JP2015153844A - 発光装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】発光装置の小型化を達成しつつ、保護素子による光取り出し効率の低下を抑制可能な発光装置を提供する。【解決手段】 基体40と、基体40の表面に第1の導電性接合部材30を介して載置されることで、基体40の表面との間に隙間を有するように載置された発光素子10と、基体40に第2の導電性接合部材32を介して載置された保護素子60と、を備え、保護素子60は、隙間に配置されており、保護素子60を被覆するように、隙間に光反射性樹脂80が配置されていることを特徴とする発光装置。【選択図】図1

Description

本発明は、発光装置に関する。
発光装置は、静電気や高電圧サージによる発光素子の破壊を防止するためツェナーダイオード等の保護素子を備えることがある。このような保護素子は反射率が低く発光効率の低下に繋がることから、保護素子を反射層で覆うことにより発光効率の低下を防ぐ構造が知られている。(特許文献1)
また、保護素子の実装領域の負担を減らそうと、基材本体に保護素子を内蔵したり(特許文献2)、基材に凹部を設け、保護素子を凹部に配置し、その上方に発光素子を配置する構造も考案されている(特許文献3)。
特開2012−174979号公報 特開2013−122951号公報 韓国登録特許第10−0769720号公報 特開2014−26993号公報
特許文献1の構造では発光素子と保護素子が隣位置に実装されていることから、全体の素子実装領域としては発光素子と保護素子の合計の面積となるため、発光装置の小型化が図れないという問題があった。
また、特許文献2では回路基材の両面にそれぞれ発光素子と保護素子を実装するため製造工程が煩雑となる。
また、特許文献3では基材の凹部分に樹脂が充填されにくい構造となっており、樹脂内に空隙を生じやすくなることがあるという問題があった。特許文献4では、定電圧ダイオードにより発光素子の光が吸収されてしまい、光取り出し効率が低下するという問題があった。
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、発光装置の小型化を達成しつつ、保護素子による光取り出し効率の低下を抑制可能な発光装置を提供することを目的とする。
前記課題を解決するため、本発明の発光装置は、基体と、基体の表面に第1の導電性接合部材を介して載置されることで、基体の表面との間に隙間を有するように載置された発光素子と、基体に第2の導電性接合部材を介して載置された保護素子と、を備え、保護素子は、前記隙間に配置されており、保護素子を被覆するように、前記隙間に光反射性樹脂が配置されていることを特徴とする。
また、本発明の発光装置は、基体と、基体の表面に第1の導電性接合部材を介して載置された発光素子と、基体に第2の導電性接合部材を介して前記発光素子の下方に載置された保護素子と、を備え、第1の導電性接合部材の高さは、保護素子の高さよりも高いことを特徴とする。
本発明によれば、発光装置の小型化を達成しつつ、保護素子による光取り出し効率の低下を抑制可能な発光装置を提供することができる。
実施形態に係る発光装置を示す模式断面図である。 実施形態に係る発光装置を示す模式平面図である。 実施形態に係る発光装置に用いる第1の導電性接合部材の模式断面図である。 実施形態に係る発光装置の製造方法を説明する模式断面図である。 実施形態に係る発光装置の製造方法を説明する模式断面図である。 実施形態に係る発光装置の製造方法を説明する模式平面図である。 第2の実施形態に係る発光装置を示す模式断面図である。 第3の実施形態に係る発光装置を示す模式断面図である。 第4の実施形態に係る発光装置を示す模式断面図である。
本願においては、各図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするため誇張していることがある。以下の説明において、同一の名称、符号については同一又は同質の部材を示しており、詳細説明を適宜省略する。一実施例及び一実施形態において説明された内容は、他の実施例及び実施形態等に利用可能である。
