JP2015179788A - 透明基板 - Google Patents
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Abstract
Description
ガラス基板の成形工程では、所望の光学特性を備えたガラス組成からなるガラス板を用意し、外形寸法が最終形状(つまり、透明基板10の形状)と略同一となるように、公知の切断方法にて切断する。切断方法は、ダイヤモンドカッターにて切断線を刻設した後に折り割りする方法や、ダイシング装置にて切断する方法がある。なお、この工程で用いるガラス板は、ラッピングなどの粗研磨によって、最終形状に近い板厚寸法まで加工されたものを用いてもよい。ガラス板が切断されると、洗浄され、ガラス基材101が得られる。
Cr薄膜の形成工程では、ガラス基材101上に、スパッタリング法や真空蒸着法等によって、遮光膜102のベースとなる、膜厚約0.1μmのCr薄膜を形成する。
レジストコート・ベーキング工程では、Cr薄膜の表面に、フォトレジストを塗布し、所定の時間ベーキングを行う。フォトレジストは、紫外又は赤外の波長領域の光によって溶解性が変化するものであればよく、特に材料は制限されない。また、フォトレジストの塗布方法としては、周知のスピンコート法、ディップコート法等を適用することができる。
露光・レジスト現像工程では、先ず、遮光膜102、裁断用マーク103、指標104a〜104f、指標105a〜105fがパターンニングされたフォトマスク(不図示)を介して、フォトレジストに光を照射する。そして、フォトレジストに応じた現像液を用いて、フォトレジストを現像し、遮光膜102、裁断用マーク103、指標104a〜104f、指標105a〜105fのパターンに応じたレジストを形成する。
パターンニング工程では、Cr剥離剤に浸漬して、レジストが形成されていない部分のCr薄膜をエッチングし、Cr薄膜によって遮光膜102、裁断用マーク103、指標104a〜104f、指標105a〜105fのパターンを形成する。
レジスト剥離工程では、アルコール等のレジスト剥離剤に浸漬して、レジストを剥離する。これによって、ガラス基材101上には、遮光膜102、裁断用マーク103、指標104a〜104f、指標105a〜105fが形成され、カバーガラス100が多面付けされたものとなる。
検査工程では、ガラス基材101上に面付けされた各カバーガラス100について、遮光膜102の厚さや形状等、様々な項目について検査され、良品又は不良品の判断が行われる。そして、良品及び不良品の判断結果は、指標104a〜104f及び指標105a〜105fで特定されるカバーガラス100の番地情報(つまり、二次元の座標)と、ガラス基材101上に刻印されたシリアル番号SNと共にデータ管理され、不良品と判断されたカバーガラス100が、裁断された後に使用されることがないようになっている。なお、検査工程において不良と判断されたカバーガラス100については、誤って使用されることがないように、スタンプや刻印等でマーキングを行ってもよい。
図6に示すように、本変形例の透明基板10Aは、ガラス基材101Aの左上隅が斜めに切り欠かれ、切欠部110Aが形成されている点で本実施形態の透明基板10と異なる。また、本変形例の透明基板10Aにおいては、カバーガラス100の面付け位置(つまり、二次元の座標)を示す指標104a〜104fと、指標105a〜105fが設けられていない点で本実施形態の透明基板10と異なる。
図7に示すように、本変形例の透明基板10Bは、カバーガラス100の行方向と平行なオリエンテーションフラット110Bが形成された略円盤状のガラス基材101Bから構成されており、48個のカバーガラス100が多面付けされている点で本実施形態の透明基板10と異なる。また、本変形例の透明基板10Bにおいては、第1の変形例の透明基板10Aと同様、カバーガラス100の面付け位置(つまり、二次元の座標)を示す指標104a〜104fと、指標105a〜105fが設けられていない点で本実施形態の透明基板10と異なる。
図8に示すように、本変形例の透明基板10Cは、第2の変形例のオリエンテーションフラット110Bに代えて、カバーガラス100の列方向を示すノッチ110Cが形成されている点で第2の変形例の透明基板10Bと異なる。
10、10A、10B、10C 透明基板
100 カバーガラス
101、101A、101B、101C ガラス基材
101a 入射面
101b 出射面
102 遮光膜
103 裁断用マーク
104a、104b、104c、104d、104e、104f 指標
105a、105b、105c、105d、105e、105f 指標
110A 切欠部
110B オリエンテーションフラット
110C ノッチ
200 固体撮像素子
300 パッケージ
Claims (16)
- 光が入射する入射面と、該入射面に入射した光が透過して出射される出射面とを表裏に備え、複数の光学素子が多面付けされた透明基板であって、
前記各光学素子は、
前記光が透過可能な透光部と、
前記入射面及び前記出射面の少なくとも一方の面上に、前記透光部の外周を枠状に取り囲むように形成され、前記光の一部を遮光する遮光部と、
を備えることを特徴とする透明基板。 - 前記複数の光学素子が、二次元格子状に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の透明基板。
- 前記遮光部は、金属又は樹脂の薄膜によって形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の透明基板。
- 前記光学素子は、固体撮像素子の光路中に配置される部材であり、
前記透光部の面積が、前記固体撮像素子の受光面の面積よりも大きいことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の透明基板。 - 前記光学素子は、前記固体撮像素子を収容するパッケージの前面に配置されるカバーガラス、前記固体撮像素子に入射する光から近赤外線を除去する近赤外線カットフィルタ、又は前記固体撮像素子に入射する光から高い空間周波数を含む光を除去する光学ローパスフィルタであることを特徴とする請求項4に記載の透明基板。
- 前記透明基板が、ガラス製のガラス基板であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の透明基板。
- 前記ガラス基板が、Cu2+を含有するフツリン酸塩系ガラス、又はCu2+を含有するリン酸塩系ガラスからなる近赤外線吸収ガラスであることを特徴とする請求項6に記載の透明基板。
- 前記透明基板は、前記複数の光学素子が形成された素子形成部と、該素子形成部の外周を枠状に取り囲むように形成された枠部と、を有し、
前記枠部には、前記複数の光学素子を個々に分離するための第1の指標が設けられていることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の透明基板。 - 前記各光学素子は、隣接する光学素子との間に所定の隙間を空けて配置されており、
前記第1の指標が、前記隙間の位置に応じて配置されていることを特徴とする請求項8に記載の透明基板。 - 前記枠部には、前記素子形成部における前記各光学素子の位置を二次元の座標で示すことが可能な第2の指標が設けられていることを特徴とする請求項8又は請求項9に記載の透明基板。
- 前記第2の指標は、前記各光学素子の行方向の位置を示す指標と、列方向の位置を示す指標とで構成されていることを特徴とする請求項10に記載の透明基板。
- 前記枠部には、前記透明基板を個々に識別可能な第3の指標が設けられていることを特徴とする請求項8から請求項11のいずれか一項に記載の透明基板。
- 前記第3の指標は、前記各透明基板に固有のシリアル番号であることを特徴とする請求項12に記載の透明基板。
- 前記透明基板は、平面視において、非点対称な形状を有することを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか一項に記載の透明基板。
- 前記透明基板は、前記複数の光学素子を覆う機能膜を更に備えることを特徴とする請求項1から請求項14のいずれか一項に記載の透明基板。
- 前記機能膜は、反射防止、赤外線カット、紫外線カットの少なくとも1つ以上の機能を有する光学薄膜であることを特徴とする請求項15に記載の透明基板。
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