JP6190726B2 - 基板収納容器 - Google Patents
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Description
半導体ウェーハは、その表裏両面の周縁に先細りの斜面がそれぞれ形成されるとともに、この一対の斜面間に端面が一体形成され、表面側の斜面に酸化膜と金属薄膜とが積層形成されており、
リテーナは、蓋体に装着されて半導体ウェーハに対向可能な被装着部材と、この被装着部材に形成される保持部と、この保持部に形成されて半導体ウェーハの周縁部を嵌入保持する保持溝とを含み、保持溝を断面略V字形に形成してその各傾斜面を半導体ウェーハ用の接触領域と回避領域とに区画し、保持溝の接触領域を回避領域よりも谷底側に位置させるとともに、これら接触領域と回避領域のうち、少なくとも回避領域の傾斜角度を23.5°〜55°とし、保持溝の接触領域に半導体ウェーハの周縁部の斜面と端面との境界角部を線接触させるようにしたことを特徴としている。
2 表面
3 周縁部
4 斜面
5 端面
10 容器本体
11 側壁
12 支持片
13 V溝
14 下部傾斜面
20 蓋体
30 施錠機構
40 フロントリテーナ
41 枠体(被装着部材)
42 弾性片
43 保持ブロック(保持部)
44 保持溝
45 傾斜面
46 接触領域
47 回避領域
48 谷底
Claims (2)
- 表面に所定の加工が施された半導体ウェーハを収納する容器本体と、この容器本体の開口面に着脱自在に嵌合される蓋体とを備え、蓋体に、半導体ウェーハを支持するリテーナを装着した基板収納容器であって、
半導体ウェーハは、その表裏両面の周縁に先細りの斜面がそれぞれ形成されるとともに、この一対の斜面間に端面が一体形成され、表面側の斜面に酸化膜と金属薄膜とが積層形成されており、
リテーナは、蓋体に装着されて半導体ウェーハに対向可能な被装着部材と、この被装着部材に形成される保持部と、この保持部に形成されて半導体ウェーハの周縁部を嵌入保持する保持溝とを含み、保持溝を断面略V字形に形成してその各傾斜面を半導体ウェーハ用の接触領域と回避領域とに区画し、保持溝の接触領域を回避領域よりも谷底側に位置させるとともに、これら接触領域と回避領域のうち、少なくとも回避領域の傾斜角度を23.5°〜55°とし、保持溝の接触領域に半導体ウェーハの周縁部の斜面と端面との境界角部を線接触させるようにしたことを特徴とする基板収納容器。 - リテーナの保持溝を形成する一対の傾斜面の接触領域を半導体ウェーハの1/2の厚さの1.1〜2倍以下の半径で略円弧形に形成した請求項1記載の基板収納容器。
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