JP2011131940A - 基板収納容器、膜付きガラス基板収納体、マスクブランク収納体、および転写マスク収納体 - Google Patents
基板収納容器、膜付きガラス基板収納体、マスクブランク収納体、および転写マスク収納体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011131940A JP2011131940A JP2011061985A JP2011061985A JP2011131940A JP 2011131940 A JP2011131940 A JP 2011131940A JP 2011061985 A JP2011061985 A JP 2011061985A JP 2011061985 A JP2011061985 A JP 2011061985A JP 2011131940 A JP2011131940 A JP 2011131940A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- substrate
- container
- groove
- glass substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】容器本体と容器蓋とから成る収納容器の容器本体の左右および底にはマスクブランク10の左右および下側の外周端面11bが収納保持されている保持溝43、45が形成されており、保持溝43(45)は、溝底面43a(45a)と溝側面43b、43c(45b、45c)の入り隅の角度θaを適切に設定することにより、当該溝側面がマスクブランク10の遮光膜およびレジスト膜の端14に干渉しないようにしてある。
【選択図】図3
Description
次に、図3を参照して、本例の保持溝43、45の断面形状について説明する。左右の基板保持板42および底側の基板保持板44に形成されている保持溝43、45の断面形状は同一であるので、底側の基板保持板44に形成されている保持溝45について説明し、左右の保持溝43については詳細な説明を省略する。
135°<θa<180°
90°<θb<135°
10 マスクブランク
11 ガラス基板
11a 表面
11b 外周端面
11c、11d 面取り面
11e 裏面
12 遮光膜
13 レジスト膜
14 膜の端
20 収納容器
30 容器本体
35、36 側板部分
37、38 端板部分
37a、38a 差込溝
39 底板部分
42、44 基板保持板
43、45 保持溝
43a、45a 溝底面
43b、43c、45b、45c 溝側面
50 容器蓋
58 弾性体
59 半透明板
Claims (7)
- 表面に薄膜が形成され、当該表面と外周端面の出隅部分が面取り面となっている膜付きガラス基板を収納するための基板収納容器であって、
前記膜付きガラス基板の前記外周端面を保持するための保持溝を有し、
当該保持溝は、溝底面と、対向する第1および第2溝側面とを備えており、
前記第1溝側面と前記溝底面の入り隅の角度は、前記膜付きガラス基板の前記外周端面と前記面取り面のなす角度より大きいことを特徴とする基板収納容器。 - 請求項1において、
前記膜付きガラス基板における裏面と前記外周端面の出隅部分も面取り面となっており、
前記保持溝における前記第2溝側面と前記溝底面の入り隅の角度は、前記膜付きガラス基板の前記外周端面と前記裏面側の面取り面のなす角度より小さいことを特徴とする基板収納容器。 - 請求項1または2において、
前記保持溝が形成された基板保持部材が着脱可能な状態で取り付けられていることを特徴とする基板収納容器。 - 請求項3において、
上端面が開口部となっている偏平な直方体形状の容器本体と、前記開口部を封鎖している着脱可能な容器蓋とを有し、
前記基板保持部材は、前記容器本体内部の底面および対向する一対の側面に取り付けられていることを特徴とする基板収納容器。 - 請求項4において、
前記容器蓋は赤色の半透明部分を備えており、
前記容器本体に収納される膜付きガラス基板の裏面に前記半透明部分が対峙するように、前記容器蓋を前記容器本体に被せることが可能となっていることを特徴とする基板収納容器。 - 請求項1ないし5のうちのいずれかの項に記載の基板収納容器と、
当該基板収納容器に収納されている前記膜付きガラス基板とを有し、
前記膜付きガラス基板は、遮光膜およびレジスト膜が積層されたマスクブランクであることを特徴とするマスクブランク収納体。 - 請求項1ないし5のうちのいずれかの項に記載の基板収納容器と、
当該基板収納容器に収納されている前記膜付きガラス基板とを有し、
前記膜付きガラス基板は、パターニングされた遮光膜が形成されている転写マスクであることを特徴とする転写マスク収納体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011061985A JP5416154B2 (ja) | 2011-03-22 | 2011-03-22 | 基板収納容器、膜付きガラス基板収納体、マスクブランク収納体、および転写マスク収納体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011061985A JP5416154B2 (ja) | 2011-03-22 | 2011-03-22 | 基板収納容器、膜付きガラス基板収納体、マスクブランク収納体、および転写マスク収納体 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005345272A Division JP4801981B2 (ja) | 2005-11-30 | 2005-11-30 | 基板収納容器、膜付きガラス基板収納体、マスクブランク収納体、および転写マスク収納体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011131940A true JP2011131940A (ja) | 2011-07-07 |
JP5416154B2 JP5416154B2 (ja) | 2014-02-12 |
Family
ID=44345127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011061985A Active JP5416154B2 (ja) | 2011-03-22 | 2011-03-22 | 基板収納容器、膜付きガラス基板収納体、マスクブランク収納体、および転写マスク収納体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5416154B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015135881A (ja) * | 2014-01-17 | 2015-07-27 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
WO2016100843A1 (en) * | 2014-12-18 | 2016-06-23 | Entegris, Inc. | Wafer container with shock condition protection |
WO2016154536A1 (en) * | 2015-03-25 | 2016-09-29 | Entegris, Inc. | Wafer container with cross-slotting protection |
CN109825801A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-05-31 | 唐军 | 掩膜板周转装置 |
CN117646183A (zh) * | 2023-12-29 | 2024-03-05 | 武汉中科先进材料科技有限公司 | 一种高成品率玻璃表面金属化掩模夹具 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59113442A (ja) * | 1982-12-18 | 1984-06-30 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | フオトマスク素材の保存方法 |
JPS62193730U (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-09 | ||
JPH04116193U (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-16 | ホーヤ株式会社 | 基板収納ケース用載置台 |
JP2001240179A (ja) * | 2000-02-29 | 2001-09-04 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 精密基板収納容器 |
JP2003300583A (ja) * | 2002-04-09 | 2003-10-21 | Sekisui Plastics Co Ltd | 板状体の搬送用箱 |
