JP2015151579A - 蒸着マスク装置の製造方法、基板付蒸着マスクおよび積層体 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 160
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 157
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 42
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 35
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 18
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 38
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 38
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 17
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 12
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 8
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
以下、図面を参照して本発明の第1の実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
蒸着装置90内には、この蒸着マスク装置10を挟んだガラス基板92の下方に、蒸着材料(一例として、有機発光材料)98を収容するるつぼ94と、るつぼ94を加熱するヒータ96とが配置されている。るつぼ94内の蒸着材料98は、ヒータ96からの加熱により、気化または昇華してガラス基板92の表面に付着するようになる。上述したように、蒸着マスク20には多数の貫通孔25が形成されており、蒸着材料98はこの貫通孔25を介してガラス基板92に付着する。この結果、蒸着マスク20の貫通孔25の位置に対応した所望のパターンで、蒸着材料98がガラス基板92の表面に成膜される。
まず蒸着マスク20の製造方法について、主に図7および図8を用いて説明する。
基板付蒸着マスク20Aの基板1を構成する基板本体1aとしては、厚み0.7mmのガラス製の基板本体を用いることができ、また蒸着マスク20としては厚み1〜20μmのNi製めっき層またはNi合金製めっき層2を含むものを用いることができる。
このことにより、基板付蒸着マスク20Aおよび蒸着マスク20に対して適度な張力を付与することができる。また基板付蒸着マスク20Aを物理的に引張って、この基板付蒸着マスク20Aをフレーム15に固着する場合に比べて、熱制御盤70による加熱温度を所望の値に定めることにより、基板付蒸着マスク20Aおよび蒸着マスク20に対して適切な値の張力を常にフレーム15内に均一に付与することができる。
図11(a)に示すようにガラス製の基板1の代わりに金属製、例えばCu製またはsus製の基板6を準備してもよい。次に金属製の基板6上にレジストパターン3を形成し、基板6を用いて通電することにより、レジストパターン3間にめっき処理によりめっき層2を形成する。
1a 基板本体
1b ITO膜
2 めっき層
3 レジストパターン
5 接着剤
6 基板
10 蒸着マスク装置
10A 積層体
15 フレーム
16 開口
20 蒸着マスク
20A 基板付蒸着マスク
21 金属板
21a 第1面
21b 第2面
22 有孔領域
23 無孔領域
25 貫通孔
60 反り防止板
65 固着箇所
70 熱制御盤
Claims (9)
- 基板上に、有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する蒸着マスクをめっき処理により形成して基板付蒸着マスクを作製する工程と、
蒸着マスクの有孔領域に対応する開口を有し、基板および蒸着マスクのいずれより小さい熱膨張係数をもつ材料からなるフレームを準備する工程と、
基板付蒸着マスクとフレームを蒸着マスクがフレーム側を向くようにして互いに積層して積層体を作製する工程と、
積層体を熱制御盤上で室温よりも高温に加熱し、蒸着マスクの無孔領域をフレームに対して固着する工程と、
積層体を室温に戻すことにより蒸着マスクに対して張力を付与する工程と、
積層体から基板を除去する工程と、を備えたことを特徴とする蒸着マスク装置の製造方法。 - 基板はガラス基板と、ガラス基板上に設けられた導電膜とを有することを特徴とする請求項1記載の蒸着マスク装置の製造方法。
- 基板は金属基板を有することを特徴とする請求項1記載の蒸着マスク装置の製造方法。
- 蒸着マスクの無孔領域は、フレームに対して熱硬化性樹脂により固着されることを特徴とする請求項1記載の蒸着マスク装置の製造方法。
- 蒸着マスクの無孔領域は、フレームに対してレーザ光照射により溶着されて固着されることを特徴とする請求項1記載の蒸着マスク装置の製造方法。
- 基板は積層体から剥離により除去されることを特徴とする請求項2記載の蒸着マスク装置の製造方法。
- 基板は積層体から剥離またはエッチングにより除去されることを特徴とする請求項3記載の蒸着マスク装置の製造方法。
- 基板と、基板上にめっき処理されて形成され、有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する蒸着マスクとを有する基板付蒸着マスクと、
基板付蒸着マスクの蒸着マスク上に積層され、蒸着マスクの有孔領域に対応する開口を有し、基板および蒸着マスクのいずれより小さい熱膨張係数をもつ材料からなるフレームとを備えたことを特徴とする積層体。 - 基板と、
基板上にめっき処理されて形成され、有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する蒸着マスクとを備えたことを特徴とする基板付蒸着マスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014026732A JP6698265B2 (ja) | 2014-02-14 | 2014-02-14 | 蒸着マスク装置の製造方法、基板付蒸着マスクおよび積層体 |
Applications Claiming Priority (1)
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015151579A true JP2015151579A (ja) | 2015-08-24 |
JP6698265B2 JP6698265B2 (ja) | 2020-05-27 |
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ID=53894173
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014026732A Active JP6698265B2 (ja) | 2014-02-14 | 2014-02-14 | 蒸着マスク装置の製造方法、基板付蒸着マスクおよび積層体 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP6698265B2 (ja) |
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