本発明の実施形態に係る発光装置は、基体と、発光素子と、保護素子と、第一の導電性接合部材と、第二の導電性接合部材と、光反射性樹脂とを備える。この発光装置は、サイドビュータイプ及びトップビュータイプのいずれでもよいが、特にトップビュータイプの発光装置とすることが好ましい。
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照しながら説明する。各図面は模
式図であり、そこに示された配置、寸法、比率、形状等は実際と異なる場合がある。
(第1の実施形態)
図1は、本件発明の第1の実施形態に係る発光装置100の模式断面図である。図2は図1の発光装置100の発光素子10近傍を平面視した模式平面図である。
本実施形態に係る発光装置100は、基体40の表面及び内部に導体配線50a、50bを有しており、基体40の表面と発光素子10の下面との間に一定の隙間を維持することができる第1の導電性接合部材30が配置されており、導体配線50a、50bと前記発光素子10との隙間に保護素子60と、保護素子60を被覆するように、隙間に充填された光反射性樹脂80とを有している。
発光素子10の直下に保護素子60が位置していることから、全体の素子実装領域を発光素子の実装領域内に抑えることができる。
さらに基体40の同一面上に発光素子10と保護素子60を載置するため、製造工程が簡易になる。
また、保護素子60を配置する箇所が凹構造ではないため、光反射性樹脂などの樹脂充填においても空隙を生じにくくなっている。
以下、発光装置の構成部材について詳述する。
(基体40)
発光装置は、発光素子を載置するための基体を備えている。
基体は、通常、ガラスエポキシ、樹脂、セラミックス(HTCC、LTCC)などの絶縁性材料、絶縁性材料と金属部材との複合材料等によって形成される。基体は、耐熱性及び耐候性の高いセラミックス又は熱硬化性樹脂を利用したものが好ましい。セラミックス材料としては、アルミナ、窒化アルミニウム、ムライトなどが挙げられる。これらのセラミックス材料に、例えば、BTレジン、ガラスエポキシ、エポキシ系樹脂等の絶縁性材料を組み合わせて形成された基体でもよい。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、トリアジン誘導体エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、アクリレート樹脂、ウレタン樹脂などを利用することができる。なかでも、トリアジン誘導体エポキシ樹脂を用いることがより好ましい。
基体の形状は特に限定されるものではなく、表面が平坦な板状体、このような板状体の上に、図1に示すように傾斜面を有するリフレクタ様の部位が配置又は一体的に成形されたもの等のいずれであってもよい。ただし、リフレクタ様の部位は、板状体である基体と同じ材料で形成されていてもよいし、異なる材料で形成されていてもよい。傾斜面を形成することにより、発光素子から横方向に出射される光を上方に効率的に取り出すことができる。
基体は、通常、その表面及び/又は内部に発光素子と接続される導体配線を有する。導体配線としては、基体に配置される配線パターン及びリードフレームなどが挙げられる。配線パターンは、銅、アルミニウム、金、銀、タングステン、鉄、ニッケル等の金属又は鉄−ニッケル合金、燐青銅等の合金等によって形成することができる。また、配線パターンが表面に配置される場合には、載置される発光素子からの光を効率よく取り出すために、その表面に反射メッキが施されていてもよい。また、配線パターンは、基体表面又は内部において、屈曲、変形していてもよい。配線パターンの厚みは、例えば、数μmから数百μmが挙げられる。
リードフレームは、例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、銅合金、ステンレス鋼、インバー合金等によって形成することができる。異種の金属をクラッドしたクラッド材であってもよい。これらのリードフレームは、表面を金、銀、ニッケル、パラジウム又はそれらの合金などでメッキすることが好ましい。リードフレームの厚みは、例えば、数十μm〜1000μmが挙げられる。
