JP2015230838A - エキシマ光照射装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】エキシマランプに沿って流動した冷却風が被処理物に吹き付けられることがなく、従って、被処理物が加熱されて反りが生じることを抑制することのできるエキシマ光照射装置を提供することにある。【解決手段】エキシマ光照射装置は、ランプハウスに、当該ランプハウスの内部に冷却風を導入する冷却風供給部と、当該冷却風供給部から導入された冷却風を当該ランプハウスの内部から吸い出して排出する排気手段に接続された排気部とが設けられており、前記冷却風供給部から前記ランプハウスの内部に導入された冷却風が、前記エキシマランプの放電容器における一対の幅広面以外の周面に沿って当該放電容器の他方の幅広面に向かって流動し、当該他方の幅広面に沿って流動した後、前記被処理物から離間する方向に流動して前記排気部から排出されることを特徴とする。【選択図】図１
Description
本発明は、エキシマ光照射装置に関し、更に詳しくは、紫外線照射処理に使用されるエキシマ光照射装置に関する。
例えば、液晶表示パネルのガラス基板の紫外線照射による洗浄工程等においては、波長２００ｎｍ以下の真空紫外線を放射するエキシマランプを備えたエキシマ光照射装置が使用されている。
エキシマ光照射装置の或る種のものにおいては、図５に示すように、略直方体の箱型形状のランプハウス６１の内部に、断面扁平四角形状の放電容器２１を備えた矩形棒状のエキシマランプ２０が配置されている。このエキシマランプ２０は、放電容器２１における一方の幅広面２２Ａに形成された光出射面から、例えば波長１７２ｎｍの真空紫外線を放射するものである。また、ランプハウス６１の下方には、開放状態の光取出し用開口６２が形成されている。
このエキシマ光照射装置６０は、搬送路Ｌに沿ってワーク（被処理物）Ｗを搬送する搬送システムの上方に配置されている。すなわち、エキシマ光照射装置６０によれば、ワークＷが搬送システムによって光取出し用開口６２の直下位置に搬送されることにより、エキシマランプ２０からの光（真空紫外線）が、光取出し用開口６２を介してワークＷに照射される。
この図の例において、搬送路Ｌは、複数の搬送コロ１９が並列配置されることによって構成されている。
また、図５においては、搬送路Ｌ上におけるワークＷの搬送方向が一点鎖線矢印によって示されている。
このエキシマ光照射装置６０は、搬送路Ｌに沿ってワーク（被処理物）Ｗを搬送する搬送システムの上方に配置されている。すなわち、エキシマ光照射装置６０によれば、ワークＷが搬送システムによって光取出し用開口６２の直下位置に搬送されることにより、エキシマランプ２０からの光（真空紫外線）が、光取出し用開口６２を介してワークＷに照射される。
この図の例において、搬送路Ｌは、複数の搬送コロ１９が並列配置されることによって構成されている。
また、図５においては、搬送路Ｌ上におけるワークＷの搬送方向が一点鎖線矢印によって示されている。
そして、エキシマ光照射装置６０には、図５に示されているように、ランプハウス６１の内部に、例えば窒素ガスなどの不活性ガスを供給するためのガスブロー管６４，６４が設けられている。ガスブロー管６４，６４は、エキシマランプ２０に対して、噴出し口６５，６５から噴出された不活性ガスを吹き付けることができるよう、当該エキシマランプ２０の上方側に配置されている。また、ガスブロー管６４，６４は、ガス流路形成部材６７，６７を介して不活性ガスボンベ６９，６９に接続されている。
このエキシマ光照射装置６０においては、噴出し口６５，６５から噴出される不活性ガスよりなる冷却風によってエキシマランプ２０が冷却される。すなわち、噴出し口６５，６５から噴出された冷却風が、エキシマランプ２０における他方の幅広面２２Ｂに吹き付けられて当該エキシマランプ２０に沿って流動し、その過程においてエキシマランプ２０の熱を受熱する。
図５においては、不活性ガスの流動方向が実線矢印で示されている。
このエキシマ光照射装置６０においては、噴出し口６５，６５から噴出される不活性ガスよりなる冷却風によってエキシマランプ２０が冷却される。すなわち、噴出し口６５，６５から噴出された冷却風が、エキシマランプ２０における他方の幅広面２２Ｂに吹き付けられて当該エキシマランプ２０に沿って流動し、その過程においてエキシマランプ２０の熱を受熱する。
図５においては、不活性ガスの流動方向が実線矢印で示されている。
しかしながら、このようなエキシマ光照射装置６０においては、エキシマランプ２０の熱を受けて加熱された状態の冷却風が光取出し用開口６２を通過してワークＷに吹き付けられることから、ワークＷに不具合が生じる、という問題がある。
具体的に説明すると、ワークＷは、例えば液晶パネル用のガラス基板などであるが、液晶の薄型化、液晶の高精細化などの市場ニーズに伴い、ガラス基板自体の高品質化が要求されており、よって反りやクラック、スクラッチ等の不具合がないものが一層要求されている。然るに、ワークＷに対して、エキシマランプ２０の熱を受熱して加熱された状態の冷却風が吹き付けられることによれば、当該ワークＷが冷却風の熱によって加熱される。そのため、ワークＷは、エキシマランプ２０からの光が照射されることによって生じる熱と冷却風の熱とによって過熱されることとなり、それに起因して反りや熱膨張が生じて変形し、更にその変形に伴ってクラックが生じるおそれがある。
具体的に説明すると、ワークＷは、例えば液晶パネル用のガラス基板などであるが、液晶の薄型化、液晶の高精細化などの市場ニーズに伴い、ガラス基板自体の高品質化が要求されており、よって反りやクラック、スクラッチ等の不具合がないものが一層要求されている。然るに、ワークＷに対して、エキシマランプ２０の熱を受熱して加熱された状態の冷却風が吹き付けられることによれば、当該ワークＷが冷却風の熱によって加熱される。そのため、ワークＷは、エキシマランプ２０からの光が照射されることによって生じる熱と冷却風の熱とによって過熱されることとなり、それに起因して反りや熱膨張が生じて変形し、更にその変形に伴ってクラックが生じるおそれがある。
また、エキシマ光照射装置としては、ランプハウスの光取出し用開口に、例えばステンレス製の網状体からなる伝熱性スクリーンが配設されており、当該伝熱性スクリーンを冷却する冷却機構を備えた構成のものが開示されている（特許文献１参照。）。
しかしながら、このエキシマ光照射装置においては、エキシマランプに沿って流動することによって加熱された状態の冷却風が、伝熱スクリーンを通過する過程において十分に冷却されない場合がある。しかも、伝熱性スクリーンを通過した冷却風はワークに吹き付けられる。そのため、ワークが過熱されて変形が生じることを十分に抑制することができないおそれがある。
しかしながら、このエキシマ光照射装置においては、エキシマランプに沿って流動することによって加熱された状態の冷却風が、伝熱スクリーンを通過する過程において十分に冷却されない場合がある。しかも、伝熱性スクリーンを通過した冷却風はワークに吹き付けられる。そのため、ワークが過熱されて変形が生じることを十分に抑制することができないおそれがある。
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、エキシマランプに沿って流動した冷却風が被処理物に吹き付けられることがなく、従って、被処理物が加熱されて変形が生じることを抑制することのできるエキシマ光照射装置を提供することにある。
本発明のエキシマ光照射装置は、内部に希ガスが封入された断面扁平四角形状の放電容器を備え、当該放電容器における一対の幅広面のうちの一方の幅広面に光出射面が形成されてなるエキシマランプが、光取出し用開口を有するランプハウスの内部に配設されており、当該光取出し用開口に近接して被処理物が配置されるエキシマ光照射装置において、
前記ランプハウスには、当該ランプハウスの内部に冷却風を導入する冷却風供給部と、当該冷却風供給部から導入された冷却風を当該ランプハウスの内部から吸い出して排出する排気手段に接続された排気部とが設けられており、
前記冷却風供給部から前記ランプハウスの内部に導入された冷却風が、前記エキシマランプの放電容器における一対の幅広面以外の周面に沿って当該放電容器の他方の幅広面に向かって流動し、当該他方の幅広面に沿って流動した後、前記被処理物から離間する方向に流動して前記排気部から排出されることを特徴とする。
前記ランプハウスには、当該ランプハウスの内部に冷却風を導入する冷却風供給部と、当該冷却風供給部から導入された冷却風を当該ランプハウスの内部から吸い出して排出する排気手段に接続された排気部とが設けられており、
前記冷却風供給部から前記ランプハウスの内部に導入された冷却風が、前記エキシマランプの放電容器における一対の幅広面以外の周面に沿って当該放電容器の他方の幅広面に向かって流動し、当該他方の幅広面に沿って流動した後、前記被処理物から離間する方向に流動して前記排気部から排出されることを特徴とする。
本発明のエキシマ光照射装置においては、前記エキシマランプは、放電容器の一対の幅広面が水平方向に伸び、前記光出射面が下方側に位置するように配設されており、
前記排気部は、前記エキシマランプのレベル位置よりも上方のレベル位置に設けられていることが好ましい。
このような構成の本発明のエキシマ光照射装置においては、前記冷却風供給部と前記排気部とが前記ランプハウスの上方部に設けられており、
前記ランプハウスの内部には、前記冷却風供給部に連通する冷却風導入路が形成されており、当該冷却風導入路が、前記放電容器における一対の幅広面以外の周面に対向する冷却風供給口を有することが好ましい。
