JP2015120143A - 混合装置、基板処理装置および混合方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】実施形態に係る混合装置は、混合槽と第1開閉弁と第2開閉弁と第1流量計測部と第2流量計測部と制御部とを備える。混合槽では、第1液と第1液よりも多量の第2液とが混合される。第1開閉弁および第2開閉弁は、第1流路および第2流路を開閉する。第1流量計測部および第2流量計測部は、第1液および第2液の流量を計測する。制御部は、第1流量計測部によって計測された第1液の流量の積算値が目標値に達した場合に、第1開閉弁を閉じる第1閉処理を実行し、第1開閉弁が閉まりきる前後における第1液の流量の積算値に基づき第2液の供給量の目標値を算出し、算出した目標値と第2流量計測部によって計測された第2液の流量の積算値とに基づき、第2開閉弁を閉じる第2閉処理を実行する。
【選択図】図5
Description
図1は、第1の実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示す図である。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するX軸、Y軸およびZ軸を規定し、Z軸正方向を鉛直上向き方向とする。
上述した第1の実施形態では、第2開閉弁205を開いてから閉じるまでの間、DIWを一定の流量で供給し続ける場合の例について説明した。しかし、これに限らず、混合装置80は、第1閉処理後にDIWの流量を減らしてもよい。以下、かかる場合の変形例について図6を参照して説明する。図6は、変形例に係る流量変更処理の説明図である。
次に、第2の実施形態について説明する。図7は、第2の実施形態に係る第2制御装置の構成を示すブロック図である。なお、以下の説明では、既に説明した部分と同様の部分については、既に説明した部分と同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
16 処理ユニット
70 処理流体供給源
80 混合装置
90 供給装置
100 第1流路
101 HF温調機構
102 第1流量計測部
103 第1流量調整部
104 第1捨てライン
105 第1開閉弁
200 第2流路
201 DIW温調機構
202 第2流量計測部
203 第2流量調整部
204 第2捨てライン
205 第2開閉弁
300 混合部
400 混合槽
500 第1循環ライン
Claims (9)
- 第1液と前記第1液よりも多量の第2液とが混合される混合槽と、
前記第1液が流れる第1流路を開閉する第1開閉弁と、
前記第2液が流れる第2流路を開閉する第2開閉弁と、
前記第1流路を流れる前記第1液の流量を計測する第1流量計測部と、
前記第2流路を流れる前記第2液の流量を計測する第2流量計測部と、
前記第1開閉弁および前記第2開閉弁の開閉を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記第1流量計測部によって計測された前記第1液の流量の積算値が予め決められた目標値に達した場合に、前記第1開閉弁を閉じる第1閉処理を実行し、前記第1開閉弁が閉まりきる前後における前記第1液の流量の積算値に基づき、前記混合槽に対する前記第2液の供給量の目標値を算出し、算出した前記目標値と第2流量計測部によって計測された前記第2液の流量の積算値とに基づき、前記第2開閉弁を閉じる第2閉処理を実行すること
を特徴とする混合装置。 - 前記制御部は、
前記第1液の流量の積算値が予め決められた目標値に達した場合に、予め決められた遅延時間が経過した後における前記第1液の流量の積算値に基づき、前記混合槽に対する前記第2液の供給量の目標値を算出すること
を特徴とする請求項1に記載の混合装置。 - 前記第1流路を流れる前記第1液の流量または前記第2流路を流れる前記第2液の流量を調整する流量調整部
を備え、
前記制御部は、
前記流量調整部を制御することにより、目標とする前記第1液と前記第2液との混合比率よりも前記第1流路を流れる前記第1液の割合を多くすること
を特徴とする請求項1または2に記載の混合装置。 - 前記第2流路を流れる前記第2液の流量を調整する流量調整部
を備え、
前記制御部は、
前記第1閉処理後、前記流量調整部を制御することにより、前記第2液の流量を前記第1閉処理前の流量よりも少なくすること
を特徴とする請求項1または2に記載の混合装置。 - 前記制御部は、
前記第2流量計測部によって計測された前記第2液の流量の積算値が、前記算出した目標値から予め決められた補正値を減算した値に達した場合に、前記第2閉処理を実行すること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の混合装置。 - 前記補正値は、
前記第2閉処理を開始してから前記第2開閉弁が閉まるまでの時間に前記第2流路を流れる前記第2液の流量に基づき決定されること
を特徴とする請求項5に記載の混合装置。 - 前記第1流路および前記第2流路と前記混合槽との間に設けられ、前記第1液と前記第2液とを混合して前記混合槽へ供給する混合部
を備え、
前記制御部は、
前記第1液および前記第2液の前記混合槽への供給を開始する場合に、前記第1開閉弁および前記第2開閉弁を同時に開くこと
を特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の混合装置。 - 請求項1〜7のいずれか一つに記載の混合装置と、
前記混合装置によって混合された前記第1液と前記第2液との混合液を基板に対して供給することによって基板を処理する基板処理ユニットと
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 第1液と前記第1液よりも多量の第2液とを混合する混合方法であって、
前記第1液が流れる第1流路を流れる前記第1液の流量の積算値を取得する第1積算値取得工程と、
前記第1積算値取得工程において取得した前記第1液の流量の積算値が予め決められた目標値に達した場合に、前記第1流路を開閉する第1開閉弁を閉じる第1閉処理を実行する第1閉工程と、
前記第1閉処理後に前記第1流路を流れる前記第1液の流量の積算値を取得する第2積算値取得工程と、
前記第1積算値取得工程において取得した前記第1液の流量の積算値と前記第2積算値取得工程において取得した前記第1液の流量の積算値とに基づき、前記第2液の供給量の目標値を算出する算出工程と、
前記第2液が流れる第2流路を流れる前記第2液の流量の積算値を取得する第3積算値取得工程と、
前記第3積算値取得工程において取得した前記第2液の流量の積算値と、前記算出工程において算出した前記目標値とに基づき、前記第2流路を開閉する第2開閉弁を閉じる第2閉処理を実行する第2閉工程と
を含むことを特徴とする混合方法。
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