JP2015143692A - 計測機器及び方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】圧力または気体密度等の種々の物理的特性を計測するために、多数の異なる種類のセンサが使用されている。異なる動作範囲を有するセンサを使用し、動作範囲を拡大した計測装置を提供する。【解決手段】プロセッサと、第1のセンサと、第2のセンサとを有する計測機器である。第1のセンサおよび第2のセンサは該プロセッサに接続され、物理的量の第1の計測501および第2の計測502をそれぞれ生じるように動作する。該プロセッサは、計測信号が第1の計測501に依存し、第2の計測502に依存しない第1の計測範囲を定義する。該プロセッサは、計測信号が第2の計測502に依存し、第1の計測501に依存しない第2の計測範囲を定義する。プロセッサは第1の計測範囲および第2の計測範囲の間の遷移において、計測値が円滑に変化するように調整する。【選択図】図4b
Description
<例示的な実施形態の分野>
本明細書で開示されている例示的な実施形態は計測機器に関し、より詳細には、複数のセンサを有する計測機器に関する。
本明細書で開示されている例示的な実施形態は計測機器に関し、より詳細には、複数のセンサを有する計測機器に関する。
<関連技術の簡単な説明>
圧力または気体密度等の種々の物理的特性を計測するために、多数の異なる種類のセンサが使用されている。異なる種類のセンサは異なる動作範囲を有する場合があるため、拡大された動作範囲で、異なる種類のセンサを単一の圧力機器へ統合したいという要望がある。例えば、ポンプを使って気体の圧力を真空化すると、機器の出力は、まず、センサの1つからの読取値に対応できる。次に出力が閾値に達すると、出力は、低圧でより良い精度を有する別のセンサからの読取値に対応するように切り替えられる。この種の構成は、適した精度で機器が動作可能な圧力または密度範囲を上回ることができるという利点があるが、欠点もある。最も知られているのは、2つのセンサ間での切り替えにおいて問題が生じる可能性である。2つのセンサが閾値において同一の読取値を示さない場合、機器がセンサ間を切り替える際に機器出力に急激な変化が生じることがある。2つのセンサ間の読取値の差が小さい場合でも、この急激な変化によって望ましくないヒステリシス効果が生じる可能性がある。例えば、圧力を制御するように意図されているフィードバックループの一部に出力が使用されている場合、問題が生じることがある。出力の導関数がフィードバックループのフィードバック信号として使用される場合には、導関数が遷移閾値において非常に高くなるため、この難点がより顕著になる場合がある。従って、2つ以上のセンサからの読取値を組み合わせ、読取値間の円滑な遷移を可能にする圧力機器を提供することが望ましいといえる。
圧力または気体密度等の種々の物理的特性を計測するために、多数の異なる種類のセンサが使用されている。異なる種類のセンサは異なる動作範囲を有する場合があるため、拡大された動作範囲で、異なる種類のセンサを単一の圧力機器へ統合したいという要望がある。例えば、ポンプを使って気体の圧力を真空化すると、機器の出力は、まず、センサの1つからの読取値に対応できる。次に出力が閾値に達すると、出力は、低圧でより良い精度を有する別のセンサからの読取値に対応するように切り替えられる。この種の構成は、適した精度で機器が動作可能な圧力または密度範囲を上回ることができるという利点があるが、欠点もある。最も知られているのは、2つのセンサ間での切り替えにおいて問題が生じる可能性である。2つのセンサが閾値において同一の読取値を示さない場合、機器がセンサ間を切り替える際に機器出力に急激な変化が生じることがある。2つのセンサ間の読取値の差が小さい場合でも、この急激な変化によって望ましくないヒステリシス効果が生じる可能性がある。例えば、圧力を制御するように意図されているフィードバックループの一部に出力が使用されている場合、問題が生じることがある。出力の導関数がフィードバックループのフィードバック信号として使用される場合には、導関数が遷移閾値において非常に高くなるため、この難点がより顕著になる場合がある。従って、2つ以上のセンサからの読取値を組み合わせ、読取値間の円滑な遷移を可能にする圧力機器を提供することが望ましいといえる。
例示的な一実施形態では、プロセッサ、第1のセンサおよび第2のセンサを有する計測機器を提供する。プロセッサは、物理的数量の計測を実施する計測信号を出力するように適合されている。第1のセンサおよび第2のセンサはプロセッサに接続され、物理的数量の第1の計測および第2の計測のそれぞれを生じるように動作可能である。プロセッサは、計測信号が第1の計測に依存し、第2の計測に依存しない第1の計測範囲を定義する。プロセッサは、計測信号が第2の計測に依存し、第1の計測に依存しない第2の計測範囲を定義する。第1の範囲および第2の範囲は、既定の遷移と交わる。第1の計測および第2の計測は遷移において異なり、計測信号において実施される計測は急激な変化をせずに遷移と交差する。
別の例示的な実施形態において、圧力計は圧力インジケータを含む。第1の圧力センサは圧力インジケータに接続され、第1の圧力の読取値を生じるように動作可能である。第2の圧力センサは圧力インジケータに接続され、第2の圧力の読取値を生じるように動作可能である。圧力インジケータは、第1の圧力読取値が既定の圧力閾値を上回り、かつ低下している場合に、第2の圧力読取値に応答せずに、第1の圧力読取値に対して応答可能に圧力を表示するように構成される。圧力インジケータは、第1の圧力読取値が既定の圧力閾値未満であり、かつ低下している場合に、第1の圧力読取値に応答せずに、第2の圧力読取値に対して応答可能に圧力を表示するように構成される。圧力インジケータは、第1の圧力読取値が既定の圧力閾値と略等しい場合に、閾値圧力を含む表示された圧力範囲にわたって連続関数として圧力を表示するように構成され、第2の圧力読取値は第1の圧力読取値とは異なる。
さらに別の例示的な実施形態において、圧力計は圧力インジケータを含む。第1の圧力センサは圧力インジケータに接続され、第1の圧力の読取値を生じるように動作可能である。第2の圧力センサは圧力インジケータに接続され、第2の圧力の読取値を生じるように動作可能である。圧力インジケータは、第1の圧力読取値が既定の閾値圧力を下回り、かつ上昇している場合に、第2の圧力読取値に応答せずに、第1の圧力読取値に対して応答可能に圧力を表示するように構成される。圧力インジケータは、第1の圧力読取値が既定の閾値を上回り、かつ上昇している場合に、第1の圧力読取値に応答せずに、第2の圧力読取値に対して応答可能に圧力を表示するように構成される。圧力インジケータは、第1の圧力読取値が既定の圧力閾値と略等しい場合に、閾値圧力を含む表示圧力範囲にわたり連続関数として圧力を表示するように構成され、第2の圧力読取値は第1の圧力読取値とは異なる。
さらに別の例示的な実施形態において、方法は、第1のセンサによって定量化可能な物理的特性の第1の読取値の生成を含む。方法は、第2のセンサによって定量化可能な物理的特性の第2の読取値の生成をさらに含む。方法は、物理的特徴の第1の範囲にわたる、第1の読取値のみに応答可能な物理的特性の規模(magnitude)の表示をさらに含む。方法は、物理的特性の遷移規模(transition magnitude)において第1の範囲に隣接する物理的特徴の第2の範囲にわたり、第2の読取値のみに応答可能な物理的特性の規模の表示をさらに含む。方法は、表示された規模が第1の範囲と第2の範囲との間の遷移において急激に変化しないように、第1の領域または第2の領域のうちの少なくとも1つにおける物理的特性の表示された規模の調整を含み、第1の読取値および第2の読取値は遷移規模で異なる。
添付の図面に関して記述される以下の記載において、例示的な実施形態を説明する。
図1は、例示的な基板処理装置100を示す。装置は、以下にさらに説明されるように、圧力計測機器400の例示的な実施形態を有してもよい。基板処理装置は、圧力計測機器400の実施例の応用例として記載されている。圧力計測機器は、任意の適した圧力または真空チャンバ内の圧力または気体密度の計測等の任意の適した用途で使用してもよく、または任意の圧力または真空チャンバとは無関係に動作してもよいことが理解されよう。例示的な実施形態は、図面に示され、以下に説明される実施形態を参照して記述されるが、これらの態様は多くの別の形の実施形態で実施可能であることが理解されるであろう。さらに、任意の適したサイズ、形状、または種類の要素または材質を使用できる。図1において、装置100は便宜上、前端200および後端300を有するものとして記載してもよい。前端200はフレーム230を有してもよく、例えば、制御環境105内で動作する基板移送装置210を含んでもよい。移送装置210は、アーム215およびアームを動かすために動作可能な駆動機構220を有してもよい。アーム215は基板を支持するためのエンドエフェクタ250を有してもよい。
実施例の装置100の前端200は、ロードポート120、125(例示のために2つが示されている)をさらに含んでもよい。ロードポートはインターフェースに基板カセット130を提供する。各基板カセットはいくつかの基板を保持するために適合されており、これらを密閉された筺体内に保持してもよい。ロードポート120、125はカセット130を可撤的に保持し、カセットのドアを開けるための機構(図示せず)を含んでもよく、これによって、前端200の制御環境105内からカセットに配置される基板へのアクセスが可能になる。制御環境105はハウジングに収容してもよく、制御環境105の圧力を計測するために圧力計470に接続してもよい。ロードポート120、125からの移送装置210は、ロードロック135、140と対向している。ロードロック135、140は前端200を後端300に接続する。各ロードロック135、140は、前端200の制御環境105に接続される弁405、410、および、後端300の輸送室305に収容される隔離環境310に接続される別の弁415、420を有する。輸送室305の隔離環境310は、例えば、真空、窒素等の不活性気体、またはその他の流体にしてもよい。前端200の制御環境105は、非常に低いレベルの粒子状汚染物質で維持される大気圧のクリーンエアにしてもよい。かくして、ロードロック135、140は、2つの環境105、310の隔離を維持しつつ、前端200および後端300の間の基板の通過を可能にする。図1において、ロードロック140は、ロードロックを加圧する流入弁480、およびロードロックを減圧する真空ポンプ465の両方に接続されているものとして示される。
実施例の装置100において、後端300は、輸送室305を画定するフレーム315を含む。上記のように、輸送室305は、真空状態等の隔離環境310を保有してもよい。圧力計475は、隔離環境310の圧力の読み取りのために輸送室305に接続してもよい。基板移送装置320は、輸送室305内に配置してもよい。移送装置320は、フレーム315に接続される駆動機構325、およびエンドエフェクタ365に接続される一組の対向アーム335、340を含んでもよい。
図1の実施例の装置100では、輸送室305の周囲にいくつかの処理モジュール370が配置される。処理モジュール370は、基板上に電気回路またはその他の所望の構造を形成するために、または計量機能またはその他の機能を実行するために、種々の蒸着、エッチング、研磨、清浄またはその他の種類の加工によって基板上で作動してもよい。処理モジュール370は、基板が輸送室から処理モジュールへと通過できるようにするために、またはその逆のために、輸送室305に接続される。例示的な実施形態では、処理モジュールは、例えばスロット弁またはその他の適したドアを介して等、輸送室から隔離可能にしてもよいため、処理モジュールのうちの1つ以上は、輸送室305の雰囲気または真空から隔離されている不活性気体(例:窒素、アルゴン)等の雰囲気を保持できるようにしてもよい。処理モジュールのうちの1つ以上は、工作物処理(例:低真空)荷重圧力(例:工作物の荷重/除荷時の高真空)およびアクセス圧力(例:モジュールの保守のための雰囲気)時における動作圧力等の変動圧力を受けるようにしてもよい。同様に、輸送室305はさらに、異なる圧力を受けてもよい。例示的な実施形態では、処理モジュールのうちの1つ以上は、さらに以下に記載されるように、処理モジュールの圧力を計測可能な圧力計または計測機器400を有してもよい。
ロードロック140は、圧力計測機器400とも接続してもよい。ロードロック135はさらに同様の圧力計測機器に接続してもよい。圧力計測機器400は、ロードロック140、輸送室305または処理モジュール等の装置100の所望のセクション内の雰囲気450の絶対圧力を計測してもよい。別の実施形態において、計測機器は、相対圧力または差圧、あるいはその両方を計測してもよい。その他の実施形態において、機器400は、気体密度または圧力計測に代用として役目を果たすことが可能なその他の物理的特徴を計測してもよい。さらにその他の実施形態において、計測機器は任意の適した物理的特徴を計測してもよい。
図2は、例示的な実施形態に従った、計測機器400の概略図である。示されている例示的な実施形態では、計測機器400は、例えばケーシングまたはハウジング400Cに収容される統合された機器にしてもよい。従って、例示的な実施形態では、計測機器400は、例えば輸送室、処理モジュールまたはロードロック等の処理装置100の所望のセクションの任意の1つ以上に交換可能に設置してもよい。別の実施形態において、計測機器は、任意の所望の装置における雰囲気の所望の物理的特徴を計測するように配置してもよい。その他の別の実施形態において、さらに以下に記載されるように、計測機器は、機器によって計測された雰囲気を保持する装置またはツール内に統合してもよい。図2に図示されるように、例示的な実施形態では、ケーシング400Cは、装置100の計測されたセクション(例)ロードロック140または処理モジュール370)内に保持される雰囲気450と連通する圧力エンベロープ425を画定するように構成してもよい。このため、圧力エンベロープ425内の圧力はロードロック140内の圧力と略同じである(以下に参照されるロードロック140は、装置100の典型的なセクションにすぎない)。例示的な実施形態では、圧力エンベロープは例示のために、ハウジング内に配置されているものとして図示される(例えば、通信のために雰囲気450および圧力エンベロープ425を有する装置内部間にポートを備えてもよい)。別の実施形態において、計測機器の圧力エンベロープは、機器ハウジングの外装を含み、所望に応じて配置してもよい。示される例示的な実施形態では、3つの圧力センサは圧力エンベロープに接続し、エンベロープ内の圧力を計測できるように動作可能にしてもよい。別の実施形態において、より多いまたはより少ない圧力センサを、圧力エンベロープ内の圧力を感知するために接続してもよい。その他の別の実施形態は圧力エンベロープを有してもよく、または有さなくてもよく、任意の適した数のセンサを有してもよい。例示的な実施形態では、圧力センサ435はピエゾ抵抗ダイアフラム(PRD)を含んでもよい。ダイアフラムの一方の側は圧力エンベロープ425に接続してもよい。ダイアフラムの別の側は、PRDが絶対ダイアフラムセンサになるように、高い真空状態で密閉してもよい。PRDセンサ435は、圧力エンベロープ425内で圧力エンベロープ425の絶対圧力を探知するように動作可能にしてもよい。例えば、圧力変化によって、応力または応力変化あるいはダイアフラムの抵抗力に影響するピエゾ抵抗ダイアフラム内の応力が生じてもよい。こうして、センサ435は、ダイアフラム内の電気抵抗の変化を計測することにより、エンベロープ425内の圧力または圧力変化を感知してもよい。センサ440はさらに、圧力エンベロープ425に接続してもよい。センサ440は、例えば、熱損失センサにしてもよい。熱損失センサ440は、導体からの熱損失を感知することによって圧力エンベロープ425内の絶対圧力を感知するように動作可能にしてもよい。熱損失は圧力エンベロープ425内、例えばロードロック140内の圧力に対応してもよい。センサ445はさらに圧力エンベロープ425に接続してもよい。センサ445は、例えば、イオン化センサにしてもよい。イオン化センサ445は、計測された気体の気体粒子と衝突する電子を放出してもよい。衝突は、電流を伝達するイオンを作成してもよい。電流量は圧力エンベロープ425内の気体密度および気体圧力に対応してもよく、次いでロードロック140内の圧力に対応してもよい。
例示的な実施形態では、センサ435、440、445はそれぞれ、異なる動作圧力範囲を有してもよい。例えば、高真空状態(例:10^−10Torr乃至10^−2Torr)は、イオン化計測器(IG)445によって最も高精度に計測されてもよい。中程度の真空状態(例:10^−3乃至1000Torr)は、熱損失(HL)センサによって最も高精度に計測されてもよい。図2に概略が図示されているように、低い真空状態から大気圧を計測するためにPRDセンサ435を使用してもよい。機器400は、各センサ435、440、445に通信可能に接続される信号プロセッサ455を含んでもよい。概して、信号プロセッサは、センサ信号を受信し、これを変換して所望の計測信号を出力することができる。理解されるように、計測機器400は、雰囲気から高い真空状態(例:13ディケード(decades))の範囲にしてもよい1つ以上の所望のチャンバまたは処理装置100のモジュール内で過渡状態および定常状態の圧力を計測するために使用してもよい。プロセッサ455は、以下に説明されるように、約10^−10Torrから約1000Torrの範囲の計測された圧力(またはその他の計測された特徴)を示す出力計測信号を生成するために、センサ435、440、445からの信号を使用可能である。
図3は、計測機器400の基板処理装置100への種々の接続の概略を示す。上述のように、例示的な実施形態の計測機器(図2も参照)は、装置100に交換可能に設置またはこれから取り外してもよい統合パッケージにしてもよい。計測機器モジュールは、機器モジュールの圧力エンベロープ425が装置内の所望の雰囲気450と連通するように、装置100の所望のセクション(例:輸送室325、プロセスモジュール370、ロードロック135、140)に機械的に接続してもよい。例えば、機器ハウジング400Cを、適した固定具(例:スクリュー、簡易脱着クランプ等)によって装置100のフレームに取り付けてもよい。機器モジュール400はさらに、例えば有線の(例:USB)または無線のカップリング458によって、電源および通信のために装置100に電気的に接続してもよい。信号プロセッサ455は、装置100のシステム460を制御するためにカップリング458によって接続してもよい。例示的な実施形態では、信号プロセッサは、制御システム460と通信するセンサ435、440、および445からの複数の読取値を用いて出力計測信号を生成するように動作可能にしてもよい。例示的な実施形態では、制御システム460はさらに、基板移送装置210および320等の処理装置100のその他のデバイスに接続してもよい。制御システムは、例えば、ロードポート135、140、処理モジュール370、装置100の任意の他の適したデバイスおよび装置100の外部の任意のデバイスにも接続してもよい。制御システム460は、輸送室305内の圧力を調整するための真空ポンプまたはシステム465、装置のモジュールおよびロードロック140に接続してもよい。例示的な実施形態では、制御システムは、前端200の制御雰囲気105内の圧力を監視するための絶対圧力センサ470にも接続してもよい。制御システム460は、ロードロック140を通気するための通気弁に接続してもよく、ロードロックおよびプロセスモジュールの荷重弁410、420に接続してもよい。このため、制御システム460は、ロードロック135、140およびその他のプロセスモジュールによる基板の移送等、装置100の動作を調整するように動作可能にしてもよい。機器モジュール、および/または制御システム460のプロセッサ455はさらに、制御システム460およびプロセッサ455に情報を入力可能な、さらにプロセッサ455からの表示された圧力計測(またはその他の計測された特徴)出力等の情報を表示可能な、適した入出力デバイス510(図3を参照)に直接またはリモートで接続してもよい。
処理装置100の一実施例の動作において、基板は、ロードポート125においてドッキングされる基板カセット130から移送装置210によって除去してもよい。圧力センサ470は、制御環境105内の圧力を計測してもよく、計測された圧力を制御システム460に伝達してもよい。制御システム460はさらに、装置100の所望のセクションの動作状態を識別および監視してもよい。例えば、制御システム460は、計測機器400を使用して、輸送室305およびプロセスモジュールに所望の圧力または真空状態が存在するかどうかを決定または確認してもよい。理解されるように、イベント状態が所望のプロトコルに従っていない場合、制御システムは障害信号を生成してもよく、例えば(自動的またはオペレータの入力によって)修復手順を開始してもよい。実施例として、制御システムが計測機器400の出力から、輸送室は所望の真空状態になっていないことを登録する場合、制御システムは所望の真空状態を確立するために真空ポンプを作動させてもよい。計測機器400から輸送室305において所望の真空状態が確立されたという指示を受信すると、制御システムは自動的に真空ポンプの作動を停止してもよい。所望の雰囲気の状態の生成または保守は、同様に装置100の任意の所望のセクションまたはモジュールで実行してもよい。制御システム460はさらに、ロードポートに接続される計測機器を使用して、ロードロック135、140の動作の状態および制御を決定してもよい。実施例として、計測機器400は圧力センサ435、440、および445を使用してロードロック140内の圧力を計測してもよく、制御システム460へ(信号プロセッサ455からの)計測表示を送信してもよい。制御システムはロードロック140および制御環境の間の圧力計測表示を比較してもよく、ロードロック雰囲気450および制御環境105の間の圧力を均等化するように、ロードロック140内の圧力を制御するために真空ポンプ465を動作してもよい。ロードロック140の弁410、420の両方は、圧力が均一化されると密閉してもよい。圧力の均一化において、制御システムは、真空ポンプ465を制御するためのフィードバック信号を提供するために信号プロセッサ455からの統合出力を使用してもよい。上記のように、および、以下にさらに詳細に記載されるように、ロードロック140の(例:輸送室および周囲前端の、一致する雰囲気間)または装置の任意の他の所望のチャンバの圧力分散は、(例:ディケード)各センサ435、440、445の計測範囲が圧力分散全体における圧力を正確に計測するために十分ではなくてもよい。このためロードロック内の圧力を計測する計測機器からの圧力表示は、センサ435、440、445のうちの2つ以上に基づいてもよい。例えば、ロードロック、または任意の他のチャンバ/モジュールが高い真空状態にある場合に機器によって表示される圧力は、IGセンサ445に基づいてもよく、低い真空状態では表示はHLセンサ440に基づいてもよく、大気圧では表示はPRDセンサ435に基づいてもよい。図1および図3から理解されるように、ロードロック140および制御環境105の間の弁410は、制御システムが弁400の圧力の均衡が取れていることを決定できるようにするプロセッサ455から適した圧力表示を受信すると、制御システム460で開けてもよい。センサからの圧力表示は、さらに入出力デバイス510(図3を参照)に表示してもよい。ロードロック雰囲気450および制御環境105の間の圧力は略等しいため、基板へ汚染物質の分散をもたらす可能性のある弁410の開放時に、大量の気体が存在しなくてもよい。制御システム460は、次に、ロードロック140および前端の間に基板を移送するために基板移送装置210を方向付けてもよい。基板の移送が完了すると、弁410は、後端300の隔離環境310からと同様、前端の制御環境105から密閉されたロードロック雰囲気をそのままにして、閉じてもよい。制御システムは、真空ポンプ465を使用してロードロック内の圧力をポンプで抜くことで、ロードロック雰囲気450および隔離環境310の間の圧力を均等化してもよい。計測機器400は制御システム460へフィードバック信号を提供してもよく、これは、真空ポンプ465の制御に使用してもよい。制御システムは、さらに、圧力センサ475を使用して隔離環境310内の圧力を監視してもよい。圧力が輸送室305のロードロック雰囲気450および隔離環境310の間でほぼ均衡化されていることを制御システムが決定すると、制御システムは、ロードロックおよび輸送室の間の基板の移送のためにロードロック140および輸送室305の間の弁を開いてもよい。このプロセスは、装置100の前端および後端の間の基板の取り付けおよび取り外しのために、所望に応じて繰り返してもよい。同様に、プロセスモジュールおよび輸送室のうちの1つ以上に載置される計測機器400は、輸送室および処理中に輸送室から隔離されたプロセスモジュールの間での基板の取り付け/取り外しを促進してもよい。理解されるように、上記に記載の実施例の動作は、例示的な実施形態の計測機器400の用途を示すことが意図されているにすぎない。計測機器400は、圧力または気体密度が計測される任意の適した用途等の任意の適した応用例で使用してもよい。別の実施形態において、計測機器は、任意の適した物理的数量または量を計測してもよい。
上記のように、例示的な実施形態では、圧力機器400は、3つのセンサ435、440、445を使用して(別の実施形態で、チャンバの圧力変化の程度に応じて、より多いまたはより少ないセンサを使用してもよい)、所望のチャンバ/モジュール内の全圧力分散(例:13ディケード、10-10から10-3Torr)における圧力を計測するために構成してもよい。さらに、上述のように、例示的な実施形態では、各センサ435、440、445は、異なる圧力範囲、機器400に所望の全体的な計測範囲を提供するために共に使用されている3つのセンサの異なる圧力範囲を有してもよい。プロセッサ455(図2乃至図3を参照)は、例示的な実施形態では、その計測された圧力出力(つまり機器からの表示された圧力)がセンサ435、440、445からの最良のデータに基づくようにプログラムしてもよい。従って、例示的な実施形態では、所定の圧力で、プロセッサ445のプログラミングは、以下に説明されるように、所定の圧力の最大精度のセンサからの計測データ(つまり最良データ)を使用する。例示的な実施形態では、各センサ435、440、445の圧力範囲、換言すると、各センサが機器のその他のセンサに対して最大の制度を有する圧力範囲を、プロセッサ455でプログラムしてもよい。実施例として、プロセッサ455(またはプロセッサ455によってアクセス可能な適切なメモリ位置)は、各センサの圧力範囲を識別および選択するために、適切なアルゴリズムまたは参照テーブル等のプログラミング456を有してもよい。例えば、プロセッサは、圧力計圧力範囲を確立するために、真の圧力を有する各センサからの表示された圧力(例:真の圧力の関数としての出力信号)に関する較正線を、直接または間接的に使用してもよい。各特定のセンサ435、440、445の較正情報を、例えばグローバルまたはローカルネットワーク上でダウンロードしてもよく、またはそうでない場合には任意の他の適した方法でプロセッサ455に入力してもよい。別の実施形態において、センサ較正情報をリモート位置で記憶してもよく(例えば機器の製造施設のPC)、適した双方向通信パスを介して、プロセッサによって、所望に応じてアクセスしてもよい。その他の別の実施形態において、較正情報を、プロセッサ455により、固定載置された機器と共に、および公知のセンサ較正技術を使用して、生成してもよい。図6は2つのセンサ435、440、445のための典型的な較正線(例:増幅率)PS1、PS2を図示する。理解されるように、異なる種類のセンサのいくつか(例:IGセンサ445またはHLセンサ440)の較正プロットまたは較正線は、異なる気体種類(例:制御空気、N2、アルゴン)で変化してもよい。例示的な実施形態では、プロセッサ455のプログラミングは、チャンバでの計測が期待される気体種類に対応するセンサ較正情報の選択を行うように構成してもよい。例えば、異なる気体種類の各センサの較正線を、プロセッサ455のプログラム456に保存してもよい。プロセッサプログラム456は、各センサの対応する気体種類に各較正線を相互に関連付けてもよく、機器400によって計測されるチャンバ圧力内の気体種類を識別する、入出力デバイス510または任意の他の所望の手段等からの入力の受信時に、適切な較正線を選択してもよい。別の実施形態において、プロセッサ455は、チャンバの気体種類を識別する入力を受信後にリモート位置から適切な較正線を読み取るまたはダウンロードしてもよい。
