JP2015143335A - 高分子化合物 - Google Patents
高分子化合物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015143335A JP2015143335A JP2014238489A JP2014238489A JP2015143335A JP 2015143335 A JP2015143335 A JP 2015143335A JP 2014238489 A JP2014238489 A JP 2014238489A JP 2014238489 A JP2014238489 A JP 2014238489A JP 2015143335 A JP2015143335 A JP 2015143335A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- group
- repeating unit
- monomer
- polymer compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 0 C*C(C*(C)(C)C)(*(C)C)C(Oc1ccccc1)=O Chemical compound C*C(C*(C)(C)C)(*(C)C)C(Oc1ccccc1)=O 0.000 description 5
- LVJZCPNIJXVIAT-UHFFFAOYSA-N C=Cc(c(F)c(c(F)c1F)F)c1F Chemical compound C=Cc(c(F)c(c(F)c1F)F)c1F LVJZCPNIJXVIAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPKZWIGZODEBDP-UHFFFAOYSA-N C=Cc(cc1F)ccc1F Chemical compound C=Cc(cc1F)ccc1F VPKZWIGZODEBDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVROHYVJFZYNPF-UHFFFAOYSA-N C=Cc(cccc1F)c1F Chemical compound C=Cc(cccc1F)c1F UVROHYVJFZYNPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLENHEDEELOHSY-UHFFFAOYSA-N C=Cc1c(C(F)(F)F)c(C(F)(F)F)ccc1 Chemical compound C=Cc1c(C(F)(F)F)c(C(F)(F)F)ccc1 OLENHEDEELOHSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGWWQZSCLBZOGK-UHFFFAOYSA-N C=Cc1c(C(F)(F)F)cccc1 Chemical compound C=Cc1c(C(F)(F)F)cccc1 VGWWQZSCLBZOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARHOUOIHKWELMD-UHFFFAOYSA-N C=Cc1cc(C(F)(F)F)ccc1 Chemical compound C=Cc1cc(C(F)(F)F)ccc1 ARHOUOIHKWELMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLJPFZKCYYDBIQ-UHFFFAOYSA-N C=Cc1cc(F)cc(F)c1 Chemical compound C=Cc1cc(F)cc(F)c1 GLJPFZKCYYDBIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFZMIDSAURMSBT-UHFFFAOYSA-N C=Cc1ccc(C(F)(F)F)c(C(F)(F)F)c1 Chemical compound C=Cc1ccc(C(F)(F)F)c(C(F)(F)F)c1 SFZMIDSAURMSBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEWDRCQPGANDRS-UHFFFAOYSA-N C=Cc1ccc(C(F)(F)F)cc1 Chemical compound C=Cc1ccc(C(F)(F)F)cc1 CEWDRCQPGANDRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIUXSMADXLEHOF-UHFFFAOYSA-N Cc1cc(C(F)(F)F)cc(C=C)c1 Chemical compound Cc1cc(C(F)(F)F)cc(C=C)c1 BIUXSMADXLEHOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
- C08F212/30—Sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
- C08F212/16—Halogens
- C08F212/20—Fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
- C08F212/22—Oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/38—Esters containing sulfur
- C08F220/385—Esters containing sulfur and containing nitrogen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Abstract
Description
PSSをドーパントとしたポリチオフェンは高導電性かつ高透明であるためにITO(インジウム−スズ酸化物)に換わる有機EL照明用の導電膜として期待されている。しかしながら有機ELの発光体は、水分によって化学変化し発光しなくなる。つまり、水溶性樹脂の導電膜を有機ELに用いると、樹脂が水を含むために有機ELの発光寿命が短くなってしまうという問題がある。
この高分子化合物を燃料電池に用いることによって、高誘電率な燃料電池用材料を形成することができる。また、共役二重結合ポリマー用のドーパントとして用いることによって、高透明、高導電性で耐久性の高い導電膜を形成することが可能になる。さらに、有機溶剤への溶解性に優れるため、有機EL照明用の導電膜に用いることで、有機EL素子の劣化を防止することができる。
繰り返し単位aと繰り返し単位bの両方を有することで、優れた導電性を付与できるドーパントとなるため、特に燃料電池用や導電性ポリマー等の導電性材料用のドーパントとして好適に用いることができる。
R2は単結合、エステル基、あるいはエーテル基、エステル基のいずれか又はこれらの両方を有していてもよい炭素数1〜12の直鎖状、分岐状、環状の炭化水素基のいずれかであり、炭化水素基としては、例えばアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基等が挙げられる。
Zはフェニレン基、ナフチレン基、エステル基のいずれかである。
なお、a+b+c=1であることが好ましい。
なお、重量平均分子量(Mw)は、溶剤として水、ジメチルホルムアミド(DMF)、テトラヒドロフラン(THF)を用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算測定値である。
