JP2005043777A - 板状基板処理用ラック - Google Patents

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【課題】 板状基板にレジストを塗布する前の加熱処理及びIPAベーパ槽を通す洗浄工程で、前記マスクブランクスをラックに並べて縦置きするラックに関し、板状基板に傷や汚れをつけず、且つ接触部に不要物を残さず処理できる形状及び材質の板状基板処理用ラックを提供する。
【解決手段】 複数のポリエーテルエーテルケトン樹脂よりなる棒状部材を有し、該棒状部材に形成された傾斜面を少なくとも有する溝部により板状基板を支持する板状基板処理用ラックであって、前記傾斜面の傾斜角度が、板状基板と接する一方が45度であり、他方が60度〜75度で形成された前記溝部を有する板状基板処理用ラック。
【選択図】図1

Description

本発明は、傷や異物等の発生を抑えることが求められる板状基板処理用ラックに関する。
当社実施例では、板状基板、例えばフォトマスク用ブランクス(以下マスクブランクスと記す)の製造工程において、レジストを塗布する前の加熱処理及びIPAベーパ槽を通す洗浄工程で、前記マスクブランクスをラックに並べて縦置きする。該ラックは、V字溝を形成した金属板にフッ素樹脂を表面塗布したものを使用している。なお、V字の溝部の傾斜角度は、水平面より60度に傾斜させ形成されている。(図6参照、及び特許文献1参照)マスクブランクスの板状基板(10)には、基板の表裏面と基板端面の角部に面取り加工が施され、コーナーカット(11)が形成されている。
図6は、従来の板状基板処理用ラックを説明する図面で、(a)は斜視図で、(b)は側断面図である。
図6(a)に示すように、従来の板状基板処理用ラック(1)は、2枚の溝部を有する金属板を備え、板状基板(10)は、前記2枚の金属板の溝部(3)に縦置きにして並べて載置する。
この場合では、ラック(1)上に縦置きしたマスクブランクスが、金属板の側板のV字の溝部(3)に直接に接触するため、レジスト膜面端部が削られる、削れた異物が再付着するという問題が発生する。図6(b)では、マスクブランクスの板状基板(10)が溝部(3)に載置した状態であり、左右どちらかの傾斜面(4)に接触し支えられた状態で載置され、不安定な場合では、もう一方の傾斜面(4)と接触を繰り返すことがある。
そこで金属板の使用をやめ、樹脂板を使用したものに変更する検討を行った。しかし、樹脂板で同じ形状のラックではマスクブランクスの板状基板が不安定であり、倒れ易いため、溝部の形状変更を行う必要がある。
そこで、図7に示す通称ソロバン玉と呼ばれる、円柱棒状樹脂(30)にV字の溝部(3)を多数形成したものを検討した。図8(a)〜(c)は、従来の棒状部材の一例であり、溝部とマスクブランクスの板状基板の載置状態を説明する部分拡大の側断面図である。
図8に示すように、図8(a)の場合では、溝底部(5)の幅が広いと、支持点が曖昧になり、傾き易くなる。図8(b)の場合では、溝底部(5)の幅が、マスクブランクスの板状基板の厚さと同程度であり、支持点が固定されるが、(a)及び(b)共に溝底部(5)にマスクブランクスの基板端部が接触するため、該溝底部に薬液の貯まりが残る問題がある。更に前記マスクブランクスの基板端部近傍では、加熱ムラが発生し、品質不良となる問題がある。(c)の場合は、薬液の貯まりは解決するが、マスクブランクスの板状基板(10)が不安定となる問題が発生する。
一方、特許文献2のように、膜面でない側の溝の角度を垂直にすると、マスクブランクスと前記溝部の傾斜面とが広い面積で接触するので汚れや加熱ムラが生じて不都合である。さらに、洗浄液が底部にたまって残ることもある。
この問題の解決策として、一方の傾斜辺のみをもつ薄板を2枚1組で用いて当接させる工夫もなされている。(特許文献3参照)
特開昭50−37355号公報 特開平5−3244号公報 実開平7−7789号公報
本発明は、板状基板にレジストを塗布する前の加熱処理及びIPAベーパ槽を通す洗浄工程で、前記マスクブランクスの板状基板(以下板状基板と記す)をラックに並べて縦置きするラックに関し、板状基板に傷や汚れをつけず、且つ接触部に不要物を残さず処理できる形状及び材質の板状基板処理用ラックを提供することを課題とする。
