JP6109554B2 - 基板収納容器 - Google Patents
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Description
しかしながら、従来における容器本体の支持溝は、容器本体の成形時に単に凹み形成されるに止まり、材質や表面の状態がさほど考慮されていないので、半導体ウェーハの滑らかなせり上がりや円滑な下降が期待できない場合がある。
しかし、(1)の方法の場合には、容器本体用の金型に大規模な改良を施したり、コストの増大を招くという問題が新たに生じる。また、支持溝の角度によっては、半導体ウェーハの円滑な下降が期待できるものの、半導体ウェーハの滑らかなせり上がりが実現できないことがあり、この逆の事態も予想される。
容器本体の内面と蓋体のうち、少なくとも容器本体の内面に、支持片から浮上した基板を支持する溝を設け、この溝を区画する斜面を、支持片を移動した基板の周縁部に最初に接触する第一のツヤ領域と、この第一のツヤ領域を通過して来た基板の周縁部に接触するツヤ消し領域と、このツヤ消し領域を通過して来た基板の周縁部に接触して溝の谷に誘導する第二のツヤ領域とに区画し、第一、第二のツヤ領域の静摩擦係数をツヤ消し領域の静摩擦係数よりも低くし、ツヤ消し領域の動摩擦係数を第一、第二のツヤ領域の動摩擦係数よりも低くしたことを特徴としている。
また、斜面の第一、第二のツヤ領域をポリブチレンテレフタレート樹脂により成形し、斜面のツヤ消し領域をポリカーボネート樹脂により成形することもできる。
実施例1
先ず、図6に示す半導体ウェーハ用の支持構造検討装置を用意し、この支持構造検討装置を基板収納容器と看做すこととした。この支持構造検討装置のベース板のサポート具には、断面V字形状の支持溝をポリカーボネート樹脂により凹み成形し、この支持溝の下方の斜面の傾斜角度を60°に設定した。
基本的には実施例1と同様であるが、ベース板のサポート具に、断面V字形状の支持溝をポリブチレンテレフタレート樹脂により凹み成形し、この支持溝の下方の斜面に、第一のツヤ領域、ツヤ消し領域、第二のツヤ領域を形成した。この支持溝を用いて上記作業を3回繰り返し、結果を表1にまとめた。
基本的には実施例1と同様であるが、ベース板のサポート具に、断面V字形状の支持溝をシクロオレフィンポリマー樹脂により凹み成形し、この支持溝の下方の斜面に、第一のツヤ領域、ツヤ消し領域、第二のツヤ領域を形成した。この支持溝を用いて上記作業を3回繰り返し、結果を表1に記載した。
基本的には実施例1と同様だが、支持溝の下方の斜面の第一、第二のツヤ領域をポリブチレンテレフタレート樹脂により成形し、ツヤ消し領域をポリカーボネート樹脂により成形した。この支持溝を用いて上記作業を3回繰り返し、結果を表1に記載した。
基本的には実施例と同様だが、支持溝をポリカーボネート樹脂により単に凹み成形し、この支持溝を、第一のツヤ領域、ツヤ消し領域、第二のツヤ領域を有しない従来タイプとした。この支持溝を用いて上記作業を3回繰り返し、結果を表1に示した。
2 正面
3 支持片
10 蓋体
11 蓋本体
12 フロントリテーナ
14 弾性片
15 保持溝(溝)
20 斜面
21 斜面
22 谷
23 第一のツヤ領域
24 ツヤ消し領域
25 第二のツヤ領域
40 支持溝(溝)
41 谷
42 斜面
43 斜面
44 第一のツヤ領域
45 ツヤ消し領域
46 第二のツヤ領域
50 支持構造検討装置
W 半導体ウェーハ(基板)
Claims (3)
- 基板を収納する容器本体と、この容器本体の正面を開閉する蓋体とを備え、容器本体の内部両側に、基板を略水平に支持する支持片を対向させて設け、基板を収納した容器本体の開口した正面に蓋体を嵌め入れた場合に、支持片から基板を浮上させて容器本体の内面に接触支持させる基板収納容器であって、
容器本体の内面と蓋体のうち、少なくとも容器本体の内面に、支持片から浮上した基板を支持する溝を設け、この溝を区画する斜面を、支持片を移動した基板の周縁部に最初に接触する第一のツヤ領域と、この第一のツヤ領域を通過して来た基板の周縁部に接触するツヤ消し領域と、このツヤ消し領域を通過して来た基板の周縁部に接触して溝の谷に誘導する第二のツヤ領域とに区画し、第一、第二のツヤ領域の静摩擦係数をツヤ消し領域の静摩擦係数よりも低くし、ツヤ消し領域の動摩擦係数を第一、第二のツヤ領域の動摩擦係数よりも低くしたことを特徴とする基板収納容器。 - 蓋体の基板に対向する対向面に、基板の周縁前部に弾性片の溝を圧接して保持するフロントリテーナを取り付け、このフロントリテーナの溝を区画する斜面を、基板の周縁前部に最初に接触する第一のツヤ領域と、この第一のツヤ領域を通過して来た基板の周縁前部に接触するツヤ消し領域と、このツヤ消し領域を通過して来た基板の周縁前部に接触して溝の谷に誘導する第二のツヤ領域とから形成し、第一、第二のツヤ領域の静摩擦係数をツヤ消し領域の静摩擦係数よりも低くし、ツヤ消し領域の動摩擦係数を第一、第二のツヤ領域の動摩擦係数よりも低くした請求項1記載の基板収納容器。
- 斜面の第一、第二のツヤ領域をポリブチレンテレフタレート樹脂により成形し、斜面のツヤ消し領域をポリカーボネート樹脂により成形した請求項1又は2記載の基板収納容器。
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