さらに理解されるように、所定の種類のセンサ(例:IG、HLまたはPRD)では、センサ毎に較正線を変更してもよい。図6に示される較正線PS1、PS1'およびPS2、PS2'は、同じ種類の異なるセンサの較正線または増幅率に存在する可能性のある分散を示す。上記のように、図6に示されるプロットは例示にすぎない。示される実施例において、線PS2、PS2'は異なるPRDセンサに対応してもよく、線PS1、PS1'は異なるHLセンサに対応してもよい。線PS2、PS1は、それぞれ、機器400のPRDおよびHLセンサ435、440に対応してもよい。線PS1、PS1'、PS2、PS2'の特徴は例示的なものに過ぎず、別の実施形態においてセンサの較正線は任意の他の所望の特徴を有してもよい。異なるPRDセンサの較正線PS2、PS2'は、異なるHLセンサの性能を示す較正線PS1、PS1'よりも比較的より高い増幅率を有するものとして、例示として、示される。別の実施形態において、異なる種類のセンサの相対的な増幅率は異なってもよい。IGセンサ(図示せず)の較正線は図6に示される較正線とほぼ同様の特徴を有してもよく、IGセンサ(センサ445等)およびHLセンサ(センサ440等)の較正線の間の関連は例えば、図6の較正線PS2、PS2'、PS1、PS1'で示されるものとほぼ同様にしてもよい。例示的な一実施形態において、プロセッサ455は、計算するようにプログラムしてもよく、またはそうでない場合には、例えば、各センサが最良のデータを提供する所定の気体種類圧力(またはその他の計測された特徴)範囲で対応するセンサ435、440、445の較正線PS1、PS1'、PS2、PS2'から識別してもよい。実施例として、(上記のように)プロセッサによって登録された気体種類の(機器400の)特定のセンサ435、440、445の較正線は、所定の気体種類のために各センサ435、440、445の最良のデータ圧力範囲(または以下に圧力範囲として称されるもの)を確立するために、所望の閾値と比較してもよい。別の例示的な実施形態において、センサの圧力範囲は、入力する、またはリモート位置からプロセッサによってダウンロードしてもよい。上記から理解されるように、プロセッサで登録される圧力範囲は、センサに特有のものおよび種に特有のものであってもよい。実施例として、プロセッサプログラミング456は、種々の気体種類に対応する各センサ435、440、445の範囲情報を定義する情報(アルゴリズムまたはテーブル等)を含んでもよい。上記のように、プロセッサによって登録される各センサ435、440、445の圧力範囲と共に、プロセッサ455は、例示的な実施形態で、センサがチャンバの圧力変化を計測する際に、適切な圧力範囲のセンサからの圧力の読取値を使用してもよい。さらに、例示的な実施形態で理解されるように、計測された圧力が所定のセンサの圧力範囲を上回ると、プロセッサ455はセンサ間を遷移してもよい。
機器400の計測範囲のギャップを防ぐために、センサ435、440、445の圧力範囲は、所望の重複を提供するように確立してもよい。このため、例えばPRDセンサ435の圧力範囲はHLセンサ440の圧力範囲と重複してもよく、これは、さらに、IGセンサ445の圧力範囲と重複してもよい。2つのセンサ435、440、445の間の典型的な重複領域は、対応するセンサ圧力範囲内のセンサのセンサ読取値を描画する線501、502を示す図4に図示されている。理解されるように、図4aのセンサ性能線501、502(つまり各センサの真の圧力へのセンサ読取値の関連付け)は、図6に示されるセンサ較正線PS1、PS2の部分とほぼ同様である。さらに、例示的な実施形態では、線501、502はさらに、(真の圧力に対して)プロセッサから表示された圧力(PIND)を表示してもよい。このため、以下にさらに詳細に記載されるように、例示的な実施形態では、プロセッサ455からの表示された圧力は、重複領域でさえもたった1つのセンサ435、440、445の現在の値(つまり圧力の読取値)の関数であり得る。従って、図4aから理解されるように、重複量は最小限にでき、従来のシステムで望ましい重複範囲よりもずっと小さくできる。例えば、さらに以下に記載されているように、重複は、一つのセンサ435、440、445がその範囲の最後にある場合、その他のセンサからの読取値が有効となるためプロセッサによるセンサ間の切り替えが可能になるようにしてもよい。しかし、上記のように、センサ圧力範囲、および範囲終点は、気体種類の間と同様に、(同じ種類の)圧力計の間で変動してもよい。例示的な実施形態では、例えば機器400からの圧力表示が、1つのセンサ435、440、445からの現在の圧力の読取値(値)を使用した最良のデータに基づいてもよいように、プロセッサは、センサの圧力範囲の終点、次いで、プロセッサがセンサ間の切り替えをする切替圧力(PIND)を選択する、または選択を可能にするように構成してもよい。別の実施形態において、圧力表示がセンサを切り替える切替圧力(PSW)は、例えば入出力デバイス510(図3を参照)を介し、オペレータによってプロセッサに入力してもよい、またはリモート位置からプロセッサによってダウンロードしてもよい。
再び図4aを参照すると、上記のように、2つのセンサからの圧力読取値が真の圧力に対してどのように変化するかの実施例が示されている。図4aにおいて、線501は、例えば、イオン化センサ445からの圧力の読取値を表してもよい。線502は、例えば、熱損失センサ440からの圧力の読取値を表してもよい。上記に記載のように、熱損失センサ440およびイオン化センサ445は、異なる動作範囲を有してもよい。従って、機器400から表示された圧力を元にして切替圧力PSWを下回る圧力でイオン化センサ445からの圧力の読取値を使用する、および、閾値圧力PSWを上回る圧力で表示された圧力を元にして熱損失センサ440からの圧力の読取値を使用することが望ましい場合がある。図4aに最も良く示されるように、2つのセンサからの読取値間の分散が生じる(図6も参照)。このため、センサ440、445は閾値圧力PSWにおいて同一の圧力読取値を生じなくてもよいため、切替圧力における2つのセンサ読取値間の切り替えにより、機器からの表示された圧力に急激な上昇または不連続が生じることになる。いくつかの種類の処理が行われる可能性のあるデータストリームにおける不連続の発生は、大変望ましくないものである。例えば、閾値圧力PSWにおけるまたはこの値付近で示された圧力の分化(differentiating)により、圧力変化のレートに関して高いマグニチュード値(大きい規模値)(high magnitude value)となり、これは、圧力制御フィードバックシステムでヒステリシスを生じさせる、または処理システムに不具合を生じさせ得る。例えば、低下する圧力の環境を監視している場合、まず、熱損失センサ440からの読取値を、表示された圧力PINDを決定するために使用してもよい。これによって、線502をなぞることになる。熱損失センサ440からの読取値が閾値圧力PSWに達すると、イオン化センサ445からの読取値を、次に、表示された圧力PINDを決定するために使用してもよい。これによって、線501をなぞることになる。しかし、図4aに例示されているように、熱損失センサ440がPSWと等しいものとして圧力を読み取る場合、真の圧力はPCとなり、イオン化センサ445はPBの圧力を読み取る。PBがPSWと等しくないため、表示された圧力PINDに急な変化が生じる。圧力におけるこの急な変化は真の物理的圧力の変化を反映せず、計測機器によって導入される人為的な現象にすぎない。圧力環境の上昇において同様の現象が生じてもよく、ここで、PINDはまず、センサ445の線501の読取値をなぞり、次にセンサ440の線502の読取値をなぞるように変化する。センサ445からの読取値が閾値圧力PSWに達すると、真の圧力はPDとなり、センサ440の圧力の読取値はPAとなる。PAはPSWとは異なる値のため、あるセンサの読取値から別の値へ切り替えるだけで、表示された圧力PINDにおける急な上昇または不連続を生じることがある。
図4bに示されるように、表示された圧力PINDは、プロセッサをあるセンサの読取値から別のセンサの読取値に切り替える場合、2つのセンサの圧力読取値の差を徐々に遷移させるために、いくつかの範囲にわたって調整してもよい。遷移の例示的な実施形態では、信号プロセッサ455は、説明の目的上、「切替元」=センサ(例:プロセッサがここから切替えられるセンサ)と称され得るものからの以前の圧力読取値を使用して、「切替先」(例:プロセッサが順にそこへ切り替えられるセンサ)センサからの現在の読取値を調整して、出力信号を生成することができる。図4bは、一実施例で、センサ間の遷移において真の圧力に対し出力信号PINDがどのように変化するかを示す。表示されているように、真の圧力が比較的高く、かつ低下している場合、表示された圧力PINDは、熱損失センサ440からの読取値に直接対応する、および略等しくてもよいため、線502をなぞってもよい。センサ440からの圧力の読取値が閾値圧力PSWを下回ると、PINDは次に、センサ445からの読取値によって決定されてもよい。しかし、PINDは、PINDがセンサ440(「切替元」センサ)の読取値による決定からセンサ445の読取値による決定へと切り替えられる点において、2つのセンサからの読取値の差を補填するために、センサ445(「切替先」センサ)からの読取値に対して調整される。こうして、PINDは、真の圧力が低下し続けている、曲線504をなぞる。ある点において、曲線504および線501が交わり、PINDはセンサ445の圧力の読取値と等しい。この圧力未満において、PINDは、センサ445の読取値に直接対応する、およびこれと略等しくてもよい。例示的な実施形態では、両センサ435、440、445の現在の読取値からPINDが決定される時点は存在しない。または、表示された圧力PINDは、機器400の累積された圧力範囲における唯一のセンサの読取値から決定してもよい。図4bはさらに、上昇する圧力環境におけるPINDの遷移を表してもよい曲線505を示す。圧力が比較的低く、かつ上昇している場合、PINDがPSWに達するまで、およびプロセッサが例えばセンサ445からセンサ440に切り替わると、PINDは、センサ445からの圧力の読取値から決定してもよく、および、これに略等しくてもよい。次に圧力が上昇を続けるとPINDは遷移曲線505をなぞってもよく、センサ440の現在の圧力の読取値によって決定してもよい。曲線505をなぞっている間、PINDは、センサ440の読取値に対して調整された値である。これにより、PINDがセンサ445から決定される状態からPINDがセンサ440から決定される別の状態への遷移時に、PINDの値の急激な変化を防止してもよい。圧力が上昇を続けると、曲線505は線502と交わり、PINDはセンサ440の読取値と等しい。より高い圧力のために、PINDは、センサ440の圧力の読取値に直接対応してもよく、およびこれと略等しくしてもよい。
図5は、機器センサ435、440、445の圧力読取値から装置100のチャンバ等の表示された圧力の生成において信号プロセッサ455によって実行される処理の一例を示す、フローチャートである。フローチャートに従って動作信号プロセッサ455によって生成される実施例の結果を図6に示す。図5に示される例示的な実施形態では、PS1およびPS2としてラベルされるブロック600および605は、熱損失圧力センサ440から等のセンサの1つからの圧力の読取値PS1(上記に記載、図6も参照)を示してもよい。圧力の読取値PS2(さらに以下に記載される)は、ピエゾ抵抗ダイアフラム圧力センサ435から等、別のセンサからの圧力の読取値にしてもよい。同様に、PS2およびPS1は、HLおよびIGセンサ440、445からの各読取値にしてもよい。ブロック600Iにおいて、システムは、初期化してもよい。理解されるように、システム初期化は、機器400のプロセッサ455の開始/ブート時等の任意の時点で実行してもよい。例えば、プロセッサは、機器構成要素(センサ435、440、445を含む)の適正な動作を確認可能な所望の初期化ルーチンを実行してもよい。プロセッサは、プロセッサが、センサ間で遷移する際に対応するセンサの弁を調整するのに使用されるプログラムアルゴリズム(またはテーブル)と共に、センサの読取値を切り替える、対応するセンサおよび遷移点(つまりPSw)のためにプロセッサによって利用される各圧力範囲等の動作パラメータを選択してもよい。プロセッサ455は、例えばチャンバにおける気体種類ブロック600を登録することで動作パラメータを選択してもよい(上記のようにセンサ圧力範囲および遷移圧力は気体種類によって異なる場合がある)。気体種類(例:空気、N2、アルゴン)を、例えば入出力デバイス510(図3を参照)または気体種類をプロセッサに伝達可能ないずれか他のシステムまたはデバイスによって、オペレータ入力によって登録してもよい。気体種類を登録すると、プロセッサは、登録された気体種類のために各センサ435、440、445の対応する圧力範囲をブロック600Bにおいて選択してもよい。プロセッサは、例えばセンサの圧力範囲を気体種類と相互に関連付ける内部メモリ456から参照テーブルにアクセスすることで、選択を実行してもよい。上記のように、プロセッサは、例えば、リモートセンサから登録された気体種類のためにセンサの圧力範囲を相互に関連付けるまたは確立する情報にアクセスしてもよい。別の実施形態において、各センサ435、440、445の圧力範囲は、入出力デバイスまたはいずれか他のセレクタによって各センサの各範囲を入力するオペレータによって選択してもよい。遷移圧力PSWは、センサの圧力範囲の選択によって定義してもよい。例えば、図4a、図4bに示されるように、センサ圧力範囲が上述のように決定される場合、センサ圧力範囲の端に対応するように、遷移圧力PSWを設定してもよい(例:センサ圧力範囲の端Pc、PD、それぞれ曲線502、501の表示圧力に等しくPSWを設定してもよい)。遷移圧力PSW値は、例えばプロセッサメモリ456においてプリセットおよび記憶してもよく、または別の実施形態において、プロセッサによってアクセス可能な任意のメモリ位置において、センサの圧力範囲の選択時において、選択に対応するPSW値がプロセッサで識別可能になるようにしてもよい。換言すると、プロセッサは、圧力範囲選択のためのPSWの所定の値である。別の実施形態において、プロセッサは、センサからの最良のデータの利点を得るために、PSWの値を決定するようにプログラムしてもよい。上記のように、(同じ種類の)異なるセンサの精度および範囲は変化してもよい(例えば図6を参照)。このため、いくつかのセンサは、所定の種について、同じ種類のその他のセンサよりも広い範囲を有してもよい。これは図4において、補助線502aによって示され、終末圧Pc1、にて終端し、線502によって表示されたセンサ範囲と比較して広い範囲を示す。センサのより広い動作範囲を考慮すると、センサより広い範囲の利点を得るためにPSW'として図4aで識別された遷移圧力を確立し、(より小さい圧力範囲のセンサの)PSWで比較されるより低いPSW'の値を設定することが望ましい。実施例として、(同じ種類のその他のものに対して)より広い範囲を有するセンサは機器のその他のセンサ435、440、445のうちの1つ以上についていくつかの利点(例より早い応答、より高い精度、種類にほぼ依存しない読取値)を有してもよく、このためそのより広い範囲においてこのセンサを採用するために所望であるようにしてもよい。実施例として、PRDセンサ435は、HLセンサよりも高速な応答を有してもよい。従って、PRDセンサを最大限に使用することで切替圧力Psw'(PRDおよびHLセンサの間の切替のために)をほぼPRDセンサの制限/端Pc'に設定することが望ましい場合がある。このため、プロセッサ455は、上述の選択基準または因子を用いてプログラミングされて、PRDとHLセンサとの間のような切換圧力Psw、Psw′の値を当該PRDセンサの最低値に設定し、当該HLセンサの識別された圧力範囲が、上述したように、設定切換圧力Psw′に対応する圧力Pd′において終端するように調整する。プロセッサ455は、値PSW、PSW'を(例えば、識別された終点Pc、Pc’およびセンサ較正値から)計算するためかまたは同様にHLセンサの圧力範囲の調整のためのデータによってプログラミングされてもよいし、これらのデータにアクセス可能にしてもよい。プロセッサ455は、より高い精度またはいずれか他の所望の選択因子を有するセンサに対応するための切替圧力の設定値等の、センサ間で切替圧力PSWを選択するためのその他の所望の因子でプログラムされてもよい。
絶対的な読取値PS1、PS2のそれぞれは、ブロック620によって入力として機能する。さらに、ブロック610において開始モードは初期に設定される。ブロック610において、モードはPS2に設定される。モードは、表示された圧力PIND、圧力が上昇しているまたは低下しているかどうか、および、表示された圧力PINDを決定するために、プロセッサ455によって現在使用されているセンサの読取値の表示である。この実施例において、圧力は最初高く、次に低下しているため、PINDが最初はPS2から決定すべきであり(つまり、例えば熱損失またはイオン化センサではなくPRDセンサに基づいて)、圧力が低下していることを示すために、モードはPS2−に設定される。さらにブロック610において、プロセッサは、さらに、選択された遷移パラメータにアクセスしてもよく、1と等しい変数KS1および0と等しい変数KS2の値を設定してもよい。これらの変数は、以下に説明するように、その他のブロックにおいてPINDを決定するために遷移パラメータに関連して使用してもよい。ブロック625において、PS1の読取値が有効である(例:センサ圧力範囲内である)かどうかが決定される。この実施例では、PS1の読取値は、既定の値PHH未満である場合に有効であると決定される。PHHは、上記の熱損失センサ440の動作範囲の上部終点にしてもよく、熱損失センサの読取値PS1は、精度が不十分であってもよい。ブロック630において、現在のモードが、圧力が上昇しているまたは低下していることを決定するためにリードバック(read back)される。低下している場合、ブロック635が実行される。ブロック635において、PS2は選択された値PSWと比較される。PS2がPSW未満である場合、ブロック640が実行される。そうでない場合には、以下に説明されるように、ブロック690が実行される。ブロック640において、モードは、PINDが熱損失センサからPS1の読取値に現在応答することを示すためにPS1に設定される。ブロック645において、PS1は閾値値PLと比較され、これは、PINDが熱損失センサからの読取値PS1に直接対応する領域の上部終点の値である。PS1がPL未満である場合、ブロック650が実行される。そうでない場合には、以下に説明するように、PINDの値を生成するためにブロック705が実行される。ブロック650において、PS1は閾値PLLと比較され、これはPDRセンサ435の動作圧力範囲の下部終点にしてもよく、これ未満では、PRDセンサは十分正確な読取値を生成するために動作可能とならない。PS1がPLL未満である場合、ブロック655が実行される。そうでない場合には、ブロック665が実行される。ブロック665において、モードは、PINDが熱損失センサ440からの圧力の読取値PS1に現在応答しており、圧力は低下していることを示すためにPS1+に設定される。ブロック660において、KS2はPS2−PS1に設定される。換言すると、KS2は、PRDセンサ435から生成される圧力の読取値および熱損失センサ440からの圧力の読取値の差に設定される。ステップ665において、PINDはPS1、熱損失センサ440からの読取値に等しく設定され、ブロック620が再実行される。
ブロック630においてモードが圧力の上昇を示すポジティブに決定されると、ブロック670が実行される。ブロック670において、PS1はPSWと比較される。PSWがPS1未満である場合、ブロック675が実行される。そうでない場合には、ブロック655が実行される。ブロック675において、モードは、表示された圧力PINDがPRDセンサ435によって生成された圧力の読取値PS2に応答し、圧力が上昇していることを示すPS2+に設定される。ブロック680において、PS2をPHと比較し、これは、表示された圧力PINDはPRDセンサ435と共に生成される圧力の読取値PS2と直接対応する圧力領域の終点にしてもよい。PS2がPHより大きい場合には、ブロック685が実行される。そうでない場合には、PINDの値を生成するためにブロック710が実行される。ブロック685において、PS2はPHHと比較され、これは、センサ440は精度が十分でなくてもよい上記の熱損失センサ440の範囲の上部終点にしてもよい。PS2がPHHより大きい場合、ブロック690が実行される。そうでない場合には、ブロック700が実行される。ブロック690において、KS1はPS1においてPS2の比率と等しく設定される。ブロック695において、モードは、PINDはPS2に応答し、低下していることを示すために、PS2−に設定される。ブロック700において、PINDはPS2と等しく設定される。ブロック620が次に再実行される。
圧力が低下している場合にブロック705が実行され、PRDセンサ435から生成される読取値PS2は閾値値PSW未満であり、熱損失センサ440からの読取値PS1は上記の閾値値PLである。これはPINDがPS1に応答し、PS2に応答しない、およびPINDがPS1の調整された値である範囲であり、この調整はPIND曲線を円滑化し、不連続、上昇、および大規模の微分を回避する。ブロック705は、以下の式に従い、PINDの値を定義する。
圧力が上昇する場合にブロック710が実行され、熱損失センサ440から行われる読取値PS1は上記の閾値値PSWであり、PRDセンサ435から行われる読取値PS2は閾値値PH未満である。これはPINDがPS2に応答し、PS1に応答しない範囲であり、PINDはPS2の調整された値であり、この調整によりPIND曲線が円滑化され、不連続、上昇、および大規模の微分が回避される。ブロック710は、以下の式に従ってPINDの値を定義する。
再び図6を参照すると、図5のフローチャートによって図示されるプロセスから生じ得るPINDの値の実施例の図も示されている。図示されているように、圧力が上昇しているか低下しているかに関係なく、閾値PSWで表示された値PINDに不連続は存在しない。閾値圧力PSWにおいてPINDをPIND=PS2およびPIND=PS1の間で単に切り替える場合に生じるように、PINDの急激な変化は見られないため、閾値値PSW(またはPIND曲線上のその他の位置)におけるまたはこの値の付近のPINDの導関数または勾配の計算によって、高い振幅の値(value of high magnitude)は生じない可能性がある。従って、例えばロードロック雰囲気450の圧力等、PINDの導関数を制御圧力のフィードバックとして使用してもよい。
上記のように、例示的な計測機器は、PDRセンサ435および熱損失センサ440の他に、イオン化センサ445を有してもよい。3つ全てのセンサからの読取値は、拡張範囲にわたって動作可能な表示された圧力出力の生成に使用してもよい。例えば、熱損失センサ440の動作圧力範囲未満の圧力において、表示された圧力はイオン化センサ445の読取値から決定してもよく、これはセンサ440よりも低い圧力範囲で動作してもよい。表示された圧力をセンサ440の読取値から決定する状態から、表示された圧力をセンサ445の読取値から決定する状態への遷移は、センサ435の読取値の使用およびセンサ440の読取値の間の遷移のために、図5および図6を参照し、上述と略同様に処理してよい。このため、計測機器は、イオン化センサ445の動作範囲、さらに熱損失センサ440およびPRDセンサ435の動作範囲を含む拡張動作範囲において圧力を示すように動作可能にしてもよい。計測機器400の拡張動作範囲において、表示された圧力は、常に、センサのうちの1つのみの読取値から決定してもよい、さらに圧力は、あるセンサの読取値から別の読取値へと遷移することによって生じる表示された圧力の任意の上昇または不連続なしで表示してもよい。その他の実施形態において、計測機器は例えば2つのセンサを有してもよく、またはいずれか他の適した数のセンサを有してもよい。その他の実施形態において、任意の適した物理的特徴は、センサによって計測し、機器によって表示してもよい(例:質量、力、光強度、磁場強度、またはその他の物理的数量または特徴)。
上述の記載は本発明を説明するものに過ぎないことが理解されよう。当業者によって、本発明から逸脱せずに、種々の変更および修正を考案することが可能である。従って、本発明は、添付の請求項の範囲において全てのこれらの代替例、修正例および変形例を含むことを意図する。
Claims (11)
- 計測機器であって、
物理的特徴の計測値を表す計測信号を出力するプロセッサと、
前記プロセッサに接続され、前記物理的特徴の第1の測定値を生じるように動作可能な第1のセンサと、
前記プロセッサに接続され、前記物理的特徴の第2の測定値を生じるように動作可能な第2のセンサと、
前記プロセッサに接続され、前記第1のセンサと前記第2のセンサとの間の既定の遷移の選択を実行するように構成された遷移セレクタとを含み、
前記プロセッサは、前記計測信号が前記第1の測定値に依存し前記第2の測定値に依存しない第1の計測範囲を定義し、かつ前記計測信号が前記第2の測定値に依存し前記第1の測定値に依存しない第2の計測範囲を定義し、前記第1の範囲および前記第2の範囲は、前記測定値が前記第1の範囲と前記第2の範囲との間の前記計測信号の遷移に含まれる前記既定の遷移において交わり、前記第1の計測値および前記第2の計測値は前記遷移において異なり、前記計測信号において示される前記計測値は、第1の計測範囲及び第2の計測範囲のうちの1つに対して調整されて、前記測定信号が実質的に急激に変化することなく前記遷移と交差するようになされ、物理的特徴の上昇に関する前記遷移は、物理的特徴の低下に関する前記遷移よりも高い真値において発生することを特徴とする計測機器。 - 前記計測値が、前記第1の範囲から前記第2の範囲へ前記遷移を通過して移行する際に急激に変化しないように、前記計測信号において示される前記計測値は、前記第2の範囲の少なくとも一部にわたり、前記第2の計測値に対して調整されることを特徴とする請求項1に記載の計測機器。
- 前記物理的特徴は圧力であることを特徴とする請求項1に記載の計測機器。
- 前記物理的特徴は気体密度であることを特徴とする請求項1に記載の計測機器。
- 前記計測信号において示される前記計測値は、前記第1の範囲の少なくとも一部にわたって前記第1の計測値と実質的に等しく、前記計測信号において示される前記計測値は前記第2の範囲の少なくとも一部にわたって前記第2の計測と実質的に等しいことを特徴とする請求項1に記載の計測機器。
- 内部に雰囲気を有する少なくとも1つのモジュールと、前記少なくとも1つのモジュール内の前記雰囲気の前記物理的特徴を計測するために前記少なくとも1つのモジュールに接続されている請求項1に記載の計測機器と、を含むことを特徴とする工作物処理装置。
- 方法であって、
第1のセンサによって定量化可能な物理的特徴の第1の計測値を生成するステップと、
第2のセンサによって前記定量化可能な物理的特徴の第2の計測値を生成するステップと、
プロセッサによって、多数の異なる選択可能な遷移規模(transition magnitude)から遷移規模を選択するステップと、
前記物理的特徴の第1の範囲にわたり、前記第1の計測値のみに応答する前記物理的特徴の規模(magnitude)を表示するステップと、
前記定量化可能な物理的特徴の前記遷移規模において前記第1の範囲に隣接する前記物理的特徴の第2の範囲にわたり、前記第2の計測値のみに応答する前記定量化可能な物理的特徴の規模を表示するステップと、
前記表示される物理的特徴の規模が前記第1の範囲と第2の範囲との間の遷移において急激に変化しないように、前記第1の範囲または前記第2の範囲のうちの1つにおける前記定量化可能な物理的特徴の前記表示される規模を調整するステップとを含み、
前記第1の計測値および前記第2の計測値は前記遷移規模において異なり、
物理的特徴の上昇に対する前記遷移規模は、物理的特徴の低下に対する前記遷移規模よりも高い真値において発生することを特徴とする方法。 - 前記表示される規模は、前記定量化可能な物理的特徴が低下している場合に前記第2の範囲でのみ調整されることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記表示される規模は、前記定量化可能な物理的特徴が上昇している場合に前記第1の範囲でのみ調整されることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記第1のセンサおよび前記第2のセンサのうちの少なくとも1つは、ピエゾ抵抗ダイ
アフラム(PRD)センサ、熱損失(HL)センサおよびイオン化センサのうちの少なく
とも1つから選択されることを特徴とする請求項1に記載の計測機器。 - 前記プロセッサに接続され、前記物理的特徴の第3の計測を生じるように動作可能である第3のセンサをさらに含み、前記遷移セレクタは前記第1のセンサ、前記第2のセンサおよび前記第3のセンサの間の既定の遷移の選択を実行するように構成されることを特徴とする請求項1に記載の計測機器。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220094450A (ko) * | 2020-12-29 | 2022-07-06 | 한국전자기술연구원 | 지자기 센서의 자기장 측정 구간 및 범위 자동 조정 방법 |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8195418B2 (en) * | 2007-04-25 | 2012-06-05 | Brooks Automation, Inc. | Pressure measurement instrument and method |
GB2462309B (en) * | 2008-08-01 | 2012-05-30 | Cary Ratner | Pressure gauge |
US7779699B2 (en) | 2009-01-13 | 2010-08-24 | Kulite Semiconductor Products, Inc. | Apparatus for measuring multiple pressures within different pressure ranges |
US9181097B2 (en) * | 2009-02-19 | 2015-11-10 | Sundew Technologies, Llc | Apparatus and methods for safely providing hazardous reactants |
US7997143B2 (en) | 2009-04-09 | 2011-08-16 | Kulite Semiconductor Products, Inc. | Internally switched multiple range transducer |
JP5059054B2 (ja) * | 2009-05-25 | 2012-10-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法 |
EP2345876B1 (en) * | 2010-01-18 | 2019-09-11 | Flow-Tronic S.A. | Method for avoiding jumps in measurement results and improving accuracy in hybrid flow meters |
US8616043B2 (en) * | 2010-04-30 | 2013-12-31 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for calibrating pressure gauges in a substrate processing system |
US8276458B2 (en) * | 2010-07-12 | 2012-10-02 | Rosemount Inc. | Transmitter output with scalable rangeability |
US8838421B2 (en) | 2011-09-30 | 2014-09-16 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method and circuit for calculating sensor modelling coefficients |
US8942958B2 (en) * | 2011-09-30 | 2015-01-27 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method and apparatus for calculating sensor modelling coefficients |
US8930157B2 (en) | 2012-02-21 | 2015-01-06 | Dresser, Inc. | Temperature compensated digital pressure transducer |
JP5773223B2 (ja) * | 2012-12-21 | 2015-09-02 | 村田機械株式会社 | 型締装置と型締方法 |
US9454158B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-09-27 | Bhushan Somani | Real time diagnostics for flow controller systems and methods |
WO2015068152A1 (en) | 2013-11-06 | 2015-05-14 | Hexagon Metrology (Israel) Ltd. | Method and system for analyzing spatial measuring data |
US20150160646A1 (en) * | 2013-12-06 | 2015-06-11 | Ben Ward | Systems and methods for preventing tool damage in a computer controlled resurfacing machine |
JP6234325B2 (ja) * | 2014-05-23 | 2017-11-22 | 株式会社荏原製作所 | 圧力校正用治具、及び、基板処理装置 |
JP2017022933A (ja) | 2015-07-14 | 2017-01-26 | 株式会社ミツトヨ | フィードバック制御装置 |
US10192763B2 (en) * | 2015-10-05 | 2019-01-29 | Applied Materials, Inc. | Methodology for chamber performance matching for semiconductor equipment |
US10083883B2 (en) * | 2016-06-20 | 2018-09-25 | Applied Materials, Inc. | Wafer processing equipment having capacitive micro sensors |
US10983537B2 (en) | 2017-02-27 | 2021-04-20 | Flow Devices And Systems Inc. | Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller |
US10612991B1 (en) * | 2017-08-25 | 2020-04-07 | Fluke Corporation | High dynamic range capacitive pressure sensor |
JP6851348B2 (ja) * | 2018-08-15 | 2021-03-31 | 日本電子株式会社 | 真空装置及び復旧支援方法 |
CN111638023B (zh) * | 2020-05-15 | 2022-04-26 | 北京山太公务机维修技术有限公司 | 一种飞机油箱压力测试方法及系统 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05133763A (ja) * | 1991-11-11 | 1993-05-28 | Yamatake Honeywell Co Ltd | センサの切替装置 |
JPH07209122A (ja) * | 1993-12-15 | 1995-08-11 | Balzers Ag | 2つの圧力センサの出力信号を評価するための方法、及び2つの圧力測定センサを有する圧力測定装置、並びにこの装置を備えた圧力測定ヘッド |
US6318183B1 (en) * | 1998-12-22 | 2001-11-20 | Motorola, Inc. | Multiple element pressure sensor having a selectively pressure sensor range |
JP2001526419A (ja) * | 1997-12-05 | 2001-12-18 | ローズマウント インコーポレイテッド | プロセス制御センサ用多レンジ遷移方法および装置 |
JP2003021566A (ja) * | 2001-07-10 | 2003-01-24 | Teijin Seiki Co Ltd | シリコンダイアフラム型真空圧力センサ装置およびその装置を用いた圧力測定方法 |
JP4634455B2 (ja) * | 2004-09-03 | 2011-02-16 | ワットロー・エレクトリック・マニュファクチャリング・カンパニー | 電力制御システム |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3750151A (en) * | 1971-08-25 | 1973-07-31 | H Dill | Three-phase rotating ring display |
US4949274A (en) * | 1987-05-22 | 1990-08-14 | Omega Engineering, Inc. | Test meters |
US6085156A (en) * | 1998-03-20 | 2000-07-04 | National Instruments Corporation | Instrumentation system and method having instrument interchangeability |
NO310322B1 (no) * | 1999-01-11 | 2001-06-18 | Flowsys As | Maling av flerfasestromning i ror |
CA2314573C (en) * | 2000-01-13 | 2009-09-29 | Z.I. Probes, Inc. | System for acquiring data from a facility and method |
EP1692457A4 (en) * | 2003-12-11 | 2007-09-26 | Proteus Biomedical Inc | IMPLANT PRESSURE SENSORS |
JP4534995B2 (ja) | 2006-02-02 | 2010-09-01 | 株式会社明電舎 | ディジタル形保護継電装置のリスタート方式 |
US7490512B2 (en) * | 2006-09-01 | 2009-02-17 | Jacob Fraden | Detector of low levels of gas pressure and flow |
US8195418B2 (en) * | 2007-04-25 | 2012-06-05 | Brooks Automation, Inc. | Pressure measurement instrument and method |
-
2007
- 2007-04-25 US US11/739,986 patent/US8195418B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-04-24 EP EP08743228.2A patent/EP2140241A4/en not_active Withdrawn
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- 2008-04-24 JP JP2010506251A patent/JP2010525366A/ja active Pending
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-
2012
- 2012-06-01 US US13/487,018 patent/US8589107B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-11-18 US US14/082,894 patent/US20140081581A1/en not_active Abandoned
-
2015
- 2015-02-27 JP JP2015038138A patent/JP5905137B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05133763A (ja) * | 1991-11-11 | 1993-05-28 | Yamatake Honeywell Co Ltd | センサの切替装置 |
JPH07209122A (ja) * | 1993-12-15 | 1995-08-11 | Balzers Ag | 2つの圧力センサの出力信号を評価するための方法、及び2つの圧力測定センサを有する圧力測定装置、並びにこの装置を備えた圧力測定ヘッド |
JP3585969B2 (ja) * | 1993-12-15 | 2004-11-10 | ウンアクシス バルツェルス アクチェンゲゼルシャフト | 2つの圧力センサの出力信号を評価するための方法、及び2つの圧力測定センサを有する圧力測定装置、並びにこの装置を備えた圧力測定ヘッド |
JP2001526419A (ja) * | 1997-12-05 | 2001-12-18 | ローズマウント インコーポレイテッド | プロセス制御センサ用多レンジ遷移方法および装置 |
JP4100869B2 (ja) * | 1997-12-05 | 2008-06-11 | ローズマウント インコーポレイテッド | プロセス制御センサ用多レンジ遷移方法および装置 |
US6318183B1 (en) * | 1998-12-22 | 2001-11-20 | Motorola, Inc. | Multiple element pressure sensor having a selectively pressure sensor range |
JP2003021566A (ja) * | 2001-07-10 | 2003-01-24 | Teijin Seiki Co Ltd | シリコンダイアフラム型真空圧力センサ装置およびその装置を用いた圧力測定方法 |
JP4634455B2 (ja) * | 2004-09-03 | 2011-02-16 | ワットロー・エレクトリック・マニュファクチャリング・カンパニー | 電力制御システム |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220094450A (ko) * | 2020-12-29 | 2022-07-06 | 한국전자기술연구원 | 지자기 센서의 자기장 측정 구간 및 범위 자동 조정 방법 |
KR102563390B1 (ko) | 2020-12-29 | 2023-08-04 | 한국전자기술연구원 | 지자기 센서의 자기장 측정 구간 및 범위 자동 조정 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI509232B (zh) | 2015-11-21 |
US8589107B2 (en) | 2013-11-19 |
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