本発明の請求項1に係る発明は、板状基板を載置する板状基板処理用ラックにおいて、複数の棒状部材を有し、該棒状部材に形成された傾斜面を少なくとも有する溝部で板状基板を支持することを特徴とする板状基板処理用ラックである。
次に、本発明の請求項2に係る発明は、前記板状基板が、複数の前記溝部の傾斜面で支持されることを特徴とする請求項1記載の板状基板処理用ラックである。
本発明の請求項3に係る発明は、前記傾斜面の傾斜角度が、板状基板の端面と、表面、又は裏面との角部に形成したコーナーカットの角度と同じ傾斜角で形成されていることを特徴とする請求項2記載の板状基板処理用ラックである。
本発明の請求項4に係る発明は、前記傾斜面の傾斜角度が、板状基板と接する一方が45度であり、他方が60度〜75度で形成されていることを特徴とする請求項2記載の板状基板処理用ラックである。
本発明の請求項5に係る発明は、前記棒状部の部材が、ポリエーテルエーテルケトン樹脂よりなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の板状基板処理用ラックである。
レジストを塗布する前の加熱処理及びIPAベーパ槽を通す洗浄工程で、本発明の板状基板処理用ラックを用いることで、板状基板の膜面端部が削れる、削れた異物が再付着する問題を解消できる。本発明の溝の形状では、傾斜角度及び溝底部の幅を最適化したことにより、溝部に薬液が貯まらずに、加熱ムラも発生しない効果もあり、板状基板が溝部に素速く載置され、より安定するようになった。
本発明の板状基板処理用ラックの実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
図1は、本発明の板状基板処理用ラックを説明する図面であり、(a)は、斜視図で、(b)側面図である。図1(a)では、左右の側板(2)の所定の位置に、棒状部材1(21)、棒状部材2(22)、棒状部材3(23)の3本の棒状部材(20)を介して組み立てた板状基板処理用ラック(10)を示している。前記3本の棒状部材(21、22
、23)は、同一の形状で、同じ位置に溝部が形成された部材である。
図1(b)では、基本となる一実施例の設計図である。前記3本の棒状部材の位置関係を示している。
図2は、本発明の棒状部材を説明する側面図であり、(a)は全体図で、(b)は、溝部の部分拡大図である。
図2(a)に示すように、各々の棒状部材(20)の配置の高さは、上から、棒状部材1(21)、棒状部材3(23)、棒状部材2(22)である。板状基板(10)は、前記棒状部材(21,22,23)の同位置の溝部の中心位置に載置する。前記溝部の形状は同じものである。なお、図面の例では、各溝部に板状基板が7枚載置できる。
図2(b)にしめすように、溝部(3)は、左右に所定の傾斜角度を持つ傾斜面(4)が形成されている。溝部(3)の中心では、所定の幅を持つ溝底部(5)がある。すなわち、本発明の棒状部材(20)では、外径寸法と、左右の傾斜面(4)の傾斜角度と、溝底部(5)の幅寸法とを最適化して、形状を管理する。
図3は、請求項3に記載の板状基板処理用ラックにおける溝部の形状と板状基板との載置した状態を説明する概念図であり、側断面図である。
棒状部材(20)では、板状基板(10)の端面の左右に形成したコーナーカット(11)と同じ傾斜角度を持つ傾斜面(4)で形成されている。板状基板(10)が、溝部(3)の左右の傾斜面(4)に沿って、溝部の中心に位置を修正しながら、左右のコーナーカット(11)が左右の傾斜面(4)と完全に接する位置まで移動した後、該溝部に載置され、安定する。この場合、溝底部(5)の幅を狭くしているため、該溝底部と板状基板の端面の間に間隙ができる。該間隙により薬液も貯まらず、汚れや加熱ムラが発生しない。板状基板は安定した状態で載置され、運搬等の作業性において、従来の金属ラックと同じ感覚で扱えるようにした。ラックの占有面積等もほぼ同等である。また、ラック用台車やハンドラー等の設備もそのまま利用できる。
図4は、請求項4に記載の板状基板処理用ラックにおける溝部の形状と板状基板との載置した状態を説明する概念図であり、側断面図である。
溝部の左側の傾斜面(4)を45度の傾斜角度とし、板状基板(10)のレジスト膜面を左側に揃えて載置する。すなわち、前記レジスト膜面が溝部(3)の傾斜面(4)と接触しないようにした。さらに右側の傾斜面(4)を急勾配にして、例えば70度の場合、板状基板(10)が、溝部(3)の右の傾斜面(4)に沿って、急激に溝部の中心に位置を修正するため、左右の位置移動が安定し、時間短縮もできる。コーナーカット(11)が右の傾斜面と点接触となり、比較的に接触面積が縮小される効果があり、素速く移動した後、該溝部(3)に載置され、安定する。
本発明の棒状部材の材質としては、まず、耐熱性があることと、耐薬品性があること、材料からのアウトガスがないこと、材料からの発塵がないこと、強度があること等で種々選択評価した。その結果は下記の表1記す。
その結果、表1に示す4種類の樹脂材料のうち、ポリエーテルエーテルケトン樹脂が総合評価として最良の結果を得た。なお、前記ポリエーテルエーテルケトン樹脂は、表1上では、ピーク(PEEK450FC)と記載した。
更に、各々の樹脂材料を用いて本発明の棒状部材を作製し、実用評価及び作業性テストを行った。
前記実用評価は、社内基準による評価方法により実施した。まず前記4種類の樹脂材料板にVカットの溝部を切り出した。溝部の傾斜面の角度は両方とも45度とした。レジスト膜を形成した板状基板を社内作業手順にしたがって載置した。載置の作業は、30回繰り返し行った。判定は、金属顕微鏡により目視判定し、その判定基準は社内規格を適用した。評価項目は下記3項目である。部材の強度テストは、4種類の樹脂材料板(板厚1.5mmの薄板)に幅1.5mmのVカットの溝部を切り出した後、その板に所定の荷重をかけることにより破損状態を観察した。次は、板状基板の表面傷の発生を観察評価し、同時に異物付着も評価した。最後に、溝部の表面傷の発生を観察評価した。その結果は下記の表2に記す。
以上の結果、本発明の棒状部材は、ポリエーテルエーテルケトン樹脂を用いて作製することとした。
前記作業性テストでは、本発明の板状基板処理用ラック上に板状基板を載置する動作における作業性テストを行った。(図5参照)
まず、載置する作業手順は、3種類の手順を採用した。図5は、作業性テストの板状基板を載置する手順を説明する概念図である。図5(a)では、支持点2及び3(22、23)に当接させつつ平行にラック奥方向に押し込む方法である。図5(b)では、支持点1(21)に当接させつつ支持点2及び3(22、23)に向けてラック台(6)上へ押し込む方法である。図5(c)では、支持点3(23)を中心にして、支持点1及び2(21、22)の方向に回転してラック台(6)上へ落とし込む載置方法である。
前記の作業性テストに使用する本発明のラックは、前記図3及び4の2種類を用いて行った。用いる棒状部材は、ポリエーテルエーテルケトン樹脂であり、載置する板状基板は前記実用評価と同様とした。
作業性テストの結果、全ての場合で表面傷が発生せず、異物付着も発見できなかった。又連続30回の作業工程では、トラブルが無く、生産性でも問題が発生しなかった。
本発明の板状基板処理用ラックを説明する図面で、(a)は、斜視図であり、(b)は側面図である。 本発明の棒状部材を説明する側面図で、(a)は、全体図であり、(b)は部分拡大図である。 本発明の棒状部材の一実施例の溝部と板状基板の載置状態を説明する部分拡大の側断面図である 本発明の棒状部材の一実施例の溝部と板状基板の載置状態を説明する部分拡大の側断面図である 本発明の板状基板処理用ラック上に板状基板を載置する手順を説明する概念図であり、(a)は、水平移動で、(b)垂直移動であり、(c)は回転移動による載置である。 従来の板状基板処理用ラックを説明する図面で、(a)は、斜視図であり、(b)は側面図である。 従来のソロバン玉の円柱棒状樹脂部材を説明する部分拡大側面図である。 (a)〜(c)は、従来の棒状部材の一実施例の溝部と板状基板の載置状態を説明する部分拡大の側断面図である。
符号の説明
1…板状基板処理用ラック
2…側板
3…溝部
4…傾斜面
5…溝底部
6…台座
10…板状基板
11…コーナーカット
20…棒状部材
21…棒状部材1
22…棒状部材2
21…棒状部材3
30…従来のソロバン玉の円柱棒状樹脂部材

Claims (5)

  1. 板状基板を載置する板状基板処理用ラックにおいて、複数の棒状部材を有し、該棒状部材に形成された傾斜面を少なくとも有する溝部で板状基板を支持することを特徴とする板状基板処理用ラック。
  2. 前記板状基板が、複数の前記溝部の傾斜面で支持されることを特徴とする請求項1記載の板状基板処理用ラック。
  3. 前記傾斜面の傾斜角度が、板状基板の端面と、表面、又は裏面との角部に形成したコーナーカットの角度と同じ傾斜角で形成されていることを特徴とする請求項2記載の板状基板処理用ラック。
  4. 前記傾斜面の傾斜角度が、板状基板と接する一方が45度であり、他方が60度〜75度で形成されていることを特徴とする請求項2記載の板状基板処理用ラック。
  5. 前記棒状部の部材が、ポリエーテルエーテルケトン樹脂よりなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の板状基板処理用ラック。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007145397A (ja) * 2005-11-30 2007-06-14 Hoya Corp 基板収納容器、マスクブランク収納体、および転写マスク収納体
JP2011131940A (ja) * 2011-03-22 2011-07-07 Hoya Corp 基板収納容器、膜付きガラス基板収納体、マスクブランク収納体、および転写マスク収納体
KR101126735B1 (ko) * 2005-12-20 2012-03-29 주식회사 엘지실트론 웨이퍼 카세트
US8192920B2 (en) 2008-04-26 2012-06-05 Rolith Inc. Lithography method
US8425789B2 (en) 2007-06-09 2013-04-23 Rolith, Inc. Method and apparatus for anisotropic etching
US8518633B2 (en) 2008-01-22 2013-08-27 Rolith Inc. Large area nanopatterning method and apparatus
US9069244B2 (en) 2010-08-23 2015-06-30 Rolith, Inc. Mask for near-field lithography and fabrication the same

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007145397A (ja) * 2005-11-30 2007-06-14 Hoya Corp 基板収納容器、マスクブランク収納体、および転写マスク収納体
KR101126735B1 (ko) * 2005-12-20 2012-03-29 주식회사 엘지실트론 웨이퍼 카세트
US8425789B2 (en) 2007-06-09 2013-04-23 Rolith, Inc. Method and apparatus for anisotropic etching
US8518633B2 (en) 2008-01-22 2013-08-27 Rolith Inc. Large area nanopatterning method and apparatus
US9645504B2 (en) 2008-01-22 2017-05-09 Metamaterial Technologies Usa, Inc. Large area nanopatterning method and apparatus
US8192920B2 (en) 2008-04-26 2012-06-05 Rolith Inc. Lithography method
US9069244B2 (en) 2010-08-23 2015-06-30 Rolith, Inc. Mask for near-field lithography and fabrication the same
JP2011131940A (ja) * 2011-03-22 2011-07-07 Hoya Corp 基板収納容器、膜付きガラス基板収納体、マスクブランク収納体、および転写マスク収納体

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