このような基体は、当該分野で公知であり、発光素子等が実装されるために使用される基体のいずれをも用いることができる。
なお、導体配線は、発光素子と電気的に接続されるもののみならず、発光素子又は保護素子を載置する、放熱性を向上させる、保護素子と電気的に接続されるなど、他の機能を付与するためにも利用することができる。従って、基体は、正負一対の導体配線のみならず、さらに導体配線に相当するパターンを1つ以上有していてもよい。
(発光素子10)
本発明で用いられる発光素子は、いわゆる発光ダイオードと呼ばれる素子を意味する。なかでも、基板上に、InN、AlN、GaN、InGaN、AlGaN、InGaAlN等の窒化物半導体、III−V族化合物半導体、II−VI族化合物半導体等、種々の半導体による発光層を含む積層構造が形成されたものが挙げられる。積層構造形成後に、基板は剥離してもよい。
発光素子は、対向する面に正負電極がそれぞれ形成されたものであってもよく、同一面側に正負電極がともに形成されていてもよい。正負電極は、1つずつ形成されていてもよいし、それぞれ2つ以上形成されていてもよい。
電極は、その材料、膜厚、構造において、特に限定されず、金、銅、鉛、アルミニウム又はこれらの合金を含む単層構造又は積層構造のいずれでもよい。また、各電極の表面には、パッド電極として、Ni、Ti、Au、Pt、Pd、W等の金属又は合金の単層膜又は積層膜を形成してもよい。電極の膜厚は特に限定されないが、なかでも、最終層(最も表面側)にAuが配置され、その膜厚が100nm程度以上であることが好ましい。
発光素子は、第1の導電性接合部材によって上述した基体に固定されている。
同一面側に正負の電極を有する発光素子を用いる場合は、フェイスアップ実装及びフリップチップ実装のいずれの形態でもよいが、フリップチップ実装されていることが好ましい。この場合、図1に示すように、発光素子10の正負電極は導体配線50a、50bと対向するように配置され、第1の導電性接合部材30により接合される。フリップチップ実装とすることにより、第1の導電性接合部材30を介して発光素子10と導体配線50a、50bとの電気的接続をとることができるため、ワイヤーボンドが不要となり、より小型の発光装置とすることができる。
対向する面にそれぞれ正負電極を有する発光素子を用いる場合は、一方の電極が形成された面(以下、第1面又は裏面ということがある)を基体の導体配線に載置し、第1の導電性接合部材によって基体に固定することができる。これによって、裏面に配置された電極を、導体配線に電気的に接続することができる。
他方の電極(以下、第2電極ということがある)が形成された他方の面(以下、第2面又は上面ということがある)は、基体とは反対側に面して配置され、第2電極は、通常、ワイヤを介して導電部材と電気的に接続される。
本発明の発光装置では、発光素子は、1つの発光装置において1つのみ載置されていてもよいが、複数載置されていてもよい。発光素子が複数載置されている場合には、並列、直列又はこれらの組み合わせなど、接続形態は特に限定されない。複数載置することによって発光面積を大きくすることができ、光束を向上させることができる。
(第1の導電性接合部材30)
第1の導電性接合部材は、発光素子の下面と基体との間に隙間を形成可能なものであれば特に限定されない。加熱により容易に接合可能で、加熱後も所定の隙間を維持するために、所定の形状を維持することができるものが好ましい。このような導電性接合部材として、いわゆるCuコアボールを用いることが好ましい。Cuコアボールは球状であるため、
吸着冶具を用いて一括でボールを吸着して載置する方法や、円形上に穴を空けたマスクを用いて振込み式に一括で載置することが容易であり、生産速度を向上させることができる。
第1の導電性接合部材は、発光素子の1つの電極に対して複数配置されていてもよいし、1つの導体配線に対して複数配置されていてもよい。図3は、本実施形態に用いられる第1の導電性接合部材30の模式断面図である。図3に示すように、第1の導電性接合部材は、芯ボール(以下コアとも称する)とコア1の外側に被覆部2を有する。被覆部2が、基体に設けられた導体配線と接続される。この接続は、共晶接合であることが好ましい。第1の導電性接合部材30がボール状の場合は、導体配線側にボールの曲面に対応した凹形状を有することで、Cuコアボールを位置精度良く配置することができる。
また、コアの融点は、被覆部の融点よりも高いことが好ましい。なお、コアは図3のようなボール状に限られず、所望の形状とすることができる。
具体的には、Cuを主成分とするコアを有し、被覆部としてAuとSi、Ge、Snの内少なくとも1種類以上を含む合金を用いることが好ましい。また、コアを取り囲んで所定の下地膜、そして、その上にSn系の皮膜を有するものがさらに好ましい。下地膜としては、Ni、Ni−B、Ni−P等を用いることができる。ここで、Sn系皮膜は、Sn系合金の一層の皮膜であっても良いし、Snと他の合金成分やSn合金の多層皮膜であっても良い。Snと他の合金成分やSn合金との多層皮膜とする場合は、基体の電極上にCuコアボールのバンプを形成するためのリフロー工程において、Snと他の合金成分やSn合金とが溶融拡散し合って、均一な合金層を形成する。
コアの成分は、Cuが主成分(即ち、Cuの含有率が50質量%以上)であることが好ましい。特に、Cu含有率99質量%以上のボール、又はCuとZn、Sn、P、Ni、Au、Mo、Wの内の1種以上との合金のボールである場合は、熱伝導性や電気伝導性に優れるため好ましい。また、共晶接合時の加熱により溶融しないため、隙間を維持することが可能である。Cu含有率が低過ぎると折角のCuの持つ高い熱伝導性や電気伝導性が損なわれてしまう。
コアはボール状であることが好ましく、その直径は、1〜1000μmが好ましい。これより小さいと取り扱いは困難で、現実的な大きさではない。1000μm径より大きいと、発光装置の小型化が困難となる。よって、直径40〜200μmとすることがより好ましい。コア1の高さは、保護素子60の高さよりも高いことが好ましい。
また、被覆部2の厚みとしては1〜50μm程度が好ましく、1〜10μmがさらに好ましい。第1の導電性接合部材の高さは、後述する保護素子の高さよりも高いことが好ましい。そして、被覆部2がSn系である場合、その厚みは1〜50μmであることが好ましい。この範囲より薄いと半田として不十分である。50μmより厚いとCuボールの大きさと比較して厚過ぎて、バンプ形成時に溶融流出して隣接する電極やバンプ等と接触する恐れがある。
本実施形態においては、第1の導電性接合部材により形成された隙間に、光反射性樹脂が充填される。そのため、樹脂の充填経路を確保するように第1の導電性接合部材を配置することが好ましい。例えば、図2に示すように、矩形の発光素子の4隅に第1の導電性部材を配置することが好ましい。また、第1の導電性接合部材がボール状(球状)であることで、第1の導電性接合部材と、発光素子及び基材とが接する部分に樹脂が充填されやすく好ましい。
(保護素子60)
発光素子の下面と基材の上面との隙間には、保護素子が配置される。保護素子は、発光装置に搭載される公知のもののいずれでもよい。例えば、発光素子に印加される逆方向の電圧を短絡したり、発光素子の動作電圧より高い所定の電圧以上の順方向電圧を短絡したりさせることができる素子、つまり、過電圧、過電流、保護回路、静電保護素子等が挙げられる。具体的には、ツェナーダイオード、トランジスタのダイオード等が利用できる。一面側に二つの電極を有してフリップチップ実装が可能なものが、より好ましい。
(第2の導電性接合部材32)
保護素子は、発光素子の下方に、第2の導電性接合部材を介して基体と接合されている。特に、第2の導電性接合部材を介して保護素子と導電部材との電気的接続が取られていることが好ましい。第2の導電性接合部材としては、例えば、SnPb系、SnAgCu系、AuSn系、SnZn系、SuCu系等の材料を好適に使用することができる。なかでも、AuSn系共晶が好ましい。また、任意に、これらに、濡れ性又はハンダクラック性を改善する目的で、Bi、In等を添加してもよい。
(光反射性樹脂80)
光反射性樹脂は、基体と発光素子との間に実装された保護素子を被覆するように配置される。光反射性樹脂が保護素子を被覆することにより、発光素子からの光が保護素子に吸収されることを抑制することができる。
光反射性樹脂は、少なくとも保護素子を被覆していればよいが、基体に対向する発光素子の下面と基体の上面との隙間を埋めるように、発光素子、基体、保護素子、第1の導電性接合部材と接して配置されることが好ましい。光反射性樹脂は、発光素子の底面のみならず、側面に接触していてもよい。光反射性樹脂は、発光素子の下部のみならず、発光素子の外側の領域に位置する基体及び基体に形成された導体配線の上面をさらに被覆することが好ましい。
光反射性樹脂は、発光素子からの光に対する反射率が60%以上である反射性材料、さらに、70%、80%又は90%以上の反射性材料で形成されているものが好ましい。
反射性材料は、例えば、セラミック、樹脂、誘電体、パルプ、ガラス又はこれらの複合材料等により形成することができる。なかでも、任意の形状に容易に成形することができるという観点から、樹脂が好ましい。
樹脂としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。具体的には、シリコーン樹脂、変成シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、変成エポキシ樹脂、アクリル樹脂の1種以上を含む樹脂又はハイブリッド樹脂等が挙げられる。
また、これら材料、例えば、樹脂に、二酸化チタン、二酸化ケイ素、二酸化ジルコニウム、チタン酸カリウム、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、ムライト、酸化ニオブ、硫酸バリウム、カーボンブラック、各種希土類酸化物(例えば、酸化イットリウム、酸化ガドリニウム)などの光反射部材、光散乱材又は着色剤等を含有させることが好ましい。ガラスファイバー、ワラストナイトなどの繊維状フィラー、カーボンブラック等の無機フィラー、放熱性の高い材料(例えば、窒化アルミ等)を含有させてもよい。これらの光反射部材等は、例えば、全光反射部材の重量に対して5〜60%程度で含有することができる。
(透光層90)
発光素子は、任意に透光層で被覆されていてもよい。透光層は、発光素子から出射される光を通過させる層であり、発光素子から出射される光の60%以上を透過するもの、さらに、70%、80%又は90%以上を透過するものが好ましい。このような層は、例えば、シリコーン樹脂、シリコーン変成樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、トリメチルペンテン樹脂、ポリノルボルネン樹脂又はこれらの樹脂を1種以上含むハイブリッド樹脂等の樹脂、あるいはガラス等により形成することができる。
透光層には、蛍光体や拡散材などが含有されていてもよい。
(蛍光体)
蛍光体は、当該分野で公知のものを使用することができる。例えば、セリウムで賦活されたイットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)系蛍光体、セリウムで賦活されたルテチウム・アルミニウム・ガーネット(LAG)、ユウロピウム及び/又はクロムで賦活された窒素含有アルミノ珪酸カルシウム(CaO−Al−SiO)系蛍光体、ユウロピウムで賦活されたシリケート((Sr,Ba)SiO)系蛍光体、βサイアロン蛍光体、CASN系やSCASN系蛍光体等の窒化物系蛍光体、KSF系蛍光体(KSiF:Mn)、硫化物系蛍光体などが挙げられる。発光装置が液晶ディスプレイのバックライト等に用いられる場合、青色光によって励起され、赤色発光する蛍光体(例えば、KSF系蛍光体)と、緑色発光する蛍光体(例えば、βサイアロン蛍光体)を用いることが好ましい。これにより、発光装置を用いたディスプレイの色再現範囲を広げることができる。また、照明等に用いられる場合、青緑色に発光する素子と赤色蛍光体とを組み合わせて用いることができる。
蛍光体は、例えば、中心粒径が50μm以下であるものが好ましい。中心粒径は、市販の粒子測定器又は粒度分布測定器等によって測定及び算出することができる。特に、蛍光体としてYAG等を用いる場合には、これらの超微粒子を極めて均一に分散して焼結されたバルク体(例えば、板状体)であることが好ましい。このような形態によって、単結晶構造及び/又は多結晶構造として、ボイド、不純物層を低減することによって高度な透明性を確保することができる。
また、蛍光体は、例えば、いわゆるナノクリスタル、量子ドットと称される発光物質でもよい。これらの材料としては、半導体材料、例えば、II−VI族、III−V族、IV−VI族半導体、具体的には、CdSe、コアシェル型のCdSSe1−x/ZnS、GaP等のナノサイズの高分散粒子が挙げられる。このような蛍光体は、例えば、粒径1〜20nm程度(原子10〜50個)程度が挙げられる。このような蛍光体を用いることにより、内部散乱を抑制することができ、光の透過率をより一層向上させることができる。
なお、量子ドット蛍光体は、不安定であるため、PMMA(ポリメタクリル酸メチル)などの樹脂で表面修飾又は安定化してもよい。これらは透明樹脂(例えばエポキシ樹脂、シリコーン樹脂等)に混合され成形されたバルク体(例えば、板状体)であってもよいし、ガラス板の間に透明樹脂とともに封止された板状体であってもよい。
(製造方法)
本実施形態の発光装置100の製造方法について、図4〜図6を用いて説明する。図4および図5は、本実施形態に係る発光装置の製造方法を説明する模式断面図であり、図6は、本実施形態に係る発光装置の製造方法を説明する模式平面図である。
(発光素子準備工程)
まず、図4(a)のように発光素子10の電極面にフラックス20を塗布する。フラックス塗布方法は、ピン転写方法でもマスク印刷方法でもよい。
次に、図4(b)のように発光素子10の電極面に塗布されたフラックス20の上に第1の導電性接合部材30を載置する。載置方法としては、吸引冶具を用いて載置する方法や穴の開いたマスクに前記第1の導電性接合部材30を落とし込み、電極パターン上に載置する方法等、所望の方法を採用することができる。
そして、加熱することにより、図4(c)のように発光素子10と第1の導電性接合部材30を接合させる。加熱は窒素などの不活性雰囲気中で行うことが好ましい。
(基体準備工程)
次に、図5(a)、図6(a)に示すように、基体40上に正負一対の導体配線50a、50bを有する基体40を準備する。導体配線50a、50bは、公知の方法で基体の表面や基体の内部に公知の方法で形成することができる。
(保護素子載置工程)
続いて、図5(b)、図6(b)のように保護素子60を第2の導電性接合部材32を介して導体配線50a、50b上に載置する。載置方法は、フリップチップ実装方法やダイボンド実装方法がある。図5(b)に示すように、フリップチップ実装することにより、導体配線50a、50bと電気的接続を取ることができるため好ましい。
(発光素子載置工程)
次に、図5(c)、図6(c)のように、上面視において発光素子10の下側に保護素子60が収まるように、保護素子60の上方に図4(c)の発光素子10をフラックス(図示せず)を介して導体配線50a、50b上に載置する。図5(b)に示すように、フリップチップ実装することにより、導体配線50a、50bと電気的接続を取ることができるため好ましい。
そして、窒素などの不活性雰囲気中で加熱を施し、保護素子60と図4(c)に示した発光素子10を導体配線50a、50b上に金属接合させる。
(光反射性樹脂充填工程)
次に、図5(d)、図6(d)に示すように、図4(c)の発光素子10と導体配線50a,50bの隙間に光反射性樹脂80を充填し硬化させる。図5のように、基体が凹部を有する場合、充填方法は、ポッティング法が好ましい。これにより、隙間に光反射性樹脂を容易に充填することができる。基体の表面が平坦面であることから、樹脂が充填されやすく、樹脂内に空隙が生じにくい。つまり、基体の凹部に保護素子が搭載されていると、樹脂の浸入経路が光反射性樹脂は凹部の開口に限られてしまい、樹脂が充填されにくい。しかしながら、本実施形態では平坦な基体の上に第1の導電性接合部材でかさ上げして隙間を形成していることから、図6(d)の矢印で示すように、保護素子の側面方向のいずれの方向からも樹脂が充填される。これにより、発光素子の下面と保護素子の上面の距離が極めて短い場合であっても、適切に光反射性樹脂80を配置することができる。
(透光層形成工程)
最後に、図5(e)に示すように、基体40の内側に透光層90を形成する。透光層は、樹脂により形成する場合は、スクリーン印刷、ポッティング、トランスファーモールド、コンプレッションモールド、圧縮成形、射出成形等により形成することができる。また、樹脂をスプレー塗布することで形成してもよい。透光層がガラス等の場合は、発光素子に直接または接着剤を介して接合してもよい。光を波長変換する蛍光体を含有させてもよい。
(第2の実施形態)
第1の実施形態では第1の導電性接合部材が発光素子の四隅の4箇所に配置されているが、少なくとも2箇所以上に載置されていればよい。例えば、図7(aは断面図、bは平面図)に示すように、2箇所であってもよい。これにより、より小さな発光装置200を提供することが出来る。
(第3の実施形態)
図8(aは断面図、bは平面図)に示すように、基体の形状は特に限定されるものではなく、表面が平坦な板状体であってもよい。第1の実施形態では、光反射性樹脂80または透光層90の充填方法にポッティング方法が好ましいとされたが、第4の実施形態の発光装置300では、光反射性樹脂80や透光層90は、ポッティング、トランスファーモールド、コンプレッションモールド、圧縮成形、射出成形等により形成することができる。
(第4の実施形態)
図9(断面図)に示すように、発光素子10の成長基板(サファイヤ等)を剥離し、半導体層11を表面に出すことで、より低背化、かつより高い光取り出し効率を有する発光装置400とすることができる。
本件発明は、照明用光源、各種インジケーター用光源、車載用光源、ディスプレイ用光
源、液晶のバックライト用光源、信号機、車載部品、看板用チャンネルレターなど、種々
の光源に使用することができる。
100、200、300、400 発光装置
10 発光素子
11 半導体層
20 フラックス
30 第1の導電性接合部材
1 コア
2 被覆部
32 第2の導電性接合部材
40 基体
50a、50b 導体配線
60 保護素子
80 光反射性樹脂
90 透光層

Claims (7)

  1. 基体と、
    前記基体の表面に第1の導電性接合部材を介して載置されることで、前記基体の表面との間に隙間を有するように載置された発光素子と、
    前記基体に第2の導電性接合部材を介して載置された保護素子と、を備え、
    前記保護素子は、前記隙間に配置されており、
    前記保護素子を被覆するように、前記隙間に光反射性樹脂が配置されていることを特徴とする発光装置。
  2. 前記発光素子と前記保護素子とは、前記基体の同一面上に載置されていることを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
  3. 第1の導電性接合部材は、コアと前記コアの外側に被覆部を有し、前記コアの融点は、前記被覆部の融点よりも高いことを特徴とする請求項1又は2に記載の発光装置。
  4. 前記コアはCuを有し、前記被覆部はAuと、Si、Ge、Snの内少なくとも1種類以上とを含む合金であることを特徴とする請求項3に記載の発光装置。
  5. 前記基体はその表面に導体配線を有しており、前記導体配線及び前記被覆部が共晶接合されていることを特徴とする請求項3または4に記載の発光装置。
  6. 前記コアの高さは、前記保護素子の高さよりも高いことを特徴とする請求項3または4に記載の発光装置。
  7. 基体と、
    前記基体の表面に第1の導電性接合部材を介して載置された発光素子と、
    前記基体に第2の導電性接合部材を介して前記発光素子の下方に載置された保護素子と、を備え、
    前記第1の導電性接合部材はCuコアボールであり、前記第1の導電性接合部材の高さは、前記保護素子の高さよりも高いことを特徴とする発光装置。
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