JP2004059075A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Nissho Iwai Plastic Corp | ガラス基板搬送用ボックス |
JP2005043777A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Toppan Printing Co Ltd | 板状基板処理用ラック |
JP2005145397A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-09 | Imabari Shipbuilding Co Ltd | フィン装置 |
JP2005173556A (ja) * | 2003-11-18 | 2005-06-30 | Net Plastic:Kk | 大型精密シート状(半)製品用密封容器 |
-
2011
- 2011-03-22 JP JP2011061985A patent/JP5416154B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59113442A (ja) * | 1982-12-18 | 1984-06-30 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | フオトマスク素材の保存方法 |
JPS62193730U (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-09 | ||
JPH04116193U (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-16 | ホーヤ株式会社 | 基板収納ケース用載置台 |
JP2001240179A (ja) * | 2000-02-29 | 2001-09-04 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 精密基板収納容器 |
JP2003300583A (ja) * | 2002-04-09 | 2003-10-21 | Sekisui Plastics Co Ltd | 板状体の搬送用箱 |
JP2004059075A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Nissho Iwai Plastic Corp | ガラス基板搬送用ボックス |
JP2005043777A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Toppan Printing Co Ltd | 板状基板処理用ラック |
JP2005173556A (ja) * | 2003-11-18 | 2005-06-30 | Net Plastic:Kk | 大型精密シート状(半)製品用密封容器 |
JP2005145397A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-09 | Imabari Shipbuilding Co Ltd | フィン装置 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015135881A (ja) * | 2014-01-17 | 2015-07-27 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
WO2016100843A1 (en) * | 2014-12-18 | 2016-06-23 | Entegris, Inc. | Wafer container with shock condition protection |
KR20170095325A (ko) * | 2014-12-18 | 2017-08-22 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 충격 상태 보호부를 갖는 웨이퍼 용기 |
JP2018500766A (ja) * | 2014-12-18 | 2018-01-11 | インテグリス・インコーポレーテッド | 衝撃状態保護具を有するウエハ収納容器 |
US10217655B2 (en) | 2014-12-18 | 2019-02-26 | Entegris, Inc. | Wafer container with shock condition protection |
KR101986924B1 (ko) * | 2014-12-18 | 2019-06-07 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 충격 상태 보호부를 갖는 웨이퍼 용기 |
WO2016154536A1 (en) * | 2015-03-25 | 2016-09-29 | Entegris, Inc. | Wafer container with cross-slotting protection |
CN109825801A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-05-31 | 唐军 | 掩膜板周转装置 |
CN117646183A (zh) * | 2023-12-29 | 2024-03-05 | 武汉中科先进材料科技有限公司 | 一种高成品率玻璃表面金属化掩模夹具 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5416154B2 (ja) | 2014-02-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5268142B2 (ja) | マスクブランク収納ケース及びマスクブランクの収納方法、並びにマスクブランク収納体 | |
JP5416154B2 (ja) | 基板収納容器、膜付きガラス基板収納体、マスクブランク収納体、および転写マスク収納体 | |
JP4601932B2 (ja) | 基板収納ケース | |
TWI285179B (en) | Container for housing a large pellicle | |
KR20230088663A (ko) | 펠리클 수납 용기 | |
TW201346435A (zh) | 防塵薄膜組件收納容器 | |
JP4801981B2 (ja) | 基板収納容器、膜付きガラス基板収納体、マスクブランク収納体、および転写マスク収納体 | |
JP2006124034A (ja) | 薄膜付基板の支持部材、薄膜付基板の収納容器、マスクブランク収納体、転写マスク収納体、及び薄膜付基板の輸送方法 | |
JP2007145397A5 (ja) | ||
JP2007201311A (ja) | 基板の搬送方法 | |
JP5393298B2 (ja) | マスクケース | |
JP2006195090A (ja) | ペリクル用容器 | |
CN210113201U (zh) | 光罩盒及其固持件 | |
JP2008087847A (ja) | 基板収納ケース | |
TWI474957B (zh) | 防塵薄膜組件收容容器 | |
KR102610556B1 (ko) | 펠리클 수납 용기 및 펠리클의 인출 방법 | |
JP4688567B2 (ja) | 固定キャリア | |
CN118255049A (en) | Substrate storage case and substrate storage body | |
JP4567348B2 (ja) | 光学用部品の収容方法 | |
JP4334992B2 (ja) | 基板収納ケース | |
JP5175004B2 (ja) | マスクブランク収納ケース及びマスクブランクの収納方法、並びにマスクブランク収納体 | |
KR20240102865A (ko) | 기판 수납 케이스 및 기판 수납체 | |
JP2009102021A (ja) | マスクブランク収納ケース及びマスクブランクの収納方法、並びにマスクブランク収納体 | |
CN111605892A (zh) | 光罩盒及其固持件 | |
JP2024092964A (ja) | 基板収納ケースおよび基板収納体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110420 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130423 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131112 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131114 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5416154 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |