JP2015135881A - 基板収納容器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体ウェーハ1を収納する容器本体と、容器本体の開口した正面に嵌合される蓋体とを備え、蓋体に、半導体ウェーハ1支持用のフロントリテーナを装着し、フロントリテーナを、蓋体に装着されて半導体ウェーハ1に対向可能な枠体と、枠体の弾性片に一体形成される保持ブロック43と、保持ブロック43に形成されて半導体ウェーハ1の周縁部前方を嵌入保持する保持溝44とから形成し、保持溝44を断面略V字形に形成してその各傾斜面45を半導体ウェーハ1用の接触領域46と回避領域47とに区画し、接触領域46を回避領域47よりも谷底48側に位置させ、接触領域46に半導体ウェーハ1の周縁部前方を線接触させる。
【選択図】 図6
Description
リテーナは、蓋体に装着されて半導体ウェーハに対向可能な被装着部材と、この被装着部材に形成される保持部と、この保持部に形成されて半導体ウェーハの周縁部を嵌入保持する保持溝とを含み、保持溝を断面略V字形に形成してその各傾斜面を半導体ウェーハ用の接触領域と回避領域とに区画し、保持溝の接触領域を回避領域よりも谷底側に位置させ、保持溝の接触領域に半導体ウェーハの周縁部を線接触させるようにしたことを特徴としている。
また、容器本体をフロントオープンボックスに形成し、この容器本体の両側壁の内面に、蓋体が取り外されている場合に半導体ウェーハの周縁部両側を略水平に支持する支持片をそれぞれ設けるとともに、容器本体の両側壁の内面には、容器本体に蓋体が嵌合された場合に支持片から浮上した半導体ウェーハの周縁部両側を支持するV溝をそれぞれ設け、この複数のV溝を複数の支持片の後方に位置させることができる。
また、リテーナの保持溝を形成する一対の傾斜面の接触領域を半導体ウェーハの1/2の厚さの1.1〜2倍以下の半径で略円弧形に形成することもできる。
2 表面
3 周縁部
4 斜面
5 端面
10 容器本体
11 側壁
12 支持片
13 V溝
14 下部傾斜面
20 蓋体
30 施錠機構
40 フロントリテーナ
41 枠体(被装着部材)
42 弾性片
43 保持ブロック(保持部)
44 保持溝
45 傾斜面
46 接触領域
47 回避領域
48 谷底
Claims (4)
- 半導体ウェーハを収納する容器本体と、この容器本体の開口面に着脱自在に嵌合される蓋体とを備え、蓋体に、半導体ウェーハを支持するリテーナを装着した基板収納容器であって、
リテーナは、蓋体に装着されて半導体ウェーハに対向可能な被装着部材と、この被装着部材に形成される保持部と、この保持部に形成されて半導体ウェーハの周縁部を嵌入保持する保持溝とを含み、保持溝を断面略V字形に形成してその各傾斜面を半導体ウェーハ用の接触領域と回避領域とに区画し、保持溝の接触領域を回避領域よりも谷底側に位置させ、保持溝の接触領域に半導体ウェーハの周縁部を線接触させるようにしたことを特徴とする基板収納容器。 - 半導体ウェーハは、その表裏両面の周縁に先細りの斜面がそれぞれ形成され、この一対の斜面間に端面が一体形成されている請求項1記載の基板収納容器。
- リテーナの保持溝を形成する傾斜面の接触領域と回避領域のうち、少なくとも回避領域の傾斜角度を23.5°〜55°とした請求項1又は2記載の基板収納容器。
- リテーナの保持溝を形成する一対の傾斜面の接触領域を半導体ウェーハの1/2の厚さの1.1〜2倍以下の半径で略円弧形に形成した請求項1又は2記載の基板収納容器。
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