また、そのような本発明のエキシマ光照射装置においては、前記冷却風供給部から前記ランプハウスの内部に導入される冷却風が、外部から取り込まれたエキシマ光照射装置外部雰囲気のガスよりなることが好ましい。
前記排気部は、前記エキシマランプのレベル位置よりも上方のレベル位置に設けられていることが好ましい。
このような構成の本発明のエキシマ光照射装置においては、前記冷却風供給部と前記排気部とが前記ランプハウスの上方部に設けられており、
前記ランプハウスの内部には、前記冷却風供給部に連通する冷却風導入路が形成されており、当該冷却風導入路が、前記放電容器における一対の幅広面以外の周面に対向する冷却風供給口を有することが好ましい。
また、そのような本発明のエキシマ光照射装置においては、前記冷却風供給部から前記ランプハウスの内部に導入される冷却風が、外部から取り込まれたエキシマ光照射装置外部雰囲気のガスよりなることが好ましい。
本発明のエキシマ光照射装置においては、ランプハウスに冷却風供給部と共に排気部が設けられており、当該排気部には、冷却風供給部から導入された冷却風を当該ランプハウスの内部から吸い出して排出する排気手段が接続されている。そのため、ランプハウスの内部においては、排気手段によって気流を生じさせることにより、冷却風の流動方向を制御することができる。よって、冷却風供給部から導入された冷却風を、エキシマランプに沿って流動させた後、被処理物から離間する方向に流動させて排気部から排出することができる。
従って、エキシマ光照射装置によれば、ランプハウスの光取出し用開口が開放状態であって、被処理物が当該光取出し用開口に近接して配置されていても、エキシマランプに沿って流動した冷却風が被処理物に吹き付けられることがない。そのため、エキシマランプに沿って流動した冷却風が、エキシマランプの熱を受熱することによって加熱された状態とされても、被処理物が過熱されて変形することが抑制される。
従って、エキシマ光照射装置によれば、ランプハウスの光取出し用開口が開放状態であって、被処理物が当該光取出し用開口に近接して配置されていても、エキシマランプに沿って流動した冷却風が被処理物に吹き付けられることがない。そのため、エキシマランプに沿って流動した冷却風が、エキシマランプの熱を受熱することによって加熱された状態とされても、被処理物が過熱されて変形することが抑制される。
以下、本発明のエキシマ光照射装置の実施の形態について説明する。
図１は、本発明のエキシマ光照射装置の一実施形態を示す説明図であり、図２は、図１のエキシマ光照射装置を構成するエキシマランプを取り出して、ワークおよび搬送コロと共に示す説明用斜視図である。
エキシマ光照射装置１０は、下方に開放状態の光取出し用開口１２が形成された略直方体の箱型形状のランプハウス１１と、このランプハウス１１の内部に配置された、矩形棒状のエキシマランプ２０とを備えている。ランプハウス１１は、アルミニウムおよびその合金、ステンレスなどの金属よりなるものである。また、エキシマランプ２０は、光取出し用開口１２の近傍位置に、当該光取出し用開口１２に平行に配置されている。
このエキシマ光照射装置１０は、水平方向（図１において左右方向）に伸びる搬送路Ｌに沿ってワーク（被処理物）Ｗを搬送する搬送システムの上方に配置されている。すなわち、エキシマ光照射装置１０は、搬送システムによって搬送されるワークＷの一面（被処理面）Ｗａに対して、エキシマランプ２０からの光（真空紫外線）を、光取出し用開口１２を介して照射するように配設されている。
この図の例において、搬送システムの搬送路Ｌは、複数の搬送コロ１９が並列配置されることによって構成されている。
また、図１においては、搬送路Ｌ上におけるワークＷの搬送方向が一点鎖線矢印によって示されている。
図１は、本発明のエキシマ光照射装置の一実施形態を示す説明図であり、図２は、図１のエキシマ光照射装置を構成するエキシマランプを取り出して、ワークおよび搬送コロと共に示す説明用斜視図である。
エキシマ光照射装置１０は、下方に開放状態の光取出し用開口１２が形成された略直方体の箱型形状のランプハウス１１と、このランプハウス１１の内部に配置された、矩形棒状のエキシマランプ２０とを備えている。ランプハウス１１は、アルミニウムおよびその合金、ステンレスなどの金属よりなるものである。また、エキシマランプ２０は、光取出し用開口１２の近傍位置に、当該光取出し用開口１２に平行に配置されている。
このエキシマ光照射装置１０は、水平方向（図１において左右方向）に伸びる搬送路Ｌに沿ってワーク（被処理物）Ｗを搬送する搬送システムの上方に配置されている。すなわち、エキシマ光照射装置１０は、搬送システムによって搬送されるワークＷの一面（被処理面）Ｗａに対して、エキシマランプ２０からの光（真空紫外線）を、光取出し用開口１２を介して照射するように配設されている。
この図の例において、搬送システムの搬送路Ｌは、複数の搬送コロ１９が並列配置されることによって構成されている。
また、図１においては、搬送路Ｌ上におけるワークＷの搬送方向が一点鎖線矢印によって示されている。
エキシマランプ２０は、一対の電極間に高周波高電圧が印加されることにより、放電空間に誘電体を介在させた放電が生成され、放電ガスのエキシマ発光の波長に基づいた紫外線（真空紫外線）が放射されるものである。
このエキシマランプ２０は、図１および図２に示すように、断面扁平四角形状であって、一対の幅広面と、周面とを有し、略外観形状が直方体状の長尺な放電容器２１を備えたものである。ここに、放電容器２１の周面は、一対の幅狭面と一対の端面とにより構成されている。この放電容器２１の内部の放電空間には、例えばキセノンガスなどの希ガスが放電ガスとして封入されている。また、エキシマランプ２０においては、放電容器２１の一方の幅広面２２Ａに光出射面が形成されている。
放電容器２１において、一方の幅広面２２Ａおよび他方の幅広面２２Ｂには、各々、当該一方の幅広面２２Ａおよび他方の幅広面２２Ｂに沿って網状の外部電極２５Ａ，２５Ｂが設けられている。すなわち、外部電極２５Ａ，２５Ｂは、一方の幅広面２２Ａおよび他方の幅広面２２Ｂを構成する管壁（誘電体）および放電空間を介して互いに平行に伸びるように形成されている。外部電極２５Ａ，２５Ｂは、導電性ペーストおよび金属箔などによって構成されている。また、外部電極２５Ａ，２５Ｂは、高周波高圧電圧を供給する電源装置（図示省略）に接続されている。
そして、エキシマランプ２０は、一対の幅広面が水平方向（図１の紙面に垂直な方向）伸びると共に、光出射面（一方の幅広面２２Ａ）が下方に位置するように配置されている。
この図の例において、エキシマランプ２０の管軸は、水平方向であって、搬送路ＬによるワークＷの搬送方向に直交する方向に伸びている。
このエキシマランプ２０は、図１および図２に示すように、断面扁平四角形状であって、一対の幅広面と、周面とを有し、略外観形状が直方体状の長尺な放電容器２１を備えたものである。ここに、放電容器２１の周面は、一対の幅狭面と一対の端面とにより構成されている。この放電容器２１の内部の放電空間には、例えばキセノンガスなどの希ガスが放電ガスとして封入されている。また、エキシマランプ２０においては、放電容器２１の一方の幅広面２２Ａに光出射面が形成されている。
放電容器２１において、一方の幅広面２２Ａおよび他方の幅広面２２Ｂには、各々、当該一方の幅広面２２Ａおよび他方の幅広面２２Ｂに沿って網状の外部電極２５Ａ，２５Ｂが設けられている。すなわち、外部電極２５Ａ，２５Ｂは、一方の幅広面２２Ａおよび他方の幅広面２２Ｂを構成する管壁（誘電体）および放電空間を介して互いに平行に伸びるように形成されている。外部電極２５Ａ，２５Ｂは、導電性ペーストおよび金属箔などによって構成されている。また、外部電極２５Ａ，２５Ｂは、高周波高圧電圧を供給する電源装置（図示省略）に接続されている。
そして、エキシマランプ２０は、一対の幅広面が水平方向（図１の紙面に垂直な方向）伸びると共に、光出射面（一方の幅広面２２Ａ）が下方に位置するように配置されている。
この図の例において、エキシマランプ２０の管軸は、水平方向であって、搬送路ＬによるワークＷの搬送方向に直交する方向に伸びている。
また、エキシマ光照射装置１０には、冷却風によってエキシマランプ２０を冷却するエキシマランプ冷却機構が設けられている。
このエキシマランプ冷却機構は、ランプハウス１１の内部に冷却風を供給する冷却風供給手段３１と、この冷却風供給手段３１から供給された冷却風をランプハウス１１の内部から吸い出して排出する排気手段３３とを備えている。そして、冷却風供給手段３１は、ランプハウス１１に設けられた冷却風供給部１３に接続されている。この冷却風供給部１３は、ランプハウス１１を構成する側壁部１１Ｂに形成された貫通孔（以下、「供給用貫通孔」ともいう。）よりなり、ランプハウス１１の内部に冷却風を導入するためのものである。一方、排気手段３３は、ランプハウス１１に設けられた排気部１４に接続されている。この排気部１４は、ランプハウス１１を構成する上壁部１１Ａに形成された貫通孔（以下、「排気用貫通孔」ともいう。）よりなり、冷却風供給部１３からランプハウス１１の内部に導入された冷却風を、当該ランプハウス１１の外部に導出するためのものである。
すなわち、エキシマランプ冷却機構は、冷却風供給手段３１によって冷却風供給部１３からランプハウス１１の内部に冷却風を供給し、そのランプハウス１１の内部に供給された冷却風を、排気手段３３によって排気部１４からランプハウス１１の外部に排出するものである。
このエキシマランプ冷却機構は、ランプハウス１１の内部に冷却風を供給する冷却風供給手段３１と、この冷却風供給手段３１から供給された冷却風をランプハウス１１の内部から吸い出して排出する排気手段３３とを備えている。そして、冷却風供給手段３１は、ランプハウス１１に設けられた冷却風供給部１３に接続されている。この冷却風供給部１３は、ランプハウス１１を構成する側壁部１１Ｂに形成された貫通孔（以下、「供給用貫通孔」ともいう。）よりなり、ランプハウス１１の内部に冷却風を導入するためのものである。一方、排気手段３３は、ランプハウス１１に設けられた排気部１４に接続されている。この排気部１４は、ランプハウス１１を構成する上壁部１１Ａに形成された貫通孔（以下、「排気用貫通孔」ともいう。）よりなり、冷却風供給部１３からランプハウス１１の内部に導入された冷却風を、当該ランプハウス１１の外部に導出するためのものである。
すなわち、エキシマランプ冷却機構は、冷却風供給手段３１によって冷却風供給部１３からランプハウス１１の内部に冷却風を供給し、そのランプハウス１１の内部に供給された冷却風を、排気手段３３によって排気部１４からランプハウス１１の外部に排出するものである。
このエキシマランプ冷却機構において、冷却風を構成するガスとしては、例えば窒素ガスなどの不活性ガス、およびエキシマ光照射装置外部雰囲気のガス（以下、「外部雰囲気ガス」ともいう。）などが用いられるが、ランニングコストの観点から、外部雰囲気ガスが好ましい。
ここに、本明細書中において、「エキシマ光照射装置外部雰囲気のガス（外部雰囲気ガス）」とは、環境雰囲気の空気（エキシマ光照射装置１０の外部雰囲気中の空気）であって、浮遊微粒子の個数が制限された空気、具体的には、ＩＳＯ基準の空気清浄度がクラス５以上である空気を示す。
具体的に説明すると、本発明のエキシマ光照射装置は、被処理物（ワーク）の性質上、半導体を中心とする電子工業、および精密機械工業などの分野において工業品の製造工程で要求されているクリーン環境下、すなわち工業用クリーンルームにおいて使用される。そして、工業用クリーンルームに必要とされる空気清浄度がＩＳＯ基準においてクラス５以上である。そのため、外部雰囲気ガスは、ＩＳＯ基準の空気清浄度がクラス５以上である空気を示すものとなる。
この図の例において、冷却風を構成するガスとしては、外部雰囲気ガスが用いられている。
ここに、本明細書中において、「エキシマ光照射装置外部雰囲気のガス（外部雰囲気ガス）」とは、環境雰囲気の空気（エキシマ光照射装置１０の外部雰囲気中の空気）であって、浮遊微粒子の個数が制限された空気、具体的には、ＩＳＯ基準の空気清浄度がクラス５以上である空気を示す。
具体的に説明すると、本発明のエキシマ光照射装置は、被処理物（ワーク）の性質上、半導体を中心とする電子工業、および精密機械工業などの分野において工業品の製造工程で要求されているクリーン環境下、すなわち工業用クリーンルームにおいて使用される。そして、工業用クリーンルームに必要とされる空気清浄度がＩＳＯ基準においてクラス５以上である。そのため、外部雰囲気ガスは、ＩＳＯ基準の空気清浄度がクラス５以上である空気を示すものとなる。
この図の例において、冷却風を構成するガスとしては、外部雰囲気ガスが用いられている。
ここに、外部雰囲気ガスは、特に冷却風が外部雰囲気ガスよりなる場合において、湿度が高いものであることが好ましい。
具体的には、温度２５℃における湿度（相対湿度）が２０％ＲＨ以上であることが好ましく、更に好ましくは４０％ＲＨ以上であり、特に好ましくは５０％ＲＨ以上である。
外部雰囲気ガスが湿度の高いものとされることにより、エキシマ光照射装置１０を紫外線照射によるワークＷの洗浄処理に用いる場合において、高い洗浄効果を得ることができる。
具体的には、温度２５℃における湿度（相対湿度）が２０％ＲＨ以上であることが好ましく、更に好ましくは４０％ＲＨ以上であり、特に好ましくは５０％ＲＨ以上である。
外部雰囲気ガスが湿度の高いものとされることにより、エキシマ光照射装置１０を紫外線照射によるワークＷの洗浄処理に用いる場合において、高い洗浄効果を得ることができる。
冷却風供給手段３１としては、冷却風を構成するガスの種類などに応じて適宜のものが用いられる。
具体的には、冷却風が外部雰囲気ガスよりなる場合には、エキシマ光照射装置１０の外部から外部雰囲気ガスを取り込むことによって、ランプハウス１１の内部に供給するための冷却風を生じさせることのできるものが用いられる。
また、冷却風が不活性ガスよりなる場合には、例えば不活性ガスボンベが用いられる。
この図の例において、冷却風供給手段３１は、吸引ファン３１Ａとエアフィルタ３１Ｂとにより構成されおり、吸引ファン３１Ａが外部雰囲気ガスを吸引することによって生じた冷却風を、エアフィルタ３１Ｂを介してランプハウス１１の内部に供給するものである。
なお、冷却風が不活性ガスよりなる場合においては、冷却風供給手段３１は不活性ガスボンベにより構成され、エアフィルタは必要とされない。
具体的には、冷却風が外部雰囲気ガスよりなる場合には、エキシマ光照射装置１０の外部から外部雰囲気ガスを取り込むことによって、ランプハウス１１の内部に供給するための冷却風を生じさせることのできるものが用いられる。
また、冷却風が不活性ガスよりなる場合には、例えば不活性ガスボンベが用いられる。
この図の例において、冷却風供給手段３１は、吸引ファン３１Ａとエアフィルタ３１Ｂとにより構成されおり、吸引ファン３１Ａが外部雰囲気ガスを吸引することによって生じた冷却風を、エアフィルタ３１Ｂを介してランプハウス１１の内部に供給するものである。
なお、冷却風が不活性ガスよりなる場合においては、冷却風供給手段３１は不活性ガスボンベにより構成され、エアフィルタは必要とされない。
排気手段３３は、ランプハウス１１の内部に供給された冷却風を、当該ランプハウス１１の内部から吸い出して排出することのできるものである。すなわち、排気手段３３は、ランプハウス１１の内部において、排気部１４に向かう方向に気流を生じさせることができるものである。
この図の例において、排気手段３３は、排気ファン３３Ａと排気ダクト３３Ｂとにより構成されており、排気ファン３３Ａによってランプハウス１１の内部から吸い出した冷却風を、排気ダクト３４に排出するものである。
この図の例において、排気手段３３は、排気ファン３３Ａと排気ダクト３３Ｂとにより構成されており、排気ファン３３Ａによってランプハウス１１の内部から吸い出した冷却風を、排気ダクト３４に排出するものである。
冷却風供給部１３と排気部１４とは、ランプハウス１１の内部における冷却風供給部１３と排気部１４との間に、エキシマランプ２０が位置するよう、水平方向（図１においては左右方向）に互いに離間した状態で配設されている。
具体的に説明すると、冷却風供給部１３を構成する供給用貫通孔は、ランプハウス１１の側壁部１１Ｂの略中央部に形成されている。また、供給用貫通孔は、側壁部１１Ｂの内面に、エキシマランプ２０に沿って伸びる開口を有するものである。この開口は、エキシマランプ２０における、一方の幅狭面２３Ａの上側部分および他方の幅広面２２Ｂの上方空間を臨むように位置されている。
一方、排気部１４を構成する排気用貫通孔は、上壁部１１Ａにおいて、側壁部１１Ｃとの稜に係る縁部に形成されている。また、排気用貫通孔は、上壁部１１Ａの内面に、エキシマランプ２０に沿って伸びる開口を有するものである。この開口は、側壁部１１Ｃに沿って位置されている。
この図の例において、側壁部１１Ｂの内面に形成された供給用貫通孔の開口は、エキシマランプ２０の全長と同様の長さを有する横長よりなるものである。また、上壁部１１Ａの内面に形成された排気用貫通孔の開口は、複数の長穴よりなるものであり、これらの複数の長穴は、当該内面におけるエキシマランプ２０と対向する領域に一定間隔で配置されている。
具体的に説明すると、冷却風供給部１３を構成する供給用貫通孔は、ランプハウス１１の側壁部１１Ｂの略中央部に形成されている。また、供給用貫通孔は、側壁部１１Ｂの内面に、エキシマランプ２０に沿って伸びる開口を有するものである。この開口は、エキシマランプ２０における、一方の幅狭面２３Ａの上側部分および他方の幅広面２２Ｂの上方空間を臨むように位置されている。
一方、排気部１４を構成する排気用貫通孔は、上壁部１１Ａにおいて、側壁部１１Ｃとの稜に係る縁部に形成されている。また、排気用貫通孔は、上壁部１１Ａの内面に、エキシマランプ２０に沿って伸びる開口を有するものである。この開口は、側壁部１１Ｃに沿って位置されている。
この図の例において、側壁部１１Ｂの内面に形成された供給用貫通孔の開口は、エキシマランプ２０の全長と同様の長さを有する横長よりなるものである。また、上壁部１１Ａの内面に形成された排気用貫通孔の開口は、複数の長穴よりなるものであり、これらの複数の長穴は、当該内面におけるエキシマランプ２０と対向する領域に一定間隔で配置されている。
そして、ランプハウス１１の内部においては、冷却風供給部１３から導入された冷却風がエキシマランプ２０に沿って流動し、そのエキシマランプ２０に沿って流動した冷却風が、ワークＷから離間する方向に流動して排気部１４から排出されるよう、冷却風の流動方向が制御されている。
ここに、ランプハウス１１の内部における冷却風の流動方向は、例えば、冷却風供給部１３と排気部１４との配設位置、冷却風の供給排出条件およびランプハウス１１の内部構造などによって定められる。
この図の例において、ランプハウス１１の内部に供給された冷却風は、先ず、冷却風供給部１３からエキシマランプ２０に向かって流動し、その大部分が一方の幅狭面２３Ａに吹き付けられる。一方の幅狭面２３Ａに吹き付けられた冷却風は、その大部分が当該一方の幅狭面２３Ａに沿って他方の幅広面２２Ｂに向かって流動した後、当該他方の幅広面２２Ｂに沿って流動する。そして、他方の幅広面２２Ｂに沿って流動した冷却風は、ワークＷから離間する方向、すなわちエキシマランプ２０の光出射面（一方の幅広面２２Ａ）から離間する方向（図１においては上方に向かう方向）に流動して排気部１４に至り、当該排気部１４からランプハウス１１の外部に排出される。
図１および図２においては、ガスの流動方向が実線矢印で示されている。なお、図１においては、エキシマ光照射装置１０の外部において、冷却風供給手段３１に向かう方向（右方向）に伸びる実線矢印は、冷却風供給手段３１に向かって流動する外部雰囲気ガスの流動方向を示し、ランプハウス１１の内部の実線矢印は、ランプハウス１１の内部を流動する冷却風を構成する外部雰囲気ガスの流動方向を示す。また、排気手段３３においてエキシマ光照射装置１０の外部に向かう方向（上方向）に伸びる実線矢印は、排気部１４から排出されたガスの流動方向を示す。
ここに、ランプハウス１１の内部における冷却風の流動方向は、例えば、冷却風供給部１３と排気部１４との配設位置、冷却風の供給排出条件およびランプハウス１１の内部構造などによって定められる。
この図の例において、ランプハウス１１の内部に供給された冷却風は、先ず、冷却風供給部１３からエキシマランプ２０に向かって流動し、その大部分が一方の幅狭面２３Ａに吹き付けられる。一方の幅狭面２３Ａに吹き付けられた冷却風は、その大部分が当該一方の幅狭面２３Ａに沿って他方の幅広面２２Ｂに向かって流動した後、当該他方の幅広面２２Ｂに沿って流動する。そして、他方の幅広面２２Ｂに沿って流動した冷却風は、ワークＷから離間する方向、すなわちエキシマランプ２０の光出射面（一方の幅広面２２Ａ）から離間する方向（図１においては上方に向かう方向）に流動して排気部１４に至り、当該排気部１４からランプハウス１１の外部に排出される。
図１および図２においては、ガスの流動方向が実線矢印で示されている。なお、図１においては、エキシマ光照射装置１０の外部において、冷却風供給手段３１に向かう方向（右方向）に伸びる実線矢印は、冷却風供給手段３１に向かって流動する外部雰囲気ガスの流動方向を示し、ランプハウス１１の内部の実線矢印は、ランプハウス１１の内部を流動する冷却風を構成する外部雰囲気ガスの流動方向を示す。また、排気手段３３においてエキシマ光照射装置１０の外部に向かう方向（上方向）に伸びる実線矢印は、排気部１４から排出されたガスの流動方向を示す。
排気部１４は、図１に示されているように、エキシマランプ２０のレベル位置よりも上方のレベル位置に設けられていることが好ましい。
排気部１４がエキシマランプ２０のレベル位置よりも上方のレベル位置に設けられることにより、ランプハウス１１の内部において排気手段３３の作用によって生じる気流を、上方に向かうものとすることができる。そのため、ランプハウス１１の内部において、冷却風を所期の方向に流動させることができる。具体的には、冷却風が、エキシマランプ２０における周面（具体的には、一方の幅狭面２３Ａ）および他方の幅広面２３Ｂをこの順に沿って流動する蓋然性が高くなる。また、エキシマランプ２０に沿って流動した冷却風がワークＷに向かう方向、すなわち光取出し用開口１２に向かう方向に流動することを効果的に抑制することができる。
排気部１４がエキシマランプ２０のレベル位置よりも上方のレベル位置に設けられることにより、ランプハウス１１の内部において排気手段３３の作用によって生じる気流を、上方に向かうものとすることができる。そのため、ランプハウス１１の内部において、冷却風を所期の方向に流動させることができる。具体的には、冷却風が、エキシマランプ２０における周面（具体的には、一方の幅狭面２３Ａ）および他方の幅広面２３Ｂをこの順に沿って流動する蓋然性が高くなる。また、エキシマランプ２０に沿って流動した冷却風がワークＷに向かう方向、すなわち光取出し用開口１２に向かう方向に流動することを効果的に抑制することができる。
また、冷却風供給部１３は、図１に示されているように、ランプハウス１１の内部に冷却風の流動方向を制御するための部材（具体的には、例えば図４のエキシマ光照射装置５０における仕切板５１，５１など）が配置されていない場合には、エキシマランプ２０のレベル位置と略同等のレベル位置に設けられていることが好ましい。
冷却風供給部１３がエキシマランプ２０のレベル位置と略同等のレベル位置に設けられることにより、冷却風供給部１３から導入された冷却風が、エキシマランプ２０における周面（具体的には、一方の幅狭面２３Ａ）に向かって流動し、当該周面と他方の幅広面２２Ｂとをこの順に沿って流動するように効果的に制御することができる。
冷却風供給部１３がエキシマランプ２０のレベル位置と略同等のレベル位置に設けられることにより、冷却風供給部１３から導入された冷却風が、エキシマランプ２０における周面（具体的には、一方の幅狭面２３Ａ）に向かって流動し、当該周面と他方の幅広面２２Ｂとをこの順に沿って流動するように効果的に制御することができる。
冷却風の供給排出条件は、エキシマランプ２０の点灯条件および冷却風を構成するガスの種類などに応じ、冷却風供給部１３と排気部１４との配設位置、ランプハウス１１の内部構造および光取出し用開口１２とワークＷとの離間距離Ｄなどを考慮して適宜に定められる。
エキシマ光照射装置１０において、ワークＷは、光取出し用開口１２に近接して配置される。
具体的には、光取出し用開口１２とワークＷとの離間距離Ｄは、エキシマランプ２０の光出射面とワークＷとの離間距離を考慮して適宜に定められる。この光出射面とワークＷとの離間距離が短いほど、ワークＷに対して、エキシマランプ２０からの光（真空紫外線）を有効に照射することができる。
ここに、冷却風が酸素ガスを含むガスよりなる場合（例えば冷却風が外部雰囲気ガスよりなる場合）において、エキシマランプ２０の光出射面とワークＷとの離間距離は、８ｍｍ以下とされ、好ましくは６ｍｍ以下であり、更に好ましくは４ｍｍ以下である。
光出射面とワークＷとの離間距離が８ｍｍ以下とされることにより、エキシマランプ２０からの光がワークＷに至るまでの過程において、当該光に含まれる真空紫外線が酸素ガスによって吸収されることに起因して、ワークＷに照射される紫外線量が低下することを抑制できる。
また、冷却風が不活性ガス（例えば窒素ガス）よりなる場合においては、冷却風が酸素ガスを含むガスよりなる場合に比して、光出射面とワークＷとの離間距離を長くすることができる。すなわち、冷却風として酸素ガスを含むガスを用いる場合において、冷却風として不活性ガスを用いる場合と同等の有効照射量を得るためには、光出射面とワークＷとの離間距離をより短くする必要がある。
具体的には、光取出し用開口１２とワークＷとの離間距離Ｄは、エキシマランプ２０の光出射面とワークＷとの離間距離を考慮して適宜に定められる。この光出射面とワークＷとの離間距離が短いほど、ワークＷに対して、エキシマランプ２０からの光（真空紫外線）を有効に照射することができる。
ここに、冷却風が酸素ガスを含むガスよりなる場合（例えば冷却風が外部雰囲気ガスよりなる場合）において、エキシマランプ２０の光出射面とワークＷとの離間距離は、８ｍｍ以下とされ、好ましくは６ｍｍ以下であり、更に好ましくは４ｍｍ以下である。
光出射面とワークＷとの離間距離が８ｍｍ以下とされることにより、エキシマランプ２０からの光がワークＷに至るまでの過程において、当該光に含まれる真空紫外線が酸素ガスによって吸収されることに起因して、ワークＷに照射される紫外線量が低下することを抑制できる。
また、冷却風が不活性ガス（例えば窒素ガス）よりなる場合においては、冷却風が酸素ガスを含むガスよりなる場合に比して、光出射面とワークＷとの離間距離を長くすることができる。すなわち、冷却風として酸素ガスを含むガスを用いる場合において、冷却風として不活性ガスを用いる場合と同等の有効照射量を得るためには、光出射面とワークＷとの離間距離をより短くする必要がある。
このエキシマ光照射装置１０においては、搬送システムによって搬送路Ｌにおける直下位置に搬送されたワークＷの一面Ｗａに対して、エキシマランプ２０からの光を、光取出し用開口１２を介して照射することにより、ワークＷの表面処理が行われる。
而して、エキシマ光照射装置１０においては、エキシマランプ冷却機構によってランプハウス１１の内部に冷却風が供給され、その冷却風のランプハウス１１の内部における流動方向が制御されている。そのため、冷却風供給部１３から導入された冷却風は、エキシマランプ２０の一対の幅広面以外の周面、具体的には幅広面以外の周面（一方の幅狭面２３Ａおよび他方の幅狭面２３Ｂ）のうちの一方の幅狭面２３Ａに吹き付けられ、当該一方の幅狭面２３Ａと他方の幅広面２２Ｂとをこの順に沿って流動する。その結果、エキシマランプ２０の熱が冷却風に効率的に伝導される。
しかも、エキシマランプ２０に沿って流動することによって、エキシマランプ２０の熱を受熱して加熱された状態の冷却風は、ワークＷから離間する方向に流動して排気部１４に至り、当該排気部１４からランプハウス１１の外部に排出される。
従って、エキシマ光照射装置１０によれば、冷却風は、エキシマランプ２０の一対の幅広面以外の周面（具体的には、一方の幅狭面２３Ａ）から放電容器２１の他方の幅広面２２Ｂに向かって流動し、当該他方の幅広面２２Ｂに沿って流動した後、ワークＷから離間する方向に流動して排出される。そのため、冷却風によってエキシマランプ２０を効率的に冷却することができる。しかも、光取出し用開口１２が開放状態であって、ワークＷがエキシマランプ２０の光出射面に近接して配置されていても、エキシマランプ２０に沿って流動した冷却風がワークＷに吹き付けられることがない。そのため、ワークＷが過熱されて反りや熱膨張などに起因して変形することが抑制される。
しかも、エキシマランプ２０に沿って流動することによって、エキシマランプ２０の熱を受熱して加熱された状態の冷却風は、ワークＷから離間する方向に流動して排気部１４に至り、当該排気部１４からランプハウス１１の外部に排出される。
従って、エキシマ光照射装置１０によれば、冷却風は、エキシマランプ２０の一対の幅広面以外の周面（具体的には、一方の幅狭面２３Ａ）から放電容器２１の他方の幅広面２２Ｂに向かって流動し、当該他方の幅広面２２Ｂに沿って流動した後、ワークＷから離間する方向に流動して排出される。そのため、冷却風によってエキシマランプ２０を効率的に冷却することができる。しかも、光取出し用開口１２が開放状態であって、ワークＷがエキシマランプ２０の光出射面に近接して配置されていても、エキシマランプ２０に沿って流動した冷却風がワークＷに吹き付けられることがない。そのため、ワークＷが過熱されて反りや熱膨張などに起因して変形することが抑制される。
また、エキシマ光照射装置１０においては、排気部１４が、エキシマランプ２０のレベル位置よりも上方のレベル位置に設けられていることから、ランプハウス１１の内部において、冷却風がワークＷに向かう方向に流動することを効果的に抑制することができる。
また、エキシマ光照射装置１０においては、ランプハウス１１の内部に供給される冷却風が、外部雰囲気ガスよりなるものであることから、冷却風供給手段３１として不活性ガスボンベを用いるために必要とされる諸コストが不要であるため、ランニングコストの低減化を図ることができる。
このエキシマ光照射装置１０は、例えば液晶表示パネルのガラス基板やシリコンウエハなどのドライ洗浄処理などに好適に用いられる。
図３は、本発明のエキシマ光照射装置の他の実施形態を示す説明図である。
このエキシマ光照射装置４０は、２つの冷却風供給手段３１，３１を備えていると共にランプハウス１１に２つの冷却風供給部１３，１３が配設されていること、およびランプハウス１１における排気部１４の配設位置が異なること以外は、図１のエキシマ光照射装置１０と同様の構成を有するものである。
なお、エキシマ光照射装置４０において、エキシマランプ２０、冷却風供給手段３１、排気手段３３およびランプハウス１１の構成は、ランプハウス１１における冷却風供給部１３の配設数および配設位置、並びに排気部１４の配設位置が異なること以外は、図１のエキシマ光照射装置１０と同様である。
このエキシマ光照射装置４０は、２つの冷却風供給手段３１，３１を備えていると共にランプハウス１１に２つの冷却風供給部１３，１３が配設されていること、およびランプハウス１１における排気部１４の配設位置が異なること以外は、図１のエキシマ光照射装置１０と同様の構成を有するものである。
なお、エキシマ光照射装置４０において、エキシマランプ２０、冷却風供給手段３１、排気手段３３およびランプハウス１１の構成は、ランプハウス１１における冷却風供給部１３の配設数および配設位置、並びに排気部１４の配設位置が異なること以外は、図１のエキシマ光照射装置１０と同様である。
２つの冷却風供給部１３，１３は、ランプハウス１１の内部において、当該２つの冷却風供給部１３，１３の間に、エキシマランプ２０が位置するよう、水平方向（図３においては左右方向）に互いに離間した状態で配設されている。また、排気部１４は、２つの冷却風供給部１３，１３の間に位置するように配設されている。
具体的には、２つの冷却風供給部１３，１３を構成する供給用貫通孔は、各々、互いに対向する側壁部１１Ｂ，１１Ｃの略中央部に形成されている。また、２つの供給用貫通孔は、各々、側壁部１１Ｂ，１１Ｃの内面に、エキシマランプ２０に沿って伸びる開口を有するものである。そして、一方（図３における左方）の供給用貫通孔の開口は、エキシマランプ２０における一方の幅狭面２３Ａの上側部分（図３における上側部分）および他の幅広面２２Ｂの上方空間を臨むように位置されている。一方、他方（図３における右方）の供給用貫通孔の開口は、エキシマランプ２０における他方の幅狭面２３Ｂの上側部分（図３における上側部分）および他方の幅広面２２Ｂの上方空間を臨むように位置されている。
また、排気部１４を構成する排気用貫通孔は、上壁部１１Ａの略中央部に形成されている。また、排気用貫通孔は、上壁部１１Ａの内面に、エキシマランプ２０に沿って伸びる開口を有するものである。この開口は、図３に示されているように、エキシマランプ２０の他方の幅広面２２Ｂに対向するよう位置されていることが好ましい。
この図の例において、２つの供給用貫通孔は、対向配置されている。
また、側壁部１１Ｂ，１１Ｃの内面に形成された供給用貫通孔の開口は、各々、エキシマランプ２０の全長と同様の長さを有する横長よりなるものである。また、上壁部１１Ａの内面に形成された排気用貫通孔の開口は、複数の長穴よりなるものであり、これらの複数の長穴は、当該内面におけるエキシマランプ２０と対向する領域に一定間隔で配置されている。
具体的には、２つの冷却風供給部１３，１３を構成する供給用貫通孔は、各々、互いに対向する側壁部１１Ｂ，１１Ｃの略中央部に形成されている。また、２つの供給用貫通孔は、各々、側壁部１１Ｂ，１１Ｃの内面に、エキシマランプ２０に沿って伸びる開口を有するものである。そして、一方（図３における左方）の供給用貫通孔の開口は、エキシマランプ２０における一方の幅狭面２３Ａの上側部分（図３における上側部分）および他の幅広面２２Ｂの上方空間を臨むように位置されている。一方、他方（図３における右方）の供給用貫通孔の開口は、エキシマランプ２０における他方の幅狭面２３Ｂの上側部分（図３における上側部分）および他方の幅広面２２Ｂの上方空間を臨むように位置されている。
また、排気部１４を構成する排気用貫通孔は、上壁部１１Ａの略中央部に形成されている。また、排気用貫通孔は、上壁部１１Ａの内面に、エキシマランプ２０に沿って伸びる開口を有するものである。この開口は、図３に示されているように、エキシマランプ２０の他方の幅広面２２Ｂに対向するよう位置されていることが好ましい。
この図の例において、２つの供給用貫通孔は、対向配置されている。
また、側壁部１１Ｂ，１１Ｃの内面に形成された供給用貫通孔の開口は、各々、エキシマランプ２０の全長と同様の長さを有する横長よりなるものである。また、上壁部１１Ａの内面に形成された排気用貫通孔の開口は、複数の長穴よりなるものであり、これらの複数の長穴は、当該内面におけるエキシマランプ２０と対向する領域に一定間隔で配置されている。
ランプハウス１１の内部においては、２つの冷却風供給部１３，１３から導入された冷却風がエキシマランプ２０に沿って流動し、そのエキシマランプ２０に沿って流動した冷却風が、ワークＷから離間する方向に流動して排気部１４から排出されるよう、冷却風の流動方向が制御されている。
この図の例において、ランプハウス１１の内部に供給された冷却風は、先ず、冷却風供給部１３，１３の各々からエキシマランプ２０に向かって流動し、その大部分が一方の幅狭面２３Ａまたは他方の幅狭面２３Ｂに吹き付けられる。一方の幅狭面２３Ａおよび他方の幅狭面２３Ｂに吹き付けられた冷却風は、各々、その大部分が、当該一方の幅狭面２３Ａまたは当該他方の幅狭面２３Ｂに沿って他方の幅広面２２Ｂに向かって流動した後、当該他方の幅広面２２Ｂに沿って流動し、当該他方の幅広面２２Ｂの中央部、すなわち排気部１４の直下位置で合流する。そして、合流した冷却風は、ワークＷから離間する方向、すなわちエキシマランプ２０の光出射面（一方の幅広面２２Ａ）から離間する方向（図３において上方に向かう方向）に流動して排気部１４に至り、当該排気部１４からランプハウス１１の外部に排出される。
図３においては、ガスの流動方向が実線矢印で示されている。なお、エキシマ光照射装置４０の外部において、冷却風供給手段３１，３１に向かう方向（右方向および左方向）に伸びる実線矢印は、冷却風供給手段３１，３１に向かって流動する外部雰囲気ガスの流動方向を示す。また、ランプハウス１１の内部の実線矢印は、ランプハウス１１の内部を流動する冷却風を構成するガスの流動方向を示し、また排気手段３３においてエキシマ光照射装置１０の外部に向かう方向（上方向）に伸びる実線矢印は、排気部１４から排出されたガスの流動方向を示す。
この図の例において、ランプハウス１１の内部に供給された冷却風は、先ず、冷却風供給部１３，１３の各々からエキシマランプ２０に向かって流動し、その大部分が一方の幅狭面２３Ａまたは他方の幅狭面２３Ｂに吹き付けられる。一方の幅狭面２３Ａおよび他方の幅狭面２３Ｂに吹き付けられた冷却風は、各々、その大部分が、当該一方の幅狭面２３Ａまたは当該他方の幅狭面２３Ｂに沿って他方の幅広面２２Ｂに向かって流動した後、当該他方の幅広面２２Ｂに沿って流動し、当該他方の幅広面２２Ｂの中央部、すなわち排気部１４の直下位置で合流する。そして、合流した冷却風は、ワークＷから離間する方向、すなわちエキシマランプ２０の光出射面（一方の幅広面２２Ａ）から離間する方向（図３において上方に向かう方向）に流動して排気部１４に至り、当該排気部１４からランプハウス１１の外部に排出される。
図３においては、ガスの流動方向が実線矢印で示されている。なお、エキシマ光照射装置４０の外部において、冷却風供給手段３１，３１に向かう方向（右方向および左方向）に伸びる実線矢印は、冷却風供給手段３１，３１に向かって流動する外部雰囲気ガスの流動方向を示す。また、ランプハウス１１の内部の実線矢印は、ランプハウス１１の内部を流動する冷却風を構成するガスの流動方向を示し、また排気手段３３においてエキシマ光照射装置１０の外部に向かう方向（上方向）に伸びる実線矢印は、排気部１４から排出されたガスの流動方向を示す。
冷却風の供給排出条件は、エキシマランプ２０の点灯条件および冷却風を構成するガスの種類などに応じ、冷却風供給部１３，１３と排気部１４との配設位置、ランプハウス１１の内部構造および光取出し用開口１２とワークＷとの離間距離Ｄなどを考慮して適宜に定められる。
このような構成のエキシマ光照射装置４０においては、搬送システムによって搬送路Ｌにおける直下位置に搬送されたワークＷの一面Ｗａに対して、エキシマランプ２０からの光を、光取出し用開口１２を介して照射することにより、ワークＷの表面処理が行われる。
而して、エキシマ光照射装置４０においては、エキシマランプ冷却機構によってランプハウス１１の内部に冷却風が供給され、その冷却風のランプハウス１１の内部における流動方向が制御されている。
そのため、冷却風供給部１３，１３から導入された冷却風は、各々、エキシマランプ２０の一対の幅広面以外の周面、具体的には幅広面以外の周面（一方の幅狭面２３Ａおよび他方の幅狭面２３Ｂ）のうちの一方の幅狭面２３Ａまたは他方の幅狭面２３Ｂに吹き付けられ、当該一方の幅狭面２３Ａまたは当該他方の幅狭面２３Ｂと、他方の幅広面２２Ｂとを、この順に沿って流動する。その結果、エキシマランプ２０の熱が冷却風に効率的に伝導される。
しかも、エキシマランプ２０に沿って流動することによってエキシマランプ２０の熱を受熱して加熱された状態の冷却風は、ワークＷから離間する方向に流動して排気部１４に至り、当該排気部１４からランプハウス１１の外部に排出される。
従って、エキシマ光照射装置４０によれば、冷却風は、エキシマランプ２０の一対の幅広面以外の周面（具体的には、一方の幅狭面２３Ａおよび他方の幅狭面２３Ｂ）から放電容器２１の他方の幅広面２２Ｂに向かって流動し、当該他方の幅広面２２Ｂに沿って流動した後、ワークＷから離間する方向に流動して排出される。そのため、冷却風によってエキシマランプ２０を効率的に冷却することができる。しかも、光取出し用開口１２が開放状態であって、ワークＷがエキシマランプ２０の光出射面に近接して配置されていても、エキシマランプ２０に沿って流動した冷却風がワークＷに吹き付けられることがない。そのため、ワークＷが過熱されて変形することが抑制される。
そのため、冷却風供給部１３，１３から導入された冷却風は、各々、エキシマランプ２０の一対の幅広面以外の周面、具体的には幅広面以外の周面（一方の幅狭面２３Ａおよび他方の幅狭面２３Ｂ）のうちの一方の幅狭面２３Ａまたは他方の幅狭面２３Ｂに吹き付けられ、当該一方の幅狭面２３Ａまたは当該他方の幅狭面２３Ｂと、他方の幅広面２２Ｂとを、この順に沿って流動する。その結果、エキシマランプ２０の熱が冷却風に効率的に伝導される。
しかも、エキシマランプ２０に沿って流動することによってエキシマランプ２０の熱を受熱して加熱された状態の冷却風は、ワークＷから離間する方向に流動して排気部１４に至り、当該排気部１４からランプハウス１１の外部に排出される。
従って、エキシマ光照射装置４０によれば、冷却風は、エキシマランプ２０の一対の幅広面以外の周面（具体的には、一方の幅狭面２３Ａおよび他方の幅狭面２３Ｂ）から放電容器２１の他方の幅広面２２Ｂに向かって流動し、当該他方の幅広面２２Ｂに沿って流動した後、ワークＷから離間する方向に流動して排出される。そのため、冷却風によってエキシマランプ２０を効率的に冷却することができる。しかも、光取出し用開口１２が開放状態であって、ワークＷがエキシマランプ２０の光出射面に近接して配置されていても、エキシマランプ２０に沿って流動した冷却風がワークＷに吹き付けられることがない。そのため、ワークＷが過熱されて変形することが抑制される。
また、エキシマ光照射装置４０においては、排気部１４が、ランプハウス１１において、エキシマランプ２０のレベル位置よりも上方のレベル位置に設けられていることから、ランプハウス１１の内部において、冷却風がワークＷに向かう方向に流動することを効果的に抑制することができる。
また、エキシマ光照射装置４０においては、ランプハウス１１の内部に供給される冷却風が、外部雰囲気ガスよりなるものであることから、冷却風供給手段３１，３１として不活性ガスボンベを用いるために必要とされる諸コストが不要であるため、ランニングコストの低減化を図ることができる。
このエキシマ光照射装置４０は、図１のエキシマ光照射装置１０と同様に、例えば液晶表示パネルのガラス基板やシリコンウエハなどのドライ洗浄処理などに好適に用いられる。
図４は、本発明のエキシマ光照射装置の更に他の実施形態を示す説明図である。
このエキシマ光照射装置５０は、ランプハウス１１における２つの冷却風供給部１３，１３の配設位置が異なること、およびランプハウス１１の内部構造が異なること以外は、図３のエキシマ光照射装置４０と同様の構成を有するものである。
なお、エキシマ光照射装置５０において、エキシマランプ２０、冷却風供給手段３１、排気手段３３およびランプハウス１１の構成は、ランプハウス１１における２つの冷却風供給部１３，１３の配置位置および内部構造が異なること以外は、図３のエキシマ光照射装置４０と同様である。
このエキシマ光照射装置５０は、ランプハウス１１における２つの冷却風供給部１３，１３の配設位置が異なること、およびランプハウス１１の内部構造が異なること以外は、図３のエキシマ光照射装置４０と同様の構成を有するものである。
なお、エキシマ光照射装置５０において、エキシマランプ２０、冷却風供給手段３１、排気手段３３およびランプハウス１１の構成は、ランプハウス１１における２つの冷却風供給部１３，１３の配置位置および内部構造が異なること以外は、図３のエキシマ光照射装置４０と同様である。
２つの冷却風供給部１３，１３は、上壁部１１Ａにおける、互いに面方向（図４における左右方向）に離間した位置に配設されている。そして、上壁部１１Ａにおいて、２つの冷却風供給部１３，１３の間の位置には、排気部１４が配設されている。
具体的には、一方（図４における左方）の冷却風供給部１３を構成する供給用貫通孔は、上壁部１１Ａにおける側壁部１１Ｂとの稜に係る縁部に形成されている。一方、他方（図４における右方）の冷却風供給部１３を構成する供給用貫通孔は、上壁部１１Ａにおける側壁部１１Ｃとの稜に係る縁部に形成されている。また、２つの供給用貫通孔は、各々、上壁部１１Ａの内面に、エキシマランプ２０に沿って伸びる開口を有するものである。これらの開口は、各々、側壁部１１Ｂまたは側壁部１１Ｃに沿って位置されている。
また、排気部１４を構成する排気用貫通孔は、上壁部１１Ａの略中央部に形成されている。また、排気用貫通孔は、上壁部１１Ａの内面に、エキシマランプ２０に沿って伸びる開口を有するものである。この開口は、図４に示されているように、エキシマランプ２０における他方の幅広面２２Ｂに対向するよう位置されていることが好ましい。
この図の例において、上壁部１１Ａの内面において、２つの供給用貫通孔の開口および排気用貫通孔の開口は、エキシマランプ２０の管軸方向に垂直な方向に等間隔で並列に配置されている。
また、側壁部１１Ａの内面に形成された供給用貫通孔の開口は、エキシマランプ２０の全長と同様の長さを有する横長よりなるものである。また、上壁部１１Ａの内面に形成された排気用貫通孔の開口は、複数の長穴よりなるものであり、これらの複数の長穴は、当該内面におけるエキシマランプ２０と対向する領域に一定間隔で配置されている。
具体的には、一方（図４における左方）の冷却風供給部１３を構成する供給用貫通孔は、上壁部１１Ａにおける側壁部１１Ｂとの稜に係る縁部に形成されている。一方、他方（図４における右方）の冷却風供給部１３を構成する供給用貫通孔は、上壁部１１Ａにおける側壁部１１Ｃとの稜に係る縁部に形成されている。また、２つの供給用貫通孔は、各々、上壁部１１Ａの内面に、エキシマランプ２０に沿って伸びる開口を有するものである。これらの開口は、各々、側壁部１１Ｂまたは側壁部１１Ｃに沿って位置されている。
また、排気部１４を構成する排気用貫通孔は、上壁部１１Ａの略中央部に形成されている。また、排気用貫通孔は、上壁部１１Ａの内面に、エキシマランプ２０に沿って伸びる開口を有するものである。この開口は、図４に示されているように、エキシマランプ２０における他方の幅広面２２Ｂに対向するよう位置されていることが好ましい。
この図の例において、上壁部１１Ａの内面において、２つの供給用貫通孔の開口および排気用貫通孔の開口は、エキシマランプ２０の管軸方向に垂直な方向に等間隔で並列に配置されている。
また、側壁部１１Ａの内面に形成された供給用貫通孔の開口は、エキシマランプ２０の全長と同様の長さを有する横長よりなるものである。また、上壁部１１Ａの内面に形成された排気用貫通孔の開口は、複数の長穴よりなるものであり、これらの複数の長穴は、当該内面におけるエキシマランプ２０と対向する領域に一定間隔で配置されている。
そして、ランプハウス１１の内部には、一方（図４における左方）の冷却風供給部１３と排気部１４との間、および他方（図４における右方）の冷却風供給部１３と排気部１４との間に、各々、上壁部１１Ａから垂直下方向（図４における下方向）に突出し、エキシマランプ２０に沿って伸びる、矩形平板状の仕切板５１，５１が設けられている。これらの２つの仕切板５１，５１の下端面５１Ａ，５１Ａは、各々、エキシマランプ２０と側壁部１１Ｂ，１１Ｃとの間（具体的には、一方の幅狭面２３Ａと側壁部１１Ｂとの間または他方の幅狭面２２Ｂと側壁部１１Ｃとの間）におけるエキシマランプ２０に近接した位置に配置されている。
このようにして、ランプハウス１１の内部が２つの仕切板５１，５１によって区画されている。そして、２つの仕切板５１，５１の間に位置し、排気部１４に連通する空間により、エキシマランプ２０を収容するためのランプ収容室Ｓが構成されている。また、仕切板５１，５１と側壁部１１Ｂ，１１Ｃとの間に位置し、冷却風供給部１３，１３に連通する空間の各々により、冷却風導入路Ｐ，Ｐが構成されている。この冷却風導入路Ｐ，Ｐには、各々、エキシマランプ２０における一方の幅狭面２３Ａまたは他方の幅狭面２３Ｂに対向し、ランプ収容室Ｓと連通する冷却風供給口Ｐｍ，Ｐｍが形成されている。冷却風供給口Ｐｍ，Ｐｍは、各々、仕切板５１，５１の下端面５１Ａ，５１Ａを開口縁とするものである。
この図の例において、冷却風導入路Ｐ，Ｐは、各々、冷却風供給口Ｐｍ，Ｐｍの他に、搬送路Ｌに対向する開口（以下、「下方開口」ともいう。）を有しており、この下方開口は冷却風供給口Ｐｍ，Ｐｍと一体のものである。
このようにして、ランプハウス１１の内部が２つの仕切板５１，５１によって区画されている。そして、２つの仕切板５１，５１の間に位置し、排気部１４に連通する空間により、エキシマランプ２０を収容するためのランプ収容室Ｓが構成されている。また、仕切板５１，５１と側壁部１１Ｂ，１１Ｃとの間に位置し、冷却風供給部１３，１３に連通する空間の各々により、冷却風導入路Ｐ，Ｐが構成されている。この冷却風導入路Ｐ，Ｐには、各々、エキシマランプ２０における一方の幅狭面２３Ａまたは他方の幅狭面２３Ｂに対向し、ランプ収容室Ｓと連通する冷却風供給口Ｐｍ，Ｐｍが形成されている。冷却風供給口Ｐｍ，Ｐｍは、各々、仕切板５１，５１の下端面５１Ａ，５１Ａを開口縁とするものである。
この図の例において、冷却風導入路Ｐ，Ｐは、各々、冷却風供給口Ｐｍ，Ｐｍの他に、搬送路Ｌに対向する開口（以下、「下方開口」ともいう。）を有しており、この下方開口は冷却風供給口Ｐｍ，Ｐｍと一体のものである。
仕切板５１，５１は、エキシマランプ２０の全長と同様の長さを有していることが好ましい。
仕切板５１，５１がエキシマランプ２０の全長と同様の長さを有するものであることにより、エキシマランプ２０における一方の幅狭面２３Ａおよび他方の幅狭面２３Ｂの全面に対して均一に冷却風を吹きつけることができる。そのため、エキシマランプ２０を、管軸方向にわたって均一に冷却することができる。
この図の例において、仕切板５１，５１は、エキシマランプ２０の全長と同様の長さを有している。
仕切板５１，５１がエキシマランプ２０の全長と同様の長さを有するものであることにより、エキシマランプ２０における一方の幅狭面２３Ａおよび他方の幅狭面２３Ｂの全面に対して均一に冷却風を吹きつけることができる。そのため、エキシマランプ２０を、管軸方向にわたって均一に冷却することができる。
この図の例において、仕切板５１，５１は、エキシマランプ２０の全長と同様の長さを有している。
仕切板５１，５１の材質は、エキシマランプ２０との離間距離などに応じて適宜に定められる。
具体的には、仕切板５１，５１とエキシマランプ２０とが十分に離間している場合、すなわち仕切板５１，５１とエキシマランプ２０のランプ高圧部（具体的には外部電極２５Ｂ）との間において絶縁破壊が生じない距離が確保されている場合には、仕切板５１，５１は、耐紫外線性および耐オゾン性を有する金属よりなるものであることが好ましい。
また、仕切板５１，５１とエキシマランプ２０とが十分に離間していない場合には、仕切板５１，５１は、セラミックなどの絶縁材料よりなるものであることが好ましい。
具体的には、仕切板５１，５１とエキシマランプ２０とが十分に離間している場合、すなわち仕切板５１，５１とエキシマランプ２０のランプ高圧部（具体的には外部電極２５Ｂ）との間において絶縁破壊が生じない距離が確保されている場合には、仕切板５１，５１は、耐紫外線性および耐オゾン性を有する金属よりなるものであることが好ましい。
また、仕切板５１，５１とエキシマランプ２０とが十分に離間していない場合には、仕切板５１，５１は、セラミックなどの絶縁材料よりなるものであることが好ましい。
ランプハウス１１の内部においては、２つの冷却風供給部１３，１３から導入された冷却風がエキシマランプ２０に沿って流動し、そのエキシマランプ２０に沿って流動した冷却風が、ワークＷから離間する方向に流動して排気部１４から排出されるよう、冷却風の流動方向が制御されている。
この図の例において、ランプハウス１１の内部に供給された冷却風は、先ず、冷却風供給部１３，１３の各々から冷却風供給口Ｐｍ，Ｐｍおよび下方開口（以下、これらをまとめて「導出開口」ともいう。）に向かって冷却風導入路Ｐ，Ｐを流動する。そして、冷却風導入路Ｐ，Ｐにおいて導出開口に至った冷却風は、各々、一部がランプ収容室Ｓに向かって導出され、残りの一部が搬送路Ｌに向かって導出される。これらの導出開口から搬送路Ｌに向かって導出された冷却風は、各々、当該搬送路Ｌにおける冷却風導入路Ｐ，Ｐの直下位置にワークＷが位置している場合には、そのワークＷに吹きつけられた後、ランプ収容室Ｓに向かって流動する。このようにして、一方（図４における左方）の冷却風導入路Ｐによってランプ収容室Ｓに導かれた冷却風は、その大部分が、一方（図４における左方）の仕切板５１と一方の幅狭面２３Ａとの間を、当該一方の幅狭面２３Ａに沿って他方の幅広面２２Ｂに向かって流動した後、他方の幅広面２２Ｂに沿って流動する。一方、他方（図４における右方）の冷却風導入路Ｐによってランプ収容室Ｓに導かれた冷却風は、その大部分が、他方（図４における右方）の仕切板５１と他方の幅狭面２３Ｂとの間を、当該他方の幅狭面２３Ｂに沿って他方の幅広面２２Ｂに向かって流動した後、他方の幅広面２２Ｂに沿って流動する。そして、これらの冷却風は、他方の幅広面２２Ｂの中央部、すなわち排気部１４の直下位置で合流し、ワークＷから離間する方向（図４において上方に向かう方向）に流動して排気部１４に至り、当該排気部１４からランプハウス１１の外部に排出される。
図４においては、ガスの流動方向が実線矢印で示されている。なお、エキシマ光照射装置５０の外部において、冷却風供給手段３１，３１に向かう方向（下方向）に伸びる実線矢印は、冷却風供給手段３１，３１に向かって流動する外部雰囲気ガスの流動方向を示す。また、ランプハウス１１の内部の実線矢印は、ランプハウス１１の内部を流動する冷却風を構成するガスの流動方向を示し、また排気手段３３においてエキシマ光照射装置１０の外部に向かう方向（上方向）に伸びる実線矢印は、排気部１４から排出されたガスの流動方向を示す。
この図の例において、ランプハウス１１の内部に供給された冷却風は、先ず、冷却風供給部１３，１３の各々から冷却風供給口Ｐｍ，Ｐｍおよび下方開口（以下、これらをまとめて「導出開口」ともいう。）に向かって冷却風導入路Ｐ，Ｐを流動する。そして、冷却風導入路Ｐ，Ｐにおいて導出開口に至った冷却風は、各々、一部がランプ収容室Ｓに向かって導出され、残りの一部が搬送路Ｌに向かって導出される。これらの導出開口から搬送路Ｌに向かって導出された冷却風は、各々、当該搬送路Ｌにおける冷却風導入路Ｐ，Ｐの直下位置にワークＷが位置している場合には、そのワークＷに吹きつけられた後、ランプ収容室Ｓに向かって流動する。このようにして、一方（図４における左方）の冷却風導入路Ｐによってランプ収容室Ｓに導かれた冷却風は、その大部分が、一方（図４における左方）の仕切板５１と一方の幅狭面２３Ａとの間を、当該一方の幅狭面２３Ａに沿って他方の幅広面２２Ｂに向かって流動した後、他方の幅広面２２Ｂに沿って流動する。一方、他方（図４における右方）の冷却風導入路Ｐによってランプ収容室Ｓに導かれた冷却風は、その大部分が、他方（図４における右方）の仕切板５１と他方の幅狭面２３Ｂとの間を、当該他方の幅狭面２３Ｂに沿って他方の幅広面２２Ｂに向かって流動した後、他方の幅広面２２Ｂに沿って流動する。そして、これらの冷却風は、他方の幅広面２２Ｂの中央部、すなわち排気部１４の直下位置で合流し、ワークＷから離間する方向（図４において上方に向かう方向）に流動して排気部１４に至り、当該排気部１４からランプハウス１１の外部に排出される。
図４においては、ガスの流動方向が実線矢印で示されている。なお、エキシマ光照射装置５０の外部において、冷却風供給手段３１，３１に向かう方向（下方向）に伸びる実線矢印は、冷却風供給手段３１，３１に向かって流動する外部雰囲気ガスの流動方向を示す。また、ランプハウス１１の内部の実線矢印は、ランプハウス１１の内部を流動する冷却風を構成するガスの流動方向を示し、また排気手段３３においてエキシマ光照射装置１０の外部に向かう方向（上方向）に伸びる実線矢印は、排気部１４から排出されたガスの流動方向を示す。
冷却風の供給排出条件は、エキシマランプ２０の点灯条件、冷却風を構成するガスの種類、冷却風導入路Ｐ，Ｐの全長および断面積、並びに光取出し用開口１２とワークＷとの離間距離Ｄなどに応じ、冷却風供給部１３，１３と排気部１４との配設位置およびランプハウス１１の内部構造などを考慮して適宜に定められる。
この図の例において、２つの冷却風供給手段３１，３１による冷却風の供給は、冷却風供給部１３，１３におけるガス流量が同様となるような条件で行われている。
この図の例において、２つの冷却風供給手段３１，３１による冷却風の供給は、冷却風供給部１３，１３におけるガス流量が同様となるような条件で行われている。
このような構成のエキシマ光照射装置５０においては、搬送システムによって搬送路Ｌにおける直下位置に搬送されたワークＷの一面Ｗａに対して、エキシマランプ２０からの光を、光取出し用開口１２を介して照射することにより、ワークＷの表面処理が行われる。
而して、エキシマ光照射装置５０においては、エキシマランプ冷却機構によってランプハウス１１の内部に冷却風が供給され、その冷却風のランプハウス１１の内部における流動方向が制御されている。
そのため、冷却風供給部１３，１３から導入された冷却風は、各々、当該冷却風供給部１３，１３から冷却風導入路Ｐ，Ｐを介してエキシマランプ２０に向かって流動される。そして、エキシマランプ２０の一対の幅広面以外の周面、具体的には幅広面以外の周面（一方の幅狭面２３Ａおよび他方の幅狭面２３Ｂ）のうちの一方の幅狭面２３Ａまたは他方の幅狭面２３Ｂと、他方の幅広面２２Ｂとを、この順に沿って流動する。その結果、エキシマランプ２０の熱が冷却風に効率的に伝導される。
しかも、エキシマランプ２０に沿って流動することによってエキシマランプ２０の熱を受熱して加熱された状態とされた冷却風は、ワークＷから離間する方向に流動して排気部１４に至り、当該排気部１４からランプハウス１１の外部に排出される。
従って、エキシマ光照射装置５０によれば、冷却風は、エキシマランプ２０の一対の幅広面以外の周面（具体的には、一方の幅狭面２３Ａおよび他方の幅狭面２３Ｂ）から放電容器２１の他方の幅広面２２Ｂに向かって流動し、当該他方の幅広面２２Ｂに沿って流動した後、ワークＷから離間する方向に流動して排出される。そのため、冷却風によってエキシマランプ２０を効率的に冷却することができる。しかも、光取出し用開口１２が開放状態であって、ワークＷがエキシマランプ２０の光出射面に近接して配置されていても、エキシマランプ２０に沿って流動した冷却風がワークＷに吹き付けられることがない。そのため、ワークＷが過熱されて変形することが抑制される。
そのため、冷却風供給部１３，１３から導入された冷却風は、各々、当該冷却風供給部１３，１３から冷却風導入路Ｐ，Ｐを介してエキシマランプ２０に向かって流動される。そして、エキシマランプ２０の一対の幅広面以外の周面、具体的には幅広面以外の周面（一方の幅狭面２３Ａおよび他方の幅狭面２３Ｂ）のうちの一方の幅狭面２３Ａまたは他方の幅狭面２３Ｂと、他方の幅広面２２Ｂとを、この順に沿って流動する。その結果、エキシマランプ２０の熱が冷却風に効率的に伝導される。
しかも、エキシマランプ２０に沿って流動することによってエキシマランプ２０の熱を受熱して加熱された状態とされた冷却風は、ワークＷから離間する方向に流動して排気部１４に至り、当該排気部１４からランプハウス１１の外部に排出される。
従って、エキシマ光照射装置５０によれば、冷却風は、エキシマランプ２０の一対の幅広面以外の周面（具体的には、一方の幅狭面２３Ａおよび他方の幅狭面２３Ｂ）から放電容器２１の他方の幅広面２２Ｂに向かって流動し、当該他方の幅広面２２Ｂに沿って流動した後、ワークＷから離間する方向に流動して排出される。そのため、冷却風によってエキシマランプ２０を効率的に冷却することができる。しかも、光取出し用開口１２が開放状態であって、ワークＷがエキシマランプ２０の光出射面に近接して配置されていても、エキシマランプ２０に沿って流動した冷却風がワークＷに吹き付けられることがない。そのため、ワークＷが過熱されて変形することが抑制される。
また、エキシマ光照射装置５０においては、排気部１４が、エキシマランプ２０のレベル位置よりも上方のレベル位置に設けられていることから、ランプハウス１１の内部におけるランプ収容室Ｓにおいて、冷却風がワークＷに向かう方向に流動することを効果的に抑制することができる。
また、エキシマ光照射装置５０においては、ランプハウス１１の内部に供給される冷却風が、外部雰囲気ガスよりなるものであることから、冷却風供給手段３１，３１として不活性ガスボンベを用いるために必要とされる諸コストが不要であるため、ランニングコストの低減化を図ることができる。
また、エキシマ光照射装置５０においては、ランプハウス１１の上方部、具体的には上壁部１１Ａに冷却風供給部１３，１３および排気部１４が設けられており、その上壁部１１Ａの上方に冷却風供給手段３１，３１および排気手段３３が配設されている。そのため、冷却風供給手段３１，３１および排気手段３３のメンテナンスを簡単に行うことができる。また、複数のエキシマ光照射装置５０を搬送路Ｌに沿って並べる場合には、図３のエキシマ光照射装置４０の複数を並べる場合に比して、密に並列配置することができる。
また、エキシマ光照射装置５０は、ランプハウス１１の内部に冷却風導入路Ｐ，Ｐが形成されており、その冷却風導入路Ｐ，Ｐが、各々、エキシマランプ２０における一方の幅狭面２３Ａまたは他方の幅狭面２３Ｂに対向する冷却風供給口Ｐｍ，Ｐｍを有している。そのため、冷却風が冷却風供給部１３，１３からエキシマランプ２０に至るまでの流動方向を、冷却風導入路Ｐ，Ｐによって確実に制御することができる。また、冷却風が冷却風供給部１３，１３からエキシマランプ２０に至るまでの流動方向を、冷却風供給手段３１，３１による冷却風の供給条件によって調整する必要がないため、エキシマランプ２０に沿って流動する冷却風の流動条件を当該エキシマランプ２０の冷却に適したものにできる。その結果、より一層高い効率でエキシマランプ２０を冷却することができる。
また、冷却風導入路Ｐ，Ｐが 冷却風供給口Ｐｍ，Ｐｍと共に下方開口を有していることから、当該下方開口から導出された冷却風がワークＷに吹き付けられ、そのワークＷに吹き付けられた冷却風が当該ワークＷの一面Ｗａに沿って流動する。そのため、冷却風によってワークＷを冷却することができる。
また、冷却風導入路Ｐ，Ｐが 冷却風供給口Ｐｍ，Ｐｍと共に下方開口を有していることから、当該下方開口から導出された冷却風がワークＷに吹き付けられ、そのワークＷに吹き付けられた冷却風が当該ワークＷの一面Ｗａに沿って流動する。そのため、冷却風によってワークＷを冷却することができる。
このエキシマ光照射装置５０は、図１のエキシマ光照射装置１０および図３のエキシマ光照射装置４０と同様に、例えば液晶表示パネルのガラス基板やシリコンウエハなどのドライ洗浄処理などに好適に用いられる。
本発明のエキシマ光照射装置においては、上記の実施の形態に限定されず、種々の変更を加えることが可能である。
例えば、エキシマ光照射装置は、エキシマランプが、放電容器の一対の幅広面が水平方向以外の方向に伸びるように配設されたものであってもよい。
また、ランプハウスにおける冷却風供給部および排気部の配設数および配設位置は、図１〜図４の例に限定されず、適宜に定めることができる。
例えば、エキシマ光照射装置は、エキシマランプが、放電容器の一対の幅広面が水平方向以外の方向に伸びるように配設されたものであってもよい。
また、ランプハウスにおける冷却風供給部および排気部の配設数および配設位置は、図１〜図４の例に限定されず、適宜に定めることができる。
１０ エキシマ光照射装置
１１ ランプハウス
１１Ａ 上壁部
１１Ｂ，１１Ｃ 側壁部
１２ 光取出し用開口
１３ 冷却風供給部
１４ 排気部
１９ 搬送コロ
２０ エキシマランプ
２１ 放電容器
２２Ａ 一方の幅広面
２２Ｂ 他方の幅広面
２３Ａ 一方の幅狭面
２３Ｂ 他方の幅狭面
２５Ａ，２５Ｂ 外部電極
３１ 冷却風供給手段
３１Ａ 吸引ファン
３１Ｂ エアフィルタ
３３ 排気手段
３３Ａ 排気ファン
３３Ｂ 排気ダクト
４０ エキシマ光照射装置
５０ エキシマ光照射装置
５１ 仕切板
５１Ａ 下端面
６０ エキシマ光照射装置
６１ ランプハウス
６２ 光取出し用開口
６４ ガスブロー管
６５ 噴出し口
６７ ガス流路形成部材
６９ 不活性ガスボンベ
Ｌ 搬送路
Ｓ ランプ収容室
Ｐ 冷却風導入路
Ｐｍ 冷却風供給口
Ｗ ワーク（被処理物）
Ｗａ 一面
１１ ランプハウス
１１Ａ 上壁部
１１Ｂ，１１Ｃ 側壁部
１２ 光取出し用開口
１３ 冷却風供給部
１４ 排気部
１９ 搬送コロ
２０ エキシマランプ
２１ 放電容器
２２Ａ 一方の幅広面
２２Ｂ 他方の幅広面
２３Ａ 一方の幅狭面
２３Ｂ 他方の幅狭面
２５Ａ，２５Ｂ 外部電極
３１ 冷却風供給手段
３１Ａ 吸引ファン
３１Ｂ エアフィルタ
３３ 排気手段
３３Ａ 排気ファン
３３Ｂ 排気ダクト
４０ エキシマ光照射装置
５０ エキシマ光照射装置
５１ 仕切板
５１Ａ 下端面
６０ エキシマ光照射装置
６１ ランプハウス
６２ 光取出し用開口
６４ ガスブロー管
６５ 噴出し口
６７ ガス流路形成部材
６９ 不活性ガスボンベ
Ｌ 搬送路
Ｓ ランプ収容室
Ｐ 冷却風導入路
Ｐｍ 冷却風供給口
Ｗ ワーク（被処理物）
Ｗａ 一面
Claims (4)
- 内部に希ガスが封入された断面扁平四角形状の放電容器を備え、当該放電容器における一対の幅広面のうちの一方の幅広面に光出射面が形成されてなるエキシマランプが、光取出し用開口を有するランプハウスの内部に配設されており、当該光取出し用開口に近接して被処理物が配置されるエキシマ光照射装置において、
前記ランプハウスには、当該ランプハウスの内部に冷却風を導入する冷却風供給部と、当該冷却風供給部から導入された冷却風を当該ランプハウスの内部から吸い出して排出する排気手段に接続された排気部とが設けられており、
前記冷却風供給部から前記ランプハウスの内部に導入された冷却風が、前記エキシマランプの放電容器における一対の幅広面以外の周面に沿って当該放電容器の他方の幅広面に向かって流動し、当該他方の幅広面に沿って流動した後、前記被処理物から離間する方向に流動して前記排気部から排出されることを特徴とするエキシマ光照射装置。 - 前記エキシマランプは、放電容器の一対の幅広面が水平方向に伸び、前記光出射面が下方側に位置するように配設されており、
前記排気部は、前記エキシマランプのレベル位置よりも上方のレベル位置に設けられていることを特徴とする請求項１に記載のエキシマ光照射装置。 - 前記冷却風供給部と前記排気部とが前記ランプハウスの上方部に設けられており、
前記ランプハウスの内部には、前記冷却風供給部に連通する冷却風導入路が形成されており、当該冷却風導入路が、前記放電容器における一対の幅広面以外の周面に対向する冷却風供給口を有することを特徴とする請求項２に記載のエキシマ光照射装置。 - 前記冷却風供給部から前記ランプハウスの内部に導入される冷却風が、外部から取り込まれたエキシマ光照射装置外部雰囲気のガスよりなることを特徴とする請求項１に記載のエキシマ光照射装置。
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