JP2005235869A - 紫外線照射装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 被処理体Wに紫外線を照射する紫外線照射装置において、前記被処理体を搬出入する搬出入口10を有する処理容器4と、前記被処理体を載置する載置台6と、前記載置台を前記搬出入口を介して前記処理容器の内外に移動させる移動手段8と、前記処理容器内に水平に配置されてその下方に照射室S1を形成すると共に、該照射室の上方にランプハウス室S2を形成して前記照射室に位置される前記被処理体に紫外線を照射する紫外線ランプ部材12と、前記紫外線ランプ部材に対して不活性ガスを吹き付けることにより前記紫外線ランプ部材を冷却すると共に、前記照射室と前記ランプハウス室との間に前記不活性ガスの仕切りを形成する不活性ガス供給手段14と、前記不活性ガスを排出させるために前記ランプハウス室側の処理容器の区画壁に設けたガス排気口20と、を備える。
【選択図】 図1
Description
紫外線照射装置では、上述のように発生したエキシマ光である真空紫外線を、ガラス基板等の被処理体に照射するのであるが、真空紫外線を効率よく照射する必要から、真空紫外線が酸素に吸収されて減衰することを防止するために、紫外線照射装置のランプハウス内に酸素が侵入することを防止するように遮断しなければならない。またランプで発生する熱を遮断し、これが被処理体側に伝わることを防止する必要もある。このような要請に応えるべく、特許文献1〜4に示すように従来より種々の紫外線照射装置が提案されている。
特許文献2に示す装置では、ランプと被処理体との間を石英板で仕切り、ランプ側(ランプハウス)に不活性ガスを供給して酸素の吸収を防ぎ、搬出入口にシャッターを設けて照射室の気密性を確保している。しかしながら、この場合にも、エキシマ光の照射距離を短くすることができず、また、照射室内の酸素を無くすことができない、という問題点がある。
特許文献4に示す装置では、被処理体とランプとを一つの保護室に密封して、更に、この中に照射容器とを密閉して設けている。そして、保護室を減圧排気して酸素を無くすようにしているが、保護室及び照射容器が密閉式なので、被処理体とランプとの間の距離を短くできないばかりか、被処理体の自動搬送ができずに照射処理に多くの時間を要してしまう。更には、ランプから発生する熱が被処理体に伝わることを遮断できないなどの問題がある。
この場合、例えば請求項2に規定するように、前記移動手段は、前記載置台を磁気力で回転させつつスライド移動させるマグネットスライダ機構よりなる。
また載置台を移動する移動手段を設けたので、被処理体を自動搬送することができ、もって全体の処理時間を短縮してスループットを向上させることができる。
図1は本発明の紫外線照射装置の一例を示す構成図、図2は紫外線ランプ部材と不活性ガス供給手段の配列状態を示す平面図、図3はマグネットスライダ構造の要部を示す概略断面図である。
図示するように、この紫外線照射装置2は、例えばアルミニウム合金等により円筒体状、或いは方形箱状になされた処理容器4を有している。この処理容器4内の下部には、液晶基板、半導体基板、CDやDVD等の光ディスク基板等の被処理体Wを載置して保持する載置台6が、後述する移動手段8により移動可能に設けられている。また処理容器4の下部側壁には、上記載置台6を移動させることによって被処理体Wを搬出入させるために外側へ開放された搬出入口10が設けられている。そして、この処理容器4内の下部には、上記被処理体Wに対して紫外線を照射するための紫外線ランプ部材12が水平方向に沿って配列されており、この処理容器4内を上記紫外線ランプ部材12よりも下方の照射室S1と、この上方全体のランプハウス室S2とに2分している。上記ランプハウス室S2の内面全体は反射面となっている。
またこの処理容器4において、上記不活性ガス供給手段14の下方には、僅かな距離だけ離して置換ガス供給ノズル18が設けられており、置換ガスとして例えばN2 ガスや空気を必要に応じて流量制御しつつ供給し得るようになっている。尚、この置換ガス供給ノズル18の形状を、上記不活性ガス噴射ノズル16と同様に、例えば環状のノズル、或いは複数のガス噴射口を有する直線状のノズルとして形成してもよい。
また上記処理容器4の搬出入口10には、この外側にハウジング22で区画された所定の長さの搬送室24が連結されており、外部より上記処理容器4内へ空気(酸素)が侵入することをできるだけ抑制するようになっている。この搬送室24の他端には搬送口25が形成されている。そして、この搬送室24内の天井部にも、N2 ガスや空気等の置換ガスを流量制御しつつ供給するための置換ガス供給ノズル26が設けられている。この置換ガス供給ノズル26も上記不活性ガス噴射ノズル16と同じような環状のノズル、或いは複数のガス噴射口を有する直線状のノズルとしてもよく、その形状は問わない。
まず処理すべき被処理体Wは、搬送室24の外側で載置台6(図1中において一点鎖線で示す)上に載置保持される。この被処理体Wは、移動手段8であるマグネットスライド機構8を駆動することにより、搬送室24内を通過して処理容器4内の照射室S1の定位置まで移動され、またこの定位置より搬送室24内を通過して元の外の位置まで戻すことができる。
上記処理容器4内の照射室S1内に位置された被処理体Wに対して紫外線の照射処理を行うには、紫外線ランプ部材12の各エキシマ光ランプ12Aを点灯することにより真空紫外線を発生させ、この真空紫外線を回転しつつある被処理体Wの表面に照射する。この際、不活性ガス供給手段14の不活性ガス噴射ノズル16の各ガス噴射口16Aより略水平方向に向けて不活性ガスとして例えばN2 ガスを噴射する。このガス噴射の吹きかけにより各エキシマ光ランプ12Aの表面にN2 ガスが這うように流れてこのエキシマ光ランプ12Aに発生した熱を奪ってこれらを冷却し、これと同時に照射室S1とランプハウス室S2との間がこのN2 ガスにより仕切られることになり、しかもランプハウス室S2内は酸素を含まないN2 ガスにより充満されている。
またランプハウス室S2内もN2 ガス雰囲気になされて酸素が存在しないので、ランプハウス室S2の内壁の反射面で反射した真空紫外線を効率的に被処理体Wの表面の照射に寄与させることができ、この点よりも照射効率やエネルギー効率を向上させることができる。
また必要に応じて置換ガス供給ノズル18より不活性ガスとして例えばN2 ガスを噴射して照射室S1内をN2 ガス雰囲気に置換するようにしてもよく、これによれば酸素による真空紫外線の吸収が更に少なくなって、照射光のエネルギー効率を一層向上させることができる。この場合、特に、搬送室24内もN2 ガス雰囲気に設定しておけば、照射室S1内へ酸素が侵入することを一層確実に阻止することができる。
また移動手段としてマグネットスライド機構8を用いているので、ベース台30の下方のモータ類を収容した空間と、この上方の空間とを区画板32で完全に仕切った状態で被処理体の自動搬送を行うことができ、従って、処理時間が短くなってスループットを向上できるのみならず、処理容器4内の雰囲気が、下方のモータ類を収容した空間のパーティクル等を含んだ雰囲気から悪影響を受けることを防止することができる。
<窒素ガスの置換効率>
まず、処理容器内に対する窒素ガスの置換効率について検討した。
本発明装置の紫外線ランプ部材12として40ワットのエキシマ光ランプ(波長:172nm)を4本用い、不活性ガス噴射ノズル16より窒素ガスを毎分25リットル供給してランプハウス室S2内を窒素置換した。そして、次に置換ガス供給ノズル18より窒素ガスを毎分25リットル供給して照射室S1内を窒素置換する時間に対する酸素濃度を酸素濃度計(飯島電子(株))で測定した。また、開放系の石英板の仕切りのある従来装置の酸素濃度を測定した。その結果を図4に示す。図4は本発明装置と従来の開放型装置の窒素ガスの置換効率を示すグラフである。図4より明らかなように、本発明の装置では約2分後に照射室S1内の酸素濃度は0%を示すが、その時、従来の開放型の装置では15%を示しており、本発明の装置が置換効率のよいことがわかる。また、被処理体Wを照射室S1に移動しても酸素0%は変化しなかった。
尚、ここで用いた処理容器4の大きさは、縦横がそれぞれ24cm×26cmで、高さが17cmである。また照射室S1の高さが8cm、ランプハウス室S2の高さが9cmである。
次に、照射室内の温度変化の特性について検討した。図5は本発明の装置と従来の装置(開放型及び密開型)の温度特性を示すグラフである。ここで照射時の温度を白金抵抗型温度計で測定した。図5より明らかなように、本発明の装置では5分間照射しても被処理体の温度は22℃程度を示していた。また置換ガスを空気に換えても温度は22℃であった。これに対して従来の密閉型や開放型の装置では5分間照射すると被処理体の温度は60℃以上になっていた。このように本発明装置は冷却効率が高いことが確認することができた。
次に、有機物の分解程度を検討するために水の接触角について評価を行った。図6は照射時間と水の接触角との関係を示すグラフである。ここでは置換ガスを空気に換えた状態で被処理体にエキシマ光を照射し、水の接触角を測定した。図6より明らかなように、本発明の装置では、30秒程度で接触角は10度になった。密閉型や開放型の従来の装置では、接触角が10度になるのに60秒程度要しており、この点より、本発明装置の方が有機物等をより効率的に洗浄できることが確認できた。
次に、ポリカーボネート樹脂を射出成形するときに発生する内部応力に起因して起こる複屈折の緩和について検討するために複屈折の評価を行った。基板に複屈折があると記録再生のときにレーザスポットの歪みを生じるためにこの複屈折は小さいほうがよい。図7は照射時間と複屈折との関係を示すグラフである。ここでは置換ガスを窒素ガスにして、DWD−RW(記録型DVD)のポリカーボネート樹脂基板(被処理体)にエキシマ光を照射して、複屈折を波長780nmのレーザ光を用いた平行光レターデーション測定方法で測定した。図7より明らかなように、本発明の装置では、複屈折は大幅に減少したが、従来の開放型装置では変化がほとんど見られなかった。この複屈折の減少する理由は、高分子である成形基板樹脂にエキシマ光を照射すると、波長の持つエネルギによって分子結合が切断されて水素脆性を起こして内部応力が緩和されるからである。
また従来の密閉型装置では温度が高くなって基板が反るために複屈折が測定できなかった。これにより、本発明装置の場合には、複屈折が減少したので、温度の影響を受けずに光エネルギが効率良く照射されている、ということが確認できた。
また上記実施例では載置台6は回転可能な構造としたが、これに加えて、この載置台6を上下方向に昇降できるように構成してもよい。
Claims (2)
- 被処理体に紫外線を照射する紫外線照射装置において、
前記被処理体を搬出入する搬出入口を有する処理容器と、
前記被処理体を載置する載置台と、
前記載置台を前記搬出入口を介して前記処理容器の内外に移動させる移動手段と、
前記処理容器内に水平に配置されてその下方に照射室を形成すると共に、該照射室の上方にランプハウス室を形成して前記照射室に位置される前記被処理体に紫外線を照射する紫外線ランプ部材と、
前記紫外線ランプ部材に対して不活性ガスを吹き付けることにより前記紫外線ランプ部材を冷却すると共に、前記照射室と前記ランプハウス室との間に前記不活性ガスの仕切りを形成する不活性ガス供給手段と、
前記不活性ガスを排出させるために前記ランプハウス室側の処理容器の区画壁に設けたガス排気口と、
を備えたことを特徴とする紫外線照射装置。 - 前記移動手段は、前記載置台を磁気力で回転させつつスライド移動させるマグネットスライダ機構よりなることを特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置。
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2004
- 2004-02-17 JP JP2004040636A patent/JP2005235869A/ja active Pending
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