この高分子化合物を燃料電池に用いることによって、高誘電率な燃料電池用材料を形成することができる。また、共役二重結合ポリマー用のドーパントとして用いることによって、高透明、高導電性で耐久性の高い導電膜を形成することが可能になる。さらに、有機溶剤への溶解性に優れるため、有機EL照明用の導電膜に用いることで、有機EL素子の劣化を防止することができる。
モノマー2:リチウム 1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(メタクリロイルオキシ)プロパン−1−スルホネート
モノマー3:ベンジルトリメチルアンモニウム 1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(メタクリロイルオキシ)プロパン−1−スルホネート
モノマー4:ベンジルトリメチルアンモニウム 1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(3−メタクリロイルオキシ−アダマンタン−1−カルボニルオキシ)−プロパン−1−スルホネート
モノマー5:ベンジルトリメチルアンモニウム 1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(3−メタクリロイルオキシ−ベンゼン−4−カルボニルオキシ)−プロパン−1−スルホネート
モノマー6:ベンジルトリメチルアンモニウム 2−(4−ビニルベンゾイルオキシ)−1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロパン−1−スルホネート
モノマー7:テトラブチルアンモニウム 1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(アクリロイルオキシ)プロパン−1−スルホネート
モノマー8:ベンジルトリメチルアンモニウム 1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(4−メタクリロイルオキシ−4−メチルアダマンタン−1−カルボニルオキシ)−プロパン−1−スルホネート
モノマー9:ベンジルトリメチルアンモニウム 1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(4−アクリロイルオキシ−4−メチルアダマンタン−1−カルボニルオキシ)−プロパン−1−スルホネート
モノマー10:ベンジルトリメチルアンモニウム 1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(4−アクリロイルオキシ−4−メチルシクロヘキサン−1−カルボニルオキシ)−プロパン−1−スルホネート
窒素雰囲気下、64℃で撹拌したメタノール37.5gに、モノマー1の30.9gとスチレンスルホン酸19.1gと2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル4.77gをメタノール112.5gに溶かした溶液を4時間かけて滴下した。さらに64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、白色重合体42.5gを得た。
得られた重合体を19F,1H−NMR、及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー1:スチレンスルホン酸=1:1
重量平均分子量(Mw)=29,900
分子量分布(Mw/Mn)=1.91
この高分子化合物を(ポリマー1)とする。
窒素雰囲気下、64℃で撹拌したメタノール37.5gに、モノマー2の20.3gとスチレンスルホン酸リチウム29.7gと2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル5.13gをメタノール112.5gに溶かした溶液を4時間かけて滴下した。さらに64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、白色重合体48.0gを得た。
得られた白色重合体を純水912gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてリチウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー2:スチレンスルホン酸=3:7
重量平均分子量(Mw)=23,000
分子量分布(Mw/Mn)=1.89
この高分子化合物を(ポリマー2)とする。
窒素雰囲気下、64℃で撹拌したメタノール37.5gに、モノマー3の39.0gとスチレンスルホン酸リチウム11.0gと2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル3.34gをメタノール112.5gに溶かした溶液を4時間かけて滴下した。さらに64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、白色重合体46.0gを得た。
得られた白色重合体をメタノール414gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてアンモニウム塩とリチウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー3:スチレンスルホン酸=3:2
重量平均分子量(Mw)=33,000
分子量分布(Mw/Mn)=1.81
この高分子化合物を(ポリマー3)とする。
窒素雰囲気下、64℃で撹拌したメタノール37.5gに、モノマー4の38.3gとスチレンスルホン酸リチウム11.7gと2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル2.82gをメタノール112.5gに溶かした溶液を4時間かけて滴下した。さらに64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、白色重合体46.8gを得た。
得られた白色重合体をメタノール421gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてアンモニウム塩とリチウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー4:スチレンスルホン酸=1:1
重量平均分子量(Mw)=43,000
分子量分布(Mw/Mn)=1.77
この高分子化合物を(ポリマー4)とする。
窒素雰囲気下、64℃で撹拌したメタノール37.5gに、モノマー5の37.5gとスチレンスルホン酸リチウム12.5gと2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル3.04gをメタノール112.5gに溶かした溶液を4時間かけて滴下した。さらに64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、白色重合体47.1gを得た。
得られた白色重合体をメタノール424gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてアンモニウム塩とリチウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー5:スチレンスルホン酸=1:1
重量平均分子量(Mw)=39,000
分子量分布(Mw/Mn)=1.81
この高分子化合物を(ポリマー5)とする。
