、合成例1で製造された化学式3の化合物を0.013g(固形分基準0.05重量%)、有機溶媒のPGMEAを入れて全体感光性組成物の含有量が100gとなるようにした後、シェーカーを用いて3時間混合させた溶液を、5マイクロメートルのフィルタで得て使用した。
前記実施例1において合成例1で製造された化学式3の化合物を0.013g(固形分基準0.05重量%)を使用する代わりに、0.253g(固形分基準1重量%)を使用したことを除いては、実施例1と同様に実施した。
前記実施例1において合成例1で製造された化学式3の化合物を0.013g(固形分基準0.05重量%)を使用する代わりに、1.316g(固形分全体基準5重量%)を使用したことを除いては、実施例1と同様に実施した。
前記実施例1において合成例1で製造された化学式3の化合物を0.013g(固形分基準0.05重量%)を使用する代わりに、2.778g(固形分全体基準10重量%)を使用したことを除いては、実施例1と同様に実施した。
前記実施例1〜4においてそれぞれ合成例1で製造された化学式3の化合物の代わりに、合成例2で製造された化学式4の化合物を使用したことを除いては、実施例1〜4と同様に実施した。
前記実施例1〜4においてそれぞれ合成例1で製造された化学式3の化合物の代わりに、合成例3で製造された化学式5の化合物を使用したことを除いては、実施例1〜4と同様に実施した。
前記実施例1〜4においてそれぞれ合成例1で製造された化学式3の化合物の代わりに、合成例4で製造された化学式6の化合物を使用したことを除いては、実施例1〜4と同様に実施した。
前記実施例1〜4においてそれぞれ合成例1で製造された化学式3の化合物の代わりに、合成例5で製造された化学式7の化合物を使用したことを除いては、実施例1〜4と同様に実施した。
前記実施例1〜4においてそれぞれ合成例1で製造された化学式3の化合物の代わりに、合成例6で製造された化学式8の化合物を使用したことを除いては、実施例1〜4と同様に実施した。
前記実施例1〜4においてそれぞれ合成例1で製造された化学式3の化合物の代わりに、合成例7で製造された化学式9の化合物を使用したことを除いては、実施例1〜4と同様に実施した。
前記実施例1〜4においてそれぞれ合成例1で製造された化学式3の化合物の代わりに、合成例8で製造された化学式10の化合物を使用したことを除いては、実施例1〜4と同様に実施した。
前記実施例1〜4においてそれぞれ合成例1で製造された化学式3の化合物の代わりに、合成例9で製造された化学式11の化合物を使用したことを除いては、実施例1〜4と同様に実施した。
前記実施例1〜4においてそれぞれ合成例1で製造された化学式3の化合物の代わりに、合成例10で製造された化学式12の化合物を使用したことを除いては、実施例1〜4と同様に実施した。
前記実施例1〜4においてそれぞれ合成例1で製造された化学式3の化合物の代わりに、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(Shinetsu社KBM−403)を使用したことを除いては、実施例1〜4と同様に実施した。
前記実施例1〜4においてそれぞれ合成例1で製造された化学式3の化合物の代わりに、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン(Shinetsu社KBE−403)を使用したことを除いては、実施例1〜4と同様に実施した。
前記実施例1において合成例1で製造された化学式3の化合物を使用しなかったことを除いては、実施例1と同様に実施した。
Claims (27)
- 前記化学式1のR5、R6、R7およびR8は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に炭素数1〜3のアルキレン基である請求項1に記載の化合物。
- 前記化学式1のR1、R1’、R1’’、R2、R2’およびR2’’は、互いに同一または異なり、それぞれ独立にメトキシ基またはエトキシ基である請求項1に記載の化合物。
- 前記化学式1のR3およびR4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基である請求項1に記載の化合物。
- 前記化学式1のRおよびR’は、水素である請求項1に記載の化合物。
- 前記化学式1のnは、1〜3の整数である請求項1に記載の化合物。
- a)請求項1に記載の化学式1で表される化合物、
b)2以上の不飽和アクリル結合を含む架橋性化合物、
c)アルカリ可溶性バインダー樹脂、
d)光重合開始剤、および
e)溶媒を含む感光性組成物。 - 前記化学式1のR5、R6、R7およびR8は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に炭素数1〜3のアルキレン基である請求項7に記載の感光性組成物。
- 前記化学式1のR1、R1’、R1’’、R2、R2’およびR2’’は、互いに同一または異なり、それぞれ独立にメトキシ基またはエトキシ基である請求項7に記載の感光性組成物。
- 前記化学式1のR3およびR4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基である請求項7に記載の感光性組成物。
- 前記化学式1のRおよびR’は、水素である請求項7に記載の感光性組成物。
- 前記化学式1のnは、1〜3の整数である請求項7に記載の感光性組成物。
- 前記a)化学式1で表される化合物は、前記e)溶媒を除いた固形分全体を基準として0.05重量%以上5重量%以下で含まれる請求項7に記載の感光性組成物。
- 前記b)2以上の不飽和アクリル結合を含む架橋性化合物は、多価アルコールをα,β−不飽和カルボン酸でエステル化して得られる化合物;グリシジル基を含む化合物に(メタ)アクリル酸を付加して得られる化合物;水酸基もしくはエチレン性不飽和結合を有する化合物と多価カルボン酸とのエステル化合物、または水酸基もしくはエチレン性不飽和結合を有する化合物のポリイソシアネート付加物;(メタ)アクリル酸アルキルエステル;および9,9’−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレンからなる群より選択される1つまたは2つ以上を含む請求項7に記載の感光性組成物。
- 前記感光性組成物は、追加的にシリカ分散体を含む請求項7に記載の感光性組成物。
- 前記c)アルカリ可溶性バインダー樹脂は、重量平均分子量が3,000〜150,000である請求項7に記載の感光性組成物。
- 前記c)アルカリ可溶性バインダー樹脂は、酸価が30〜300KOH mg/gである請求項7に記載の感光性組成物。
- 前記d)光重合開始剤は、トリアジン系化合物;ビイミダゾール化合物;アセトフェノン系化合物;O−アシルオキシム系化合物;ベンゾフェノン系化合物;チオキサントン系化合物;ホスフィンオキシド系化合物;およびクマリン系化合物からなる群より選択される1つまたは2つ以上である請求項7に記載の感光性組成物。
- 前記感光性組成物は、組成物全体100重量部を基準として、
a)化学式1で表される化合物を0.01〜1.5重量部、
b)2以上の不飽和アクリル結合を含む架橋性化合物を1〜30重量部、
c)アルカリ可溶性バインダー樹脂を1〜20重量部、
d)光重合開始剤を0.1〜5重量部、および
e)溶媒を45〜95重量部で含む請求項7に記載の感光性組成物。 - 前記感光性組成物は、着色剤、硬化促進剤、熱重合抑制剤、可塑剤、接着促進剤、充填剤、光増感剤および界面活性剤の中から選択された1つまたは2つ以上を追加的に含む請求項7に記載の感光性組成物。
- 前記着色剤は、組成物全体100重量部を基準として1〜20重量部で含まれる請求項20に記載の感光性組成物。
- 前記硬化促進剤、熱重合抑制剤、可塑剤、接着促進剤、充填剤、光増感剤または界面活性剤は、組成物全体100重量部を基準として0.01〜5重量部で含まれる請求項21に記載の感光性組成物。
- 開口部の幅が11マイクロメートル未満のフォトマスクを用いて前記感光性組成物を用いたパターンを形成する時、現像後にパターンが保存される請求項7に記載の感光性組成物。
- 請求項7〜23のいずれか1項に記載の感光性組成物を用いて形成されたパターン。
- 前記パターンは、開口部の幅が11マイクロメートル未満のフォトマスクを用いた場合、現像時に形状が保存される請求項24に記載のパターン。
- 請求項7〜23のいずれか1項に記載の感光性組成物を用いて製造された感光材。
- 前記感光材は、フォトアクリル感光材、顔料分散型感光材、ブラックマトリックス形成用感光材、オーバーコート層形成用感光材またはカラムスペーサ感光材である請求項26に記載の感光材。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2012-0032949 | 2012-03-30 | ||
KR20120032949 | 2012-03-30 | ||
KR1020130007949A KR101505720B1 (ko) | 2012-03-30 | 2013-01-24 | 실록산계 화합물, 이를 포함하는 감광성 조성물 및 감광재 |
KR10-2013-0007949 | 2013-01-24 | ||
PCT/KR2013/000600 WO2013147411A1 (ko) | 2012-03-30 | 2013-01-25 | 실록산계 화합물, 이를 포함하는 감광성 조성물 및 감광재 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015514081A true JP2015514081A (ja) | 2015-05-18 |
JP5860993B2 JP5860993B2 (ja) | 2016-02-16 |
Family
ID=49632871
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015503102A Active JP5860993B2 (ja) | 2012-03-30 | 2013-01-25 | シロキサン系化合物、これを含む感光性組成物および感光材 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8822112B2 (ja) |
JP (1) | JP5860993B2 (ja) |
KR (1) | KR101505720B1 (ja) |
CN (1) | CN104220446B (ja) |
TW (1) | TWI469989B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019003918A1 (ja) * | 2017-06-30 | 2019-01-03 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂組成物、樹脂膜及び電子装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106883453B (zh) * | 2017-03-20 | 2019-05-17 | 北京化工大学 | 具有化学隔离结构的改性白炭黑的制备方法 |
CN106883454B (zh) * | 2017-03-20 | 2019-05-17 | 北京化工大学 | 具有白炭黑化学隔离结构的橡胶/白炭黑母胶的制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53135621A (en) * | 1977-05-02 | 1978-11-27 | Hitachi Ltd | Photosensitive composition |
JP2008162952A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、それに用いる化合物および樹脂、およびそれを用いたパターン形成方法 |
CN101747361A (zh) * | 2008-12-04 | 2010-06-23 | 中国科学院化学研究所 | 一种桥联聚倍半硅氧烷及其单体与它们的制备方法 |
JP2011132231A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Lg Chem Ltd | 多官能アクリル化合物及びそれを含む感光性組成物 |
US20110212006A1 (en) * | 2009-09-25 | 2011-09-01 | Timothy La | Reducing aluminosilicate scale in the bayer process |
JP2013112686A (ja) * | 2011-11-25 | 2013-06-10 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | シリコーン粘着剤用縮合反応硬化型プライマー組成物 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5464900A (en) * | 1993-10-19 | 1995-11-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Water soluble organosiloxane compounds |
JP2003231734A (ja) | 2001-12-06 | 2003-08-19 | Nikko Materials Co Ltd | 有機カルボン酸塩組成物及びその製造方法並びにエポキシ樹脂用添加剤 |
US6867318B1 (en) | 2004-06-30 | 2005-03-15 | Nalco Company | Composition for coating of aluminum |
KR100705758B1 (ko) | 2005-04-19 | 2007-04-10 | 한국과학기술원 | 유기―무기 혼성물질을 이용한 플렉서블 필름 광도파로 및그 제조방법 |
EP1909142B1 (en) * | 2005-06-30 | 2015-06-24 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive resin composition and adhesion enhancer |
CN101322074B (zh) | 2005-12-06 | 2013-01-23 | 日产化学工业株式会社 | 用于形成光交联固化的抗蚀剂下层膜的含有硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物 |
KR101846835B1 (ko) | 2009-12-15 | 2018-04-09 | 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 | 포토레지스트 및 그 사용방법 |
JP2011245818A (ja) | 2010-05-31 | 2011-12-08 | Fujifilm Corp | レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版の製版方法、及び、レリーフ印刷版 |
-
2013
- 2013-01-24 KR KR1020130007949A patent/KR101505720B1/ko active IP Right Grant
- 2013-01-25 US US14/005,151 patent/US8822112B2/en active Active
- 2013-01-25 CN CN201380018114.2A patent/CN104220446B/zh active Active
- 2013-01-25 JP JP2015503102A patent/JP5860993B2/ja active Active
- 2013-01-28 TW TW102103080A patent/TWI469989B/zh active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53135621A (en) * | 1977-05-02 | 1978-11-27 | Hitachi Ltd | Photosensitive composition |
JP2008162952A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、それに用いる化合物および樹脂、およびそれを用いたパターン形成方法 |
CN101747361A (zh) * | 2008-12-04 | 2010-06-23 | 中国科学院化学研究所 | 一种桥联聚倍半硅氧烷及其单体与它们的制备方法 |
US20110212006A1 (en) * | 2009-09-25 | 2011-09-01 | Timothy La | Reducing aluminosilicate scale in the bayer process |
JP2011132231A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Lg Chem Ltd | 多官能アクリル化合物及びそれを含む感光性組成物 |
JP2013112686A (ja) * | 2011-11-25 | 2013-06-10 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | シリコーン粘着剤用縮合反応硬化型プライマー組成物 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019003918A1 (ja) * | 2017-06-30 | 2019-01-03 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂組成物、樹脂膜及び電子装置 |
JP6508446B1 (ja) * | 2017-06-30 | 2019-05-08 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂組成物、樹脂膜及び電子装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8822112B2 (en) | 2014-09-02 |
TWI469989B (zh) | 2015-01-21 |
CN104220446B (zh) | 2017-05-31 |
JP5860993B2 (ja) | 2016-02-16 |
KR20130111261A (ko) | 2013-10-10 |
US20140080043A1 (en) | 2014-03-20 |
KR101505720B1 (ko) | 2015-03-25 |
TW201339169A (zh) | 2013-10-01 |
CN104220446A (zh) | 2014-12-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8182979B2 (en) | Photopolymerization initiator containing unsaturated double bond and oxime ester group and photosensitive resin composition comprising the same | |
WO2013018978A1 (ko) | 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 | |
JP5815133B2 (ja) | フッ素系樹脂およびこれを含む感光性樹脂組成物 | |
JP5688159B2 (ja) | アクリレート系化合物を含む感光性組成物 | |
JP5420527B2 (ja) | 架橋性化合物及びそれを含む感光性組成物 | |
JP5835600B2 (ja) | 新規な化合物、これを含む感光性組成物および感光材 | |
JP5860993B2 (ja) | シロキサン系化合物、これを含む感光性組成物および感光材 | |
JP5872035B2 (ja) | 感光性組成物およびその感光性組成物に用いられる化合物 | |
KR20130091866A (ko) | 감광성 조성물 및 이를 이용하여 제조된 감광재 | |
US8742005B2 (en) | Acrylate-based compounds and photosensitive composition comprising the same | |
KR101601361B1 (ko) | 실록산계 화합물, 이를 포함하는 감광성 조성물 및 감광제 | |
KR101678722B1 (ko) | 피페리딘 유도체 및 그를 포함하는 감광성 수지 조성물 | |
US8835521B2 (en) | Photosensitive composition and compound for use in the photosensitive composition | |
KR101611657B1 (ko) | 고분자 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물 | |
KR101612586B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이로 제조된 감광재 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 | |
KR101682746B1 (ko) | 신규한 화합물, 감광재, 및 감광재를 이용하여 제조된 패턴 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150818 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151117 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151208 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151221 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5860993 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |