JP2015213079A - 蓄電装置 - Google Patents
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Abstract
且つ耐久性の高い蓄電装置を作製する。
【解決手段】集電体の一表面にぬれ性の高い領域及びぬれ性の低い領域を形成し、ぬれ性
の高い領域に、シリコン、ゲルマニウム、またはスズを含む組成物を吐出した後焼成して
、集電体表面に分離した活物質を形成する蓄電装置用電極の作製方法である。充放電によ
る劣化の少ない蓄電装置用電極を作製することができる。
【選択図】図1
Description
。
われている。
質としては、例えば炭素又はシリコンなどのキャリアとなるイオンの吸脱着が可能な材料
が用いられる。例えばシリコンは、炭素に比べ、理論容量が大きく、蓄電装置の大容量化
という点において優れている。しかしながら、シリコンは、充電時においては、体積膨張
により応力が生じるため、例えば集電体から活物質が剥離してしまい、蓄電装置の充放電
サイクル特性が悪化してしまう。このため、活物質の体積膨張による影響を緩和する技術
がいくつか提案されている(例えば特許文献1)。
する。または、本発明の一態様では、容量が大きく、且つ耐久性の高い蓄電装置を作製す
ることを課題とする。
ぬれ性の高い領域に、シリコン、ゲルマニウム、またはスズを含む組成物を吐出した後焼
成して、集電体表面に分離した活物質を形成することを特徴とする蓄電装置用電極の作製
方法である。
低い領域を形成した後、光触媒層に光を照射して、ぬれ性の低い領域以外の光触媒層を活
性化させて、ぬれ性の高い領域を形成し、当該ぬれ性の高い領域に、シリコン、ゲルマニ
ウム、またはスズを含む組成物を吐出した後焼成して、集電体表面に分離した活物質を形
成することを特徴とする蓄電装置用電極の作製方法である。
に分離された絶縁部材を形成し、当該絶縁部材上に上記集電体を形成してもよい。
本発明のいずれかを用いて負極を作製する蓄電装置の作製方法である。
る。また、本発明の一態様により、容量が大きく、且つ耐久性の高い蓄電装置を作製する
ことができる。
の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細
を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示
す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではないとする。なお、説明中に図面
を参照するにあたり、同じものを指す符号は異なる図面間でも共通して用いる場合がある
。また、同様のものを指す際には同じハッチパターンを使用し、特に符号を付さない場合
がある。
本実施の形態では、本発明の一態様である蓄電装置用電極及びその作製方法について説明
する。
の一表面上に設けられたぬれ性の低い領域113、ぬれ性の低い領域113の間に位置す
るぬれ性の高い領域115と、ぬれ性の高い領域115上に形成される活物質119とを
有する。なお、集電体103は基板101上に形成されている。ぬれ性の高い領域115
の外縁にぬれ性の低い領域113が形成される。即ち、集電体103表面においてぬれ性
の高い領域115は分散して位置する。
きる。なお、プラスチックとしては、FRP(Fiberglass−Reinforc
ed Plastics)板、PVF(ポリビニルフルオライド)フィルム、ポリエステ
ルフィルム、またはアクリル樹脂フィルム等を用いることができる。または、基板101
としてチタン、銅、ニッケル、タングステン、モリブデン等の金属シートを適宜用いるこ
とができる。
可能な材料を用いて形成する。このような材料の代表例としては、酸化物導電材料があり
、酸化物導電材料の代表例としては、酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タ
ングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタ
ンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、または酸化
シリコンを添加したインジウム錫酸化物等がある。集電体103の厚さは、100nm以
上10μm以下が好ましい。
り、集電体103の表面にフッ素基を有する領域である。集電体103の表面にフッ素基
を有する領域では、流動性を有する組成物がはじかれる。
りぬれ性が高められた領域であり、集電体103の表面に水酸基を有する。集電体103
の表面に水酸基を有する領域では、流動性を有する組成物が広がる。または、ぬれ性の高
い領域115は集電体103の表面処理、代表的には集電体103を活性化させることが
可能な波長の光またはレーザ光を適宜選択して照射することにより、酸化物導電材料の表
面において光化学反応が生じ、ぬれ性が高められた領域である。このため、当該領域にお
いて流動性を有する組成物が広がる。
物に対して、ぬれ性が低い表面を有する領域をぬれ性の低い領域といい、逆に流動性を有
する組成物に対して、ぬれ性の高い表面を有する領域をぬれ性の高い領域という。ぬれ性
の高い領域では、流動性を有する組成物の接触角が小さいため、表面上で流動性を有する
組成物は広がる。また、ぬれ性の低い領域は、流動性を有する組成物の接触角が大きいた
め、流動性を有する組成物をはじく。
及びゲルマニウムの結晶構造は、非晶質構造、多結晶構造、単結晶構造、微結晶構造を適
宜用いることができる。活物質119として、シリコン、ゲルマニウム、スズ等を用いる
ことで、蓄電装置の容量を非常に大きくすることが可能である。活物質119の高さは1
μm以上10μm以下が好ましい。
3aの一表面上に設けられたぬれ性の低い領域113a、ぬれ性の低い領域113aの間
に位置するぬれ性の高い領域115aと、ぬれ性の高い領域115a上に形成される活物
質119とを有する。ぬれ性の高い領域115aの外縁にぬれ性の低い領域113aが形
成される。即ち、集電体103a表面においてぬれ性の高い領域115aは分散して位置
する。
酸化物半導体となる材料を用いて形成する。このような材料の代表例としては、チタン、
亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、タングステン、スズ、インジウム、バナジウム等がある。
集電体103aの厚さは、100nm以上10μm以下が好ましい。
体103a単独で形状保持できるため、図1(D)に示すように、基板101を用いる必
要はない。
面にフッ素基を有する領域である。集電体103aが酸化された金属酸化物としては、酸
化物半導体である酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸
化タングステン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化バナジウム等がある。酸化チタンの結
晶構造としては、アナターゼ型、ルチル型、またはこれらの混合物を用いることができる
。
である。集電体103aが酸化された酸化物半導体である、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化
ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化スズ、酸化インジウム、
酸化バナジウム等は、光の照射により、表面のぬれ性が高くなる。
3bの一表面上に設けられた光触媒層127と、光触媒層127の表面に形成されるぬれ
性の低い領域113b、複数のぬれ性の低い領域113bの間に位置するぬれ性の高い領
域115bと、ぬれ性の高い領域115b上に形成される活物質119とを有する。ぬれ
性の高い領域115bの外縁にぬれ性の低い領域113bが形成される。即ち、光触媒層
127表面においてぬれ性の高い領域115bは分散して位置する。
する。負極の集電体として用いることが可能な導電性材料としては、ステンレス、銅、ニ
ッケル等があるが、これに限定されない。集電体103bの厚さは、100nm以上10
μm以下が好ましい。
体103a単独で形状保持できるため、基板101を用いる必要はない。
酸化タングステン、酸化スズ、チタン酸ストロンチウムなどのチタン酸塩)、タンタル酸
塩、ニオブ酸塩、硫化カドミウム、硫化亜鉛(ZnS)、セレン化カドミウム(CdSe
)、タンタル酸カリウム等がある。
ることができる。また、光触媒層として、金属や窒素をドーピングした酸化チタンを用い
ることができる。金属としては、白金、銅、クロム、銀、バナジウム、コバルト、亜鉛、
ロジウム、パラジウム、金等がある。金属や窒素をドーピングした酸化チタンを用いて光
触媒層を形成することにより、紫外線ではなく、可視光、代表的には太陽光を用いて光触
媒層127を活性化することが可能である。
極の電気伝導度を低減することができる。光触媒層127の厚さは、50nm以上100
nm以下が好ましい。
であり、光触媒層127の表面にフッ素基を有する領域である。
高い領域である。
の高い領域において、選択的に活物質を形成することで、充電によりリチウムイオンが活
物質に挿入され、リチウム及び活物質の合金が形成され、体積が膨張しても、活物質同士
が接触しにくくなり、活物質の剥れやしわを低減することができる。この結果、蓄電装置
の充放電サイクル特性の悪化を低減することができ、耐久性の高い蓄電装置を作製するこ
とができる。
。
パッタリング法、蒸着法、印刷法、インクジェット法、CVD法等を適宜用いて形成する
ことができる。
基が結合し、図2(B)に示すように、集電体103の表面にぬれ性の高い領域107を
形成することができる。なお、酸素プラズマ105の代わりに集電体103を活性化させ
ることが可能な波長の光またはレーザ光を適宜選択して照射しても、ぬれ性の高い領域1
07を形成することができる。
する。マスク109は、フォトリソグラフィ、インクジェット法、印刷法等適宜用いて形
成することができる。
れ性の高い領域107が形成されているが、ぬれ性の高い領域107のうちマスク109
で覆われていない領域がフッ素プラズマ111に曝されることにより、当該領域の集電体
103の表面にフッ素基が結合する。この結果、フッ素プラズマ111に曝された領域は
ぬれ性の低い領域113となる(図2(D)参照)。
出する。シリコン、ゲルマニウム、またはスズを含む組成物は、インクジェット法により
吐出することができる。シリコン、ゲルマニウム、またはスズを含む組成物は、代表的に
は、シリコン粒子、ゲルマニウム粒子、またはスズ粒子が溶媒に分散された組成物、水素
及びシリコンからなる高次シラン化合物または水素及びゲルマニウムからなる高次ゲルマ
ン化合物を有機溶剤に溶解させた組成物等がある。
ニウム、またはスズを含む組成物に含まれる溶媒を蒸発すると共に、シリコン、ゲルマニ
ウム、またはスズを溶融して活物質119を形成することができる(図2(E)参照。)
。
、集電体103と同様の作製方法を適宜用いて形成する。または、箔状、板状、網状等の
集電体103aを用いることができる。
化され、金属酸化物層が形成される。当該金属酸化物層は酸化物半導体で形成され、光触
媒層121として機能する(図3(B)参照。)。
する。
されることにより、マスク109で覆われていない領域の光触媒層121の表面にフッ素
基が結合する。この結果、フッ素プラズマ111に曝された領域はぬれ性の低い領域11
3aとなる(図3(D)参照)。
に曝されていない光触媒層121が露出される。次に、光触媒層121に光123を照射
して、ぬれ性の高い領域115aを形成する。なお、光123は、光触媒層121を活性
化させることが可能な波長の光を適宜選択すればよい。また、光触媒層121を活性化さ
せることが可能な波長のレーザ光を照射してもよい。代表的には、光触媒層121が酸化
チタンで形成される場合は、光123として紫外線を用いればよい。また、光触媒層12
1がCdSの場合は、光123として可視光を用いればよい。
またはスズを含む組成物を吐出する。この後、シリコン、ゲルマニウム、またはスズを含
む組成物を、焼成して、活物質119を形成することができる。
状、網状等の集電体103bを用いることができる。
グ法、プラズマCVD法、蒸着法、ゾルゲル法、逆相ミセル法、電気泳動法、スプレー法
等を適宜用いて形成する。
する。
されることにより、マスク109で覆われていない領域の光触媒層127の表面にフッ素
基が結合する。この結果、フッ素プラズマ111に曝された領域はぬれ性の低い領域11
3bとなる(図4(C)参照)。
に曝されていない光触媒層127が露出される。次に、光触媒層127に光123を照射
して、ぬれ性の高い領域115bを形成する(図4(E)参照)。次に、ぬれ性の高い領
域115bにシリコン、ゲルマニウム、またはスズを含む組成物を吐出する。この後、シ
リコン、ゲルマニウム、またはスズを含む組成物を、焼成して、活物質119を形成する
ことができる(図4(F)参照。)。
選択的に形成する。次に、ぬれ性の高い領域にシリコン、ゲルマニウム、またはスズを含
む組成物を吐出した後、焼成することで、活物質を分散して形成することができる。この
ため、蓄電装置の充電によるリチウム及び活物質の合金化に伴う体積膨張が生じても、活
物質同士が接触しないため、活物質の剥れやしわを低減することができる。この結果、蓄
電装置の充放電サイクル特性の悪化を低減することができ、耐久性の高い蓄電装置を作製
することができる。
本実施の形態では、実施の形態1と異なる蓄電装置の電極及びその作製方法について説明
する。
、集電体103cの一表面上に設けられたぬれ性の低い領域113cと、ぬれ性の低い領
域113cの間に位置するぬれ性の高い領域115cと、ぬれ性の高い領域115c上に
形成される活物質119とを有する。ぬれ性の高い領域115cは、集電体103cの凸
部の上面に形成される。ぬれ性の高い領域115cの外縁にぬれ性の低い領域113cが
形成される。即ち、集電体103c表面においてぬれ性の高い領域115cは分散して位
置する。なお、ここでは、集電体103cにおいて活物質119が形成されない面を基準
としてみているため、活物質119が形成される領域を凸部と示すが、活物質119が形
成される面を基準とすると、活物質119が形成されない領域を凹部と示すことができる
。
ができる。ぬれ性の低い領域113cは、集電体103cの表面処理によりぬれ性が低減
された領域であり、集電体103cの表面にフッ素基を有する領域である。ぬれ性の高い
領域115cは、集電体103cの表面処理によりぬれ性が高められた領域であり、集電
体103cの表面に水酸基を有する。または、集電体103cの表面処理、代表的には集
電体103cを活性化させることが可能な波長の光またはレーザ光を適宜選択して照射す
ることにより、酸化物導電材料の表面において光化学反応が生じ、ぬれ性が高まる領域で
ある。
基板101及び絶縁部材131上に形成される集電体103dと、集電体103dの一表
面上に設けられたぬれ性の低い領域113dと、ぬれ性の低い領域113dの間において
分散して形成されるぬれ性の高い領域115dと、ぬれ性の高い領域115d上に形成さ
れる活物質119とを有する。なお、ぬれ性の高い領域115dは、絶縁部材131と重
畳する。
積層を用いることができる。酸素化合物の代表例としては、酸化シリコン、酸化窒化シリ
コン等がある。窒素化合物の代表例としては、窒化シリコン、窒化酸化シリコン等がある
。また、ポリイミド、ポリアミド、BCB(ベンゾシクロブテン)、アクリルなどの有機
樹脂を用いることができる。また、シロキサン、ポリシラザン等を用いることができる。
絶縁部材131の厚さは100nm以上2μmとすることが好ましい。
ができる。集電体103dの厚さは100nm以上5μm以下とすることが好ましい。こ
こでは、絶縁部材131により集電体103dを凹凸状にすることができるため、集電体
103dの厚さを薄くすることが可能であり、コスト削減ができる。
であり、集電体103dの表面にフッ素基を有する領域である。ぬれ性の高い領域115
dは、集電体103dの表面処理によりぬれ性が高められた領域であり、集電体103d
の表面に水酸基を有する。または、集電体103dの表面処理、代表的には集電体103
dを活性化させることが可能な波長の光またはレーザ光を適宜選択して照射することによ
り、酸化物導電材料の表面において光化学反応が生じ、ぬれ性が高まる領域である。
。
集電体103の一部をエッチングするため、集電体103の厚さは厚いほうが好ましく、
代表的には、100nm以上10μm以下である。
電体103の表面にぬれ性の高い領域107を形成する。
うに、凸部を有する集電体103cを形成する。ここでは、集電体103cが分離しない
ように、且つ凸部が分散するように、集電体103をエッチングする。ここでは、集電体
103の表面を50nm以上500nm以下エッチングして、凸部を形成する。この結果
、ぬれ性の高い領域107もエッチングされ、集電体103cの凸部の上面にのみ、ぬれ
性の高い領域115cが残存する。
されることにより、マスク109で覆われていない領域の集電体103cの表面にフッ素
基が結合する。この結果、フッ素プラズマ111に曝された領域はぬれ性の低い領域11
3cとなる(図6(D)参照)。
ぬれ性の高い領域115cにシリコン、ゲルマニウム、またはスズを含む組成物を吐出す
る。組成物は、インクジェット法により吐出することができる。この後、シリコン、ゲル
マニウム、またはスズを含む組成物を、焼成して、活物質119を形成することができる
(図6(E)参照。)。
が、図3及び図4の蓄電装置の電極の作製方法を適宜適用することができる。即ち、図3
に示す集電体103aを、図6(C)のように凸部を有する集電体とすることができる。
また、図4に示す集電体103bを、図6(C)のように凸部を有する集電体とすること
ができる。
材は、インクジェット法、印刷法等を適宜用いて、絶縁材料を含む組成物を選択的に配置
した後、焼成して形成することができる。または、スパッタリング法、CVD法、塗布法
等により基板101上に絶縁層を形成した後、フォトリソグラフィ工程により形成したマ
スクを用いて上記絶縁層の一部をエッチングして、形成することができる。
、集電体103と同様に形成することができる。
の結果、集電体103dの表面にぬれ性の高い領域107を形成する。
る。
、ぬれ性の高い領域107が形成されているが、ぬれ性の高い領域107のうちマスク1
09で覆われていない領域がフッ素プラズマ111に曝されることにより、当該領域の集
電体103dの表面にフッ素基が結合する。この結果、フッ素プラズマ111に曝された
領域はぬれ性の低い領域113dとなる。
D)参照)。次に、ぬれ性の高い領域115dにシリコン、ゲルマニウム、またはスズを
含む組成物を吐出する。組成物は、インクジェット法により吐出することができる。この
後、シリコン、ゲルマニウム、またはスズを含む組成物を、焼成して、活物質119を形
成することができる(図7(E)参照。)。
が、適宜図3及び図4の蓄電装置の電極の作製方法を適用することができる。即ち、図3
に示す基板101及び集電体103aの間に、図7のように分離する絶縁部材を形成する
ことができる。また、図4に示す基板101及び集電体103bの間に、図7のように分
離する絶縁部材を形成することができる。
と共に、ぬれ性の高い領域の外縁にぬれ性の低い領域を形成する。次に、ぬれ性の高い領
域にシリコン、ゲルマニウム、またはスズを含む組成物を吐出した後、焼成することで、
活物質を分散して形成することができる。また、活物質は集電体の凸部の表面に形成され
るため、蓄電装置の充電によるリチウム及び活物質の合金化に伴う体積膨張が生じても、
活物質同士が接触しないと共に、活物質が集電体側に膨張しても、活物質が剥れにくい。
この結果、蓄電装置の充放電サイクル特性の悪化を低減することができ、耐久性の高い蓄
電装置を作製することができる。
本実施の形態では、蓄電装置の構造について、図8を用いて説明する。
池は、容量が高く、安全性が高い。ここでは、二次電池の代表例であるリチウムイオン電
池の構造について、説明する。
図8(B)に示す。
また、蓄電セル155に接続する端子部157、159を有する。外装部材153は、ラ
ミネートフィルム、高分子フィルム、または金属フィルム、金属ケース、プラスチックケ
ース等を用いることができる。
及び正極165の間に設けられるセパレータ167と、外装部材153、蓄電セル155
及びセパレータ167中に満たされる電解質169とで構成される。
171及び負極活物質173の間にはぬれ性の高い領域174が形成される。また、負極
集電体171の表面において、ぬれ性の高い領域174の外縁にぬれ性の低い領域176
が形成される。
正極集電体175の一方の面に形成される。
部159と接続する。また、端子部157、159は、それぞれ一部が外装部材153の
外側に導出されている。
、ボタン型蓄電装置、円筒型、角型等様々な形状の蓄電装置を用いることができる。また
、本実施の形態では、正極、負極、及びセパレータが積層された構造を示したが、正極、
負極、及びセパレータが捲回された構造であってもよい。
。
。
、板状、網状等の形状を適宜用いることができる。
iFePO4、LiCoPO4、LiNiPO4、LiMn2PO4、V2O5、Cr2
O5、MnO2、その他の材料を適宜用いることができる。
する材料を用いる。電解質の溶質の代表例としては、LiClO4、LiAsF6、Li
BF4、LiPF6、Li(C2F5SO2)2N等のリチウム塩がある。
質169の溶媒としては、非プロトン性有機溶媒が好ましい。非プロトン性有機溶媒の代
表例としては、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート
、ジエチルカーボネート、γーブチロラクトン、アセトニトリル、ジメトキシエタン、テ
トラヒドロフラン等があり、これらの一つまたは複数を用いることができる。また、電解
質169の溶媒としてゲル化される高分子材料を用いることで、漏液性を含めた安全性が
高まる。また、蓄電装置151の薄型化及び軽量化が可能である。ゲル化される高分子材
料の代表例としては、シリコンゲル、アクリルゲル、アクリロニトリルゲル、ポリエチレ
ンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、フッ素系ポリマー等がある。
ルロース(紙)、ポリエチレン、ポリプロピレン等がある。
また、動作電圧が高い。これらのため、小型化及び軽量化が可能である。また、充放電の
繰り返しによる劣化が少なく、長期間の使用が可能であり、コスト削減が可能である。
、二重層キャパシタ、リチウムイオンキャパシタ等がある。
イオン及び/またはアニオンを可逆的に吸脱着できる材料を用いればよい。正極活物質1
77の代表例としては、活性炭、導電性高分子、ポリアセン有機半導体(PAS)がある
。
利用による寿命も長い。表示パネルは、書き込み電圧が高く、また書込み後は電力を必要
としないため、急速放電が可能なリチウムイオンキャパシタを用いることが好ましい。
低減された、耐久性の高い蓄電装置を作製することができる。
Claims (8)
- 基板上方の、第1の絶縁部材および第2の絶縁部材と、
前記第1の絶縁部材上方および前記第2の絶縁部材上方の、集電体と、
前記集電体上方の、第1の活物質および第2の活物質と、を有し、
前記第1の活物質は、前記第1の絶縁体と重なる領域を有し、
前記第2の活物質は、前記第1の絶縁体と重なる領域を有する蓄電装置。 - 請求項1において、
前記第1の絶縁部材および前記第2の絶縁部材は、離れて設けられている蓄電装置。 - 請求項1または請求項2において、
前記集電体は、導電性酸化物を有する蓄電装置。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
前記集電体は、チタン、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、タングステン、スズ、インジウム、バナジウムのいずれかを含む蓄電装置。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
前記第1の活物質および前記第2の活物質は、シリコン、ゲルマニウム、スズのいずれかを含む蓄電装置。 - 請求項1乃至請求項5のいずれか一において、
前記集電体の第1の領域は、前記集電体の第2の領域よりも水酸基を多く有し、
前記第1の領域は、前記第1の絶縁部材と重なる領域を有し、
前記第2の領域は、前記第1の絶縁部材と、前記第2の絶縁部材の間に位置する蓄電装置。 - 請求項6において、
前記第2の領域は、前記第1の領域よりもフルオロ基を多く有する蓄電装置。 - 請求項1乃至請求項7のいずれか一において、
前記第1の活物質および前記第2の活物質は、離れて設けられている蓄電装置。
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