窒素雰囲気下、64℃で撹拌したメタノール37.5gに、モノマー3の20.4gとスチレンスルホン酸リチウム17.3gと4−(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール)スチレン12.3g及び2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル4.19gをメタノール112.5gに溶かした溶液を4時間かけて滴下した。さらに64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、白色重合体44.0gを得た。
得られた白色重合体をメタノール396gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてアンモニウム塩とリチウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー3:スチレンスルホン酸:4−(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール)スチレン=1:2:1
重量平均分子量(Mw)=29,900
分子量分布(Mw/Mn)=1.91
この高分子化合物を(ポリマー6)とする。
下記RAFT重合によって狭分散なポリマーを合成した。
窒素雰囲気下、2−シアノ−2−プロピルベンゾジチオエート0.52g、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.13gをメタノール37.5gに溶解させ、その溶液を窒素雰囲気下64℃で3時間撹拌した。その溶液にモノマー3の39.0gとスチレンスルホン酸リチウム11.0gをメタノール112.5gに溶解させた溶液を4時間で滴下した。滴下終了後、64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、赤色重合体41.0gを得た。
得られた赤色重合体をメタノール369gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてアンモニウム塩とリチウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー3:スチレンスルホン酸=1:1
重量平均分子量(Mw)=23,000
分子量分布(Mw/Mn)=1.32
この高分子化合物を(ポリマー7)とする。
下記RAFT重合によって狭分散なポリマーを合成した。
窒素雰囲気下、2−シアノ−2−プロピルベンゾジチオエート0.47g、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.12gをメタノール37.5gに溶解させ、その溶液を窒素雰囲気下64℃で3時間撹拌した。その溶液にモノマー6の36.3gとスチレンスルホン酸リチウム13.7gをメタノール112.5gに溶解させた溶液を4時間で滴下した。滴下終了後、64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、赤色重合体38.0gを得た。
得られた赤色重合体をメタノール279gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてアンモニウム塩とリチウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー6:スチレンスルホン酸=1:1
重量平均分子量(Mw)=31,000
分子量分布(Mw/Mn)=1.38
この高分子化合物を(ポリマー8)とする。
下記RAFT重合によってジブロックコポリマーを合成した。
窒素雰囲気下、2−シアノ−2−プロピルベンゾジチオエート0.42g、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.10gをメタノール37.5gに溶解させ、その溶液を窒素雰囲気下64℃で3時間撹拌した。その溶液にモノマー3の28.6gをメタノール64.3gに溶解させた溶液を2時間で滴下した。続いてその溶液にスチレンスルホン酸ベンジルトリメチルアンモニウム21.4gをメタノール48.2gに溶解させた溶液を2時間で滴下した。滴下終了後、64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、赤色重合体41.8gを得た。
得られた赤色重合体をメタノール306gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてアンモニウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー3:スチレンスルホン酸=1:1
重量平均分子量(Mw)=22,000
分子量分布(Mw/Mn)=1.31
この高分子化合物を(ポリマー9)とする。
下記RAFT重合によってジブロックコポリマーを合成した。
窒素雰囲気下、2−シアノ−2−プロピルベンゾジチオエート0.39g、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.10gをメタノール37.5gに溶解させ、その溶液を窒素雰囲気下64℃で3時間撹拌した。その溶液にモノマー6の30.2gをメタノール67.9gに溶解させた溶液を2時間で滴下した。続いてその溶液にスチレンスルホン酸ベンジルトリメチルアンモニウム19.7gをメタノール44.6gに溶解させた溶液を2時間で滴下した。滴下終了後、64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、赤色重合体39.8gを得た。
得られた赤色重合体をメタノール279gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてアンモニウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー6:スチレンスルホン酸=1:1
重量平均分子量(Mw)=30,000
分子量分布(Mw/Mn)=1.36
この高分子化合物を(ポリマー10)とする。
下記RAFT重合によってトリブロックコポリマーを合成した。
窒素雰囲気下、2−シアノ−2−プロピルベンゾジチオエート0.39g、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.10gをメタノール37.5gに溶解させ、その溶液を窒素雰囲気下64℃で3時間撹拌した。その溶液にモノマー6の15.1gをメタノール33.9gに溶解させた溶液を2時間で滴下した。続いてその溶液にスチレンスルホン酸ベンジルトリメチルアンモニウム19.7gをメタノール44.6gに溶解させた溶液を2時間で滴下した。さらにその溶液にモノマー6の15.1gをメタノール33.9gに溶解させた溶液を2時間で滴下した。滴下終了後、64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、赤色重合体39.8gを得た。
得られた赤色重合体をメタノール279gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてアンモニウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー6:スチレンスルホン酸=1:1
重量平均分子量(Mw)=29,000
分子量分布(Mw/Mn)=1.33
この高分子化合物を(ポリマー11)とする。
窒素雰囲気下、64℃で撹拌したメタノール37.5gに、モノマー7の25.3gとスチレンスルホン酸リチウム19.1gと2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル3.34gをメタノール112.5gに溶かした溶液を4時間かけて滴下した。さらに64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、白色重合体39.6gを得た。
得られた白色重合体をメタノール414gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてアンモニウム塩とリチウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー7:スチレンスルホン酸=1:1
重量平均分子量(Mw)=28,700
分子量分布(Mw/Mn)=1.58
この高分子化合物を(ポリマー12)とする。
窒素雰囲気下、64℃で撹拌したメタノール37.5gに、モノマー8の32.0gとスチレンスルホン酸リチウム19.1gと2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル3.34gをメタノール112.5gに溶かした溶液を4時間かけて滴下した。さらに64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、白色重合体46.9gを得た。
得られた白色重合体をメタノール414gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてアンモニウム塩とリチウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー8:スチレンスルホン酸=1:1
重量平均分子量(Mw)=45,100
分子量分布(Mw/Mn)=1.93
この高分子化合物を(ポリマー13)とする。
窒素雰囲気下、64℃で撹拌したメタノール37.5gに、モノマー9の31.3gとスチレンスルホン酸リチウム19.1gと2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル3.34gをメタノール112.5gに溶かした溶液を4時間かけて滴下した。さらに64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、白色重合体42.7gを得た。
得られた白色重合体をメタノール414gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてアンモニウム塩とリチウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー9:スチレンスルホン酸=1:1
重量平均分子量(Mw)=38,000
分子量分布(Mw/Mn)=1.61
この高分子化合物を(ポリマー14)とする。
窒素雰囲気下、64℃で撹拌したメタノール37.5gに、モノマー10の29.4gとスチレンスルホン酸リチウム19.1gと2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル3.34gをメタノール112.5gに溶かした溶液を4時間かけて滴下した。さらに64℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後、1,000gの酢酸エチルに激しく撹拌しながら滴下した。生じた固形物を濾過して取り、50℃で15時間真空乾燥して、白色重合体44.1gを得た。
得られた白色重合体をメタノール414gに溶解し、イオン交換樹脂を用いてアンモニウム塩とリチウム塩をスルホ基に変換した。得られた重合体を19F,1H−NMR及びGPC測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比) モノマー10:スチレンスルホン酸=1:1
重量平均分子量(Mw)=48,300
分子量分布(Mw/Mn)=1.98
この高分子化合物を(ポリマー15)とする。
Claims (4)
- 前記高分子化合物が、ブロックコポリマーであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の高分子化合物。
- 前記高分子化合物が、導電性ポリマー用のドーパントとして用いられるものであることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の高分子化合物。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014238489A JP6209157B2 (ja) | 2013-12-25 | 2014-11-26 | 高分子化合物 |
KR1020140185783A KR101856812B1 (ko) | 2013-12-25 | 2014-12-22 | 고분자 화합물 |
TW103145261A TWI615414B (zh) | 2013-12-25 | 2014-12-24 | 高分子化合物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013266366 | 2013-12-25 | ||
JP2013266366 | 2013-12-25 | ||
JP2014238489A JP6209157B2 (ja) | 2013-12-25 | 2014-11-26 | 高分子化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015143335A true JP2015143335A (ja) | 2015-08-06 |
JP6209157B2 JP6209157B2 (ja) | 2017-10-04 |
Family
ID=53399309
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014238489A Active JP6209157B2 (ja) | 2013-12-25 | 2014-11-26 | 高分子化合物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9493597B2 (ja) |
JP (1) | JP6209157B2 (ja) |
TW (1) | TWI615414B (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016181355A (ja) * | 2015-03-23 | 2016-10-13 | 信越化学工業株式会社 | 導電性材料及び基板 |
JP2016188350A (ja) * | 2014-05-20 | 2016-11-04 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー複合体及び基板 |
JP2017043753A (ja) * | 2015-08-25 | 2017-03-02 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー複合体及び基板 |
JP2017043715A (ja) * | 2015-08-27 | 2017-03-02 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー複合体及び基板 |
JP2017043752A (ja) * | 2015-08-25 | 2017-03-02 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー用高分子化合物及びその製造方法 |
JP2017043719A (ja) * | 2015-08-27 | 2017-03-02 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー複合体及び基板 |
JP2017043663A (ja) * | 2015-08-24 | 2017-03-02 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー用高分子化合物及びその製造方法 |
JP2017061631A (ja) * | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 信越化学工業株式会社 | 導電性高分子組成物、被覆品、及びパターン形成方法 |
JP2017115124A (ja) * | 2015-12-22 | 2017-06-29 | 信越化学工業株式会社 | 導電性材料及び基板 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6438348B2 (ja) * | 2014-08-28 | 2018-12-12 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー複合体及び基板 |
JP6499535B2 (ja) * | 2015-07-09 | 2019-04-10 | 信越化学工業株式会社 | 被覆品、及びパターン形成方法 |
US9752045B2 (en) * | 2015-08-25 | 2017-09-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Conductive polymer composite and substrate |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011070947A1 (ja) * | 2009-12-08 | 2011-06-16 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、重合体、単量体及び感放射線性樹脂組成物の製造方法 |
JP2012037876A (ja) * | 2010-07-14 | 2012-02-23 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物 |
JP2012181511A (ja) * | 2011-02-09 | 2012-09-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 |
WO2013047660A1 (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-04 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 透明電極、有機電子素子および透明電極の製造方法 |
WO2013073259A1 (ja) * | 2011-11-16 | 2013-05-23 | 東ソー有機化学株式会社 | 高純度パラスチレンスルホン酸(塩)、それを用いたポリスチレンスルホン酸(塩)、およびポリスチレンスルホン酸(塩)を用いた、分散剤、導電性ポリマードーパント、ナノカーボン材料水性分散体、導電性ポリマー水性分散体、ならびにポリスチレンスルホン酸(塩)の製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7666326B2 (en) | 2004-08-30 | 2010-02-23 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | Conductive composition and conductive cross-linked product, capacitor and production method thereof, and antistatic coating material, antistatic coating, antistatic film, optical filter, and optical information recording medium |
EP1899985A4 (en) | 2005-06-27 | 2010-03-10 | Du Pont | ELECTRICALLY CONDUCTIVE POLYMER COMPOSITIONS |
WO2008005413A2 (en) | 2006-06-30 | 2008-01-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Stabilized compositions of conductive polymers and partially-fluorinated acid polymers |
US7569326B2 (en) * | 2006-10-27 | 2009-08-04 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Sulfonium salt having polymerizable anion, polymer, resist composition, and patterning process |
JP2008146913A (ja) | 2006-12-07 | 2008-06-26 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 導電性高分子溶液及び導電性塗膜 |
JP5201363B2 (ja) | 2008-08-28 | 2013-06-05 | 信越化学工業株式会社 | 重合性アニオンを有するスルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP5292377B2 (ja) | 2010-10-05 | 2013-09-18 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 |
JP5521996B2 (ja) * | 2010-11-19 | 2014-06-18 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩を含む高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法、並びにスルホニウム塩単量体及びその製造方法 |
JP5668710B2 (ja) | 2012-02-27 | 2015-02-12 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物及びそれを含んだレジスト材料並びにパターン形成方法、該高分子化合物の製造方法 |
JP5741518B2 (ja) | 2012-04-24 | 2015-07-01 | 信越化学工業株式会社 | レジスト下層膜材料及びパターン形成方法 |
JP6020347B2 (ja) | 2012-06-04 | 2016-11-02 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP6307290B2 (ja) | 2013-03-06 | 2018-04-04 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 |
-
2014
- 2014-11-26 JP JP2014238489A patent/JP6209157B2/ja active Active
- 2014-12-09 US US14/564,494 patent/US9493597B2/en active Active
- 2014-12-24 TW TW103145261A patent/TWI615414B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011070947A1 (ja) * | 2009-12-08 | 2011-06-16 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、重合体、単量体及び感放射線性樹脂組成物の製造方法 |
JP2012037876A (ja) * | 2010-07-14 | 2012-02-23 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物 |
JP2012181511A (ja) * | 2011-02-09 | 2012-09-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 |
WO2013047660A1 (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-04 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 透明電極、有機電子素子および透明電極の製造方法 |
WO2013073259A1 (ja) * | 2011-11-16 | 2013-05-23 | 東ソー有機化学株式会社 | 高純度パラスチレンスルホン酸(塩)、それを用いたポリスチレンスルホン酸(塩)、およびポリスチレンスルホン酸(塩)を用いた、分散剤、導電性ポリマードーパント、ナノカーボン材料水性分散体、導電性ポリマー水性分散体、ならびにポリスチレンスルホン酸(塩)の製造方法 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016188350A (ja) * | 2014-05-20 | 2016-11-04 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー複合体及び基板 |
JP2016181355A (ja) * | 2015-03-23 | 2016-10-13 | 信越化学工業株式会社 | 導電性材料及び基板 |
JP2017043663A (ja) * | 2015-08-24 | 2017-03-02 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー用高分子化合物及びその製造方法 |
JP2017043753A (ja) * | 2015-08-25 | 2017-03-02 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー複合体及び基板 |
JP2017043752A (ja) * | 2015-08-25 | 2017-03-02 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー用高分子化合物及びその製造方法 |
TWI677567B (zh) * | 2015-08-25 | 2019-11-21 | 日商信越化學工業股份有限公司 | 導電性聚合物用高分子化合物及其製造方法 |
JP2017043715A (ja) * | 2015-08-27 | 2017-03-02 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー複合体及び基板 |
KR20170026189A (ko) * | 2015-08-27 | 2017-03-08 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 도전성 중합체 복합체 및 기판 |
KR101993507B1 (ko) | 2015-08-27 | 2019-06-26 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 도전성 중합체 복합체 및 기판 |
TWI673311B (zh) * | 2015-08-27 | 2019-10-01 | 日商信越化學工業股份有限公司 | 導電性聚合物複合體及基板 |
JP2017043719A (ja) * | 2015-08-27 | 2017-03-02 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー複合体及び基板 |
JP2017061631A (ja) * | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 信越化学工業株式会社 | 導電性高分子組成物、被覆品、及びパターン形成方法 |
JP2017115124A (ja) * | 2015-12-22 | 2017-06-29 | 信越化学工業株式会社 | 導電性材料及び基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6209157B2 (ja) | 2017-10-04 |
TWI615414B (zh) | 2018-02-21 |
US9493597B2 (en) | 2016-11-15 |
US20150175730A1 (en) | 2015-06-25 |
TW201536820A (zh) | 2015-10-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6209157B2 (ja) | 高分子化合物 | |
JP6225100B2 (ja) | 導電性ポリマー用高分子化合物の製造方法 | |
KR102295297B1 (ko) | 도전성 폴리머용 고분자 화합물 및 그의 제조 방법 | |
JP6366550B2 (ja) | 導電性ポリマー用高分子化合物及びその製造方法 | |
JP6271378B2 (ja) | 導電性ポリマー用高分子化合物及びその製造方法 | |
JP6195811B2 (ja) | 導電性ポリマー用高分子化合物の製造方法 | |
JP6450695B2 (ja) | 導電性ポリマー用高分子化合物及びその製造方法 | |
JP6209136B2 (ja) | 導電性ポリマー用高分子化合物及びその製造方法 | |
KR101856812B1 (ko) | 고분자 화합물 | |
KR101864919B1 (ko) | 도전성 중합체용 고분자 화합물 및 그의 제조 방법 | |
US10125202B2 (en) | Polymer compound for a conductive polymer and method for producing same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161128 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170531 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170620 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170803 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170905 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170908 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6209157 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |