JP2015119161A - 研磨洗浄機構、基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェハWの裏面を保持する基板保持部に保持されたウェハWの裏面に接触させて、ウェハW裏面の研磨処理及び洗浄処理を行う研磨洗浄機構であって、ウェハWの裏面を研磨する研磨部材50と、ウェハWの裏面を洗浄する洗浄部材51と、研磨部材50及び洗浄部材51が基板保持部で保持されたウェハWの裏面と対向するように研磨部材50及び洗浄部材51を支持する支持部材52と、を有し、研磨部材50におけるウェハWと対向する面と、洗浄部材51におけるウェハWと対向する面の相対的な高さが異なっている。
【選択図】図5
Description
各支持軸170は、研磨部材150と洗浄部材160を備えた支持部材140が、当該他の支持部材171を中心とする円の円周上に位置するようにその配置が調整されている。なお、図29では、その両端に支持部材140が設けられた支持軸170が2本、他の支持部材171に接続された状態を描図しているが、支持軸170の本数や長さ及び形状については本実施の形態の内容に限定されるものではなく、各支持部材140が同一の円周上に配置されている。
10 吸着パッド
11 スピンチャック
12 研磨洗浄機構
13 筐体
14 支持板
15 枠体
16 上部カップ
20 シャフト
21 駆動機構
22 昇降ピン
30 洗浄ノズル
31 ガスノズル
32 ノズルアーム
33 駆動機構
40 ドレン管
41 排気管
50 研磨部材
51 洗浄部材
W ウェハ
Claims (16)
- 基板の裏面を保持する基板保持部に保持された基板の裏面に接触させて、基板裏面の研磨処理及び洗浄処理を行う研磨洗浄機構であって、
基板の裏面を研磨する研磨部材と、
基板の裏面を洗浄する洗浄部材と、
前記研磨部材及び前記洗浄部材が前記基板保持部で保持された基板の裏面と対向するように前記研磨部材及び前記洗浄部材を支持する支持部材と、を有し、
前記研磨部材における基板と対向する面と、前記洗浄部材における基板と対向する面の相対的な高さが異なることを特徴とする、研磨洗浄機構。 - 前記洗浄部材は伸縮自在な材料により構成され、
前記洗浄部材の基板と対向する面は、前記研磨部材の基板と対向する面よりも突出していることを特徴とする、請求項1に記載の研磨洗浄機構。 - 前記研磨部材における基板と対向する面と、前記洗浄部材における基板と対向する面の相対的な高さが調整自在であることを特徴とする、請求項1または2のいずれか一項に記載の研磨洗浄機構。
- 前記支持部材と前記洗浄部材及び前記研磨部材との間には、前記洗浄部材及び前記研磨部材の少なくともいずれかを昇降させる昇降機構が設けられていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の研磨洗浄機構。
- 基板の裏面を保持する基板保持部に保持された基板の裏面に接触させて、基板裏面の研磨処理及び洗浄処理を行う研磨洗浄機構であって、
基板の裏面を研磨する研磨面を備えた研磨部材と、
基板の裏面を洗浄する洗浄面を備えた洗浄部材と、
前記研磨部材及び前記洗浄部材を支持する支持部材と、
前記支持部材を回転させることで、前記研磨部材の研磨面及び前記洗浄部材の洗浄面を、それぞれ前記基板保持部で保持された基板の裏面に対して相対的に移動させる相対移動機構と、を有することを特徴とする、研磨洗浄機構。 - 前記研磨部材及び前記洗浄部材は、前記研磨面と前記洗浄面のなす角が直角となるように前記支持部材に配置され、
前記支持部材は、水平方向に延伸する支持軸の両端に、当該支持軸の延伸する方向から見て前記研磨面と前記洗浄面が直角に見えるように、且つ前記支持軸に対して回転自在に支持され、
前記研磨面及び前記洗浄面は、前記支持軸を鉛直軸を中心として水平方向に回転させることで前記基板保持部で保持された基板の裏面に対して相対的に移動することを特徴とする、請求項5に記載の研磨洗浄機構。 - 前記支持軸、または前記支持部材の少なくともいずれかには、前記研磨部材の研磨面と前記基板の裏面との角度及び前記洗浄部材の洗浄面と前記基板の裏面との角度が90度以上角度が開かないように前記支持部材の回転を制限する、回転制限部材が設けられていることを特徴とする、請求項6に記載の研磨洗浄機構。
- 前記支持軸を介して、前記支持部材を支持する他の支持部材をさらに有し、
前記支持部材は、平面視において前記他の支持部材を中心とする円の円周上に位置するように前記他の支持部材により支持されていることを特徴とする、請求項7に記載の研磨洗浄機構。 - 前記相対移動機構は、
前記洗浄部材の洗浄面と反対側の面を支持する第1の回転部材と、
前記研磨部材の研磨面と反対側の面を支持する第2の回転部材と、
前記支持部材を鉛直軸を中心として回転させることで、前記第1の回転部材と前記第2の回転部材を相対的に上下方向に移動させるカム機構を有していることを特徴とする、請求項5に記載の研磨洗浄機構。 - 請求項2〜4のいずれか一項に記載の研磨洗浄機構を備え、基板の裏面を保持する基板保持部に保持された基板の裏面に対して、研磨処理及び洗浄処理を施す基板処理装置であって、
前記支持部材と前記基板保持部で保持された基板とを相対的に移動させる移動機構を有し、
前記移動機構によって前記支持部材と前記基板保持部で保持された基板とを相対的に移動させ、前記洗浄部材を基板に押圧して当該洗浄部材を押し縮めることにより、前記洗浄部材の基板と対向する面と、前記研磨部材の基板と対向する面の相対的な高さの調整を行うように、前記移動機構を制御する制御部と、を有することを特徴とする、基板処理装置。 - 請求項6〜9のいずれか一項に記載の研磨洗浄機構を備え、基板の裏面を保持する基板保持部に保持された基板の裏面に対して、研磨処理及び洗浄処理を施す基板処理装置であって、
前記支持部材を、鉛直軸を中心に回転させる回転駆動機構と、
前記支持部材と前記基板保持部で保持された基板とを相対的に移動させる移動機構と、
前記移動機構によって前記支持部材と前記基板保持部で保持された基板とを相対的に移動させ、前記洗浄部材または前記研磨部材の少なくともいずれかを基板に押圧した状態で前記回転駆動機構により前記回転駆動機構を回転させて前記研磨部材の研磨面及び前記洗浄部材の洗浄面を、それぞれ前記基板保持部で保持された基板の裏面に対して相対的に移動させるように制御する制御部と、を有することを特徴とする、基板処理装置。 - 前記支持部材と前記洗浄部材との間には、荷重を測定する荷重測定機構が設けられ、
前記制御部は、前記荷重測定機構での測定結果に基づいて、前記洗浄部材を基板に押圧する荷重を調整するように前記移動機構を制御することを特徴とする、請求項10または11のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、予め行われた基板の裏面検査の結果に基づいて基板裏面において研磨処理又は洗浄処理の少なくともいずれかを行う箇所を抽出し、当該抽出した箇所に対して研磨処理又は洗浄処理の少なくともいずれかを選択的に行うように、前記移動機構を制御することを特徴とする、請求項10〜12のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 請求項2〜4のいずれか一項に記載の研磨洗浄機構を用いて、基板の裏面を保持する基板保持部に保持された基板の裏面に対して、研磨処理及び洗浄処理を行う基板処理方法であって、
前記研磨部材における基板と対向する面の高さを、前記洗浄部材における基板と対向する面の高さ以上とした状態で前記研磨部材を基板の裏面に接触させて研磨処理を行い、
次いで、前記研磨部材における基板と対向する面の高さを、前記洗浄部材における基板と対向する面の高さより低くして前記洗浄部材のみを基板の裏面に接触させて洗浄処理を行うことを特徴とする、基板処理方法。 - 請求項6〜9のいずれか一項に記載の研磨洗浄機構を用いて、基板の裏面を保持する基板保持部に保持された基板の裏面に対して、研磨処理及び洗浄処理を行う基板処理方法であって、
前記研磨部材の研磨面または前記洗浄部材の洗浄面の少なくともいずれかを基板の裏面に接触させた状態で前記支持部材を所定の方向に回転させることで、前記研磨部材の研磨面及び前記洗浄部材の洗浄面を、それぞれ前記基板保持部で保持された基板の裏面に対して相対的に移動させて洗浄処理または研磨処理のいずれかを行い、
次いで、前記支持部材を所定の方向と逆回転させることで、研磨処理と洗浄処理の切り替えを行うことを特徴とする、基板処理方法。 - 予め行われた基板の裏面検査の結果に基づいて基板裏面において研磨処理又は洗浄処理の少なくともいずれかを行う箇所を抽出し、当該抽出した箇所に対して研磨処理又は洗浄処理の少なくともいずれかを選択的に行うことを特徴とする、請求項14または15のいずれか一項に記載の基板処理方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014110836A JP6210935B2 (ja) | 2013-11-13 | 2014-05-29 | 研磨洗浄機構、基板処理装置及び基板処理方法 |
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Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013234788 | 2013-11-13 | ||
JP2013234788 | 2013-11-13 | ||
JP2014110836A JP6210935B2 (ja) | 2013-11-13 | 2014-05-29 | 研磨洗浄機構、基板処理装置及び基板処理方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2017174667A Division JP6415662B2 (ja) | 2013-11-13 | 2017-09-12 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015119161A true JP2015119161A (ja) | 2015-06-25 |
JP6210935B2 JP6210935B2 (ja) | 2017-10-11 |
Family
ID=53044181
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014110836A Active JP6210935B2 (ja) | 2013-11-13 | 2014-05-29 | 研磨洗浄機構、基板処理装置及び基板処理方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9669510B2 (ja) |
JP (1) | JP6210935B2 (ja) |
KR (1) | KR102071727B1 (ja) |
TW (1) | TWI600078B (ja) |
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JP7203158B2 (ja) | 2020-09-11 | 2023-01-12 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置 |
KR102632770B1 (ko) | 2020-09-11 | 2024-02-01 | 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 | 기판 처리 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9669510B2 (en) | 2017-06-06 |
KR102071727B1 (ko) | 2020-01-30 |
TW201537632A (zh) | 2015-10-01 |
US10328546B2 (en) | 2019-06-25 |
JP6210935B2 (ja) | 2017-10-11 |
KR20150055550A (ko) | 2015-05-21 |
TWI600078B (zh) | 2017-09-21 |
US20150133032A1 (en) | 2015-05-14 |
US20170225289A1 (en) | 2017-08-10 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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