JP7203158B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
ここで、基板の表面に付着したパーティクルなどの汚染物を除去する方法として、超音波洗浄法や二流体スプレー洗浄法などが知られている。しかしながら、基板に超音波を加えたり、基板の表面に流体を噴射したりすれば、基板の表面に形成された微細な凹凸部が破損するおそれがある。また、近年においては凹凸部の微細化が進み、凹凸部がさらに破損しやすくなっている。
この様な凍結洗浄装置には、基板を吸着保持する円板状部材と、円板状部材に保持された基板の表面に純水を供給する純水供給ノズルと、円板状部材の、基板が保持される側とは反対側の面に冷却媒体を供給する冷却ノズルと、が設けられている。この場合、凍結洗浄が行われるのは、純水が供給される基板の表面であり、純水が供給されない基板の裏面は凍結洗浄が行われない。
そこで、基板の表面および裏面を順次洗浄することができる基板処理装置の開発が望まれていた。
以下に例示をする基板100は、例えば、半導体ウェーハ、インプリント用テンプレート、フォトリソグラフィ用マスク基板、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)に用いられる板状体などとすることができる。
ただし、基板100の用途はこれらに限定されるわけではない。
図1に示すように、基板処理装置1には、載置部2、冷却部3、第1液体供給部4、第2液体供給部5、筐体6、送風部7、排気部8、およびコントローラ9が設けられている。
載置台21は、筐体6の内部に回転可能に設けられている。載置台21は、例えば、略円板状を呈し、側面21cがテーパ面となっている。載置台21の中央部分には、載置台21の厚み方向を貫通する孔21aが設けられている。
プッシャ23aは、筐体6の内部に設けることができる。プッシャ23aは、複数の保持ピン22と対向する位置に設けることができる。プッシャ23aは、例えば、平面形状が環状の板状体とすることができる。前述したように、複数の保持ピン22の配置は、基板100の平面形状および平面寸法に応じて変更される。そのため、プッシャ23aの平面形状および平面寸法は、基板100の平面形状および平面寸法(複数の保持ピン22の配置)に応じて変更することができる。例えば、基板100の平面形状が円の場合には、プッシャ23aの平面形状は、円環状とすることができる。例えば、基板100の平面形状が四角形の場合には、プッシャ23aの平面形状は、四角形の環状とすることができる。
ローラ24aは、載置台21の側面21cに接触し、載置台21を回転させる。例えば、ローラ24aは、載置台21の中心軸を中心とする円周上に複数設けることができる。例えば、複数のローラ24aは、等間隔に設けることができる。ローラ24aは、例えば、側面の中央近傍が窪んだ形状(例えば、鼓状)を有することができる。ローラ24aの側面の形状は、載置台21の側面21cの形状に適合させることができる。この様にすれば、ローラ24aの側面と、載置台21の側面21cとの接触部分を大きくすることができるので、ローラ24aの回転力を載置台21に効率的に伝えることができる。
ローラ24aが駆動部24bおよび支持部24cによって回転可能に支持されることによって、ローラ24aは、載置台21を回転可能に支持することができる。つまり、回転部24は、ローラ24aを介して載置台21を回転可能に支持する。
冷却部3は、基板100の裏面100bに冷却ガス3aを直接供給する。
図1および図2に示すように、冷却部3は、冷却液部31、フィルタ32、流量制御部33、冷却ノズル34、駆動部35(第3の駆動部の一例に相当する)、および配管36を有する。冷却液部31、フィルタ32、および流量制御部33は、筐体6の外部に設けられている。
供給部42は、配管46を介して、液体収納部41に接続されている。供給部42は、液体収納部41に収納されている液体101を液体ノズル44に向けて供給する。
流量制御部43は、配管を介して、供給部42に接続されている。流量制御部43は、供給部42により供給された液体101の流量を制御する。流量制御部43は、例えば、流量制御弁とすることができる。また、流量制御部43は、液体101の供給の開始と供給の停止をも行うことができる。
液体収納部51は、前述した液体収納部41と同様とすることができる。供給部52は、前述した供給部42と同様とすることができる。流量制御部53は、前述した流量制御部43と同様とすることができる。液体ノズル54は、前述した液体ノズル44と同様とすることができる。ただし、液体ノズル54は、載置台21の孔21aから、基板100の、裏面100bに液体102を供給する。
図3は、基板処理装置1の作用を例示するためのタイミングチャートである。
図4は、凍結洗浄工程(表面洗浄工程)、裏面洗浄工程、および乾燥工程における温度変化を例示するためのグラフである。
なお、図3および図4は、基板100が6025クオーツ(Qz)基板(152mm×152mm×6.35mm)、液体101および液体102が純水の場合である。
図5は、搬入工程、および搬出工程を行う際のノズルの配置を例示するための模式図である。
図6は、凍結洗浄工程を行う際のノズルの配置を例示するための模式図である。
図7は、裏面洗浄工程を行う際のノズルの配置を例示するための模式図である。
図8は、乾燥工程を行う際のノズルの配置を例示するための模式図である。
なお、固液相とは、液体101と液体101が凍結したものとが、同時に存在している状態を意味する。
なお、液体101の供給量は、解凍ができるのであれば特に限定はない。また、基板100の回転数は、液体101および汚染物が排出できるのであれば特に限定はない。
裏面洗浄工程においては、図7に示すように、コントローラ9が、駆動部45を制御して、液体ノズル44を基板100の外側の退避位置に移動させる。コントローラ9が、駆動部35を制御して、冷却ノズル34を基板100の外側の退避位置に移動させる。そして、コントローラ9が、駆動部55を制御して、液体ノズル54を基板100の裏面100bの略中心の下方に配置する。
乾燥工程においては、コントローラ9が、供給部52および流量制御部53を制御して、液体102の供給を停止させる。続いて、図8に示すように、コントローラ9が、駆動部55を制御して、液体ノズル54を基板100の外側の退避位置に移動させる。
また、基板100の裏面100bに液体102を供給する場合には、コントローラ9は、駆動部55を制御して液体ノズル54を基板100の裏面100bの下方に配置し、駆動部35を制御して、冷却ノズル34を冷却ノズル34の退避位置に移動させることができる。
この場合、コントローラ9は、駆動部45を制御して、基板100の表面100cの上方に配置され、液体101を吐出している液体ノズル44を基板100の表面100cに沿って揺動させることができる。
基板処理装置1aには、載置部202、冷却部3、第1液体供給部4、第2液体供給部5、筐体6、送風部7、排気部8、およびコントローラ9が設けられている。
なお、繁雑となるのを避けるために、図9においては、冷却部3、第1液体供給部4、第2液体供給部5、送風部7、排気部8、およびコントローラ9などを適宜省略して描いている。
図10(a)は、載置部202の模式平面図である。
図10(b)は、他の実施形態に係る保持ピンカバー26aの模式平面図である。
基板100に供給された液体101、102は、載置台21の上面、あるいは、孔21aから載置台21の下面を流れ、載置台21の周縁から外部に排出される。ところが、載置台21の周縁には回転部24が設けられ、載置台21の表面と裏面を貫通するように、保持ピン22が設けられている。そのため、ローラ24a、支持部24cおよび保持ピン22の少なくともいずれかにおいて、液体101、102が付着するおそれがある。冷却部3から供給された冷却ガス3a、あるいは、冷却ガス3aにより冷却された載置台21により、ローラ24a、支持部24cおよび保持ピン22の少なくともいずれかに付着した液体101、102が凍結する場合がある。あるいは、載置台21の上面または下面にある液体101、102が凍結し、載置台21の上面または下面から剥がれて、ローラ24a、支持部24cおよび保持ピン22の少なくともいずれかと衝突する場合がある。
上部ローラカバー25aは、載置台21の上面の周縁近傍、ローラ24aの上面、およびローラ24aの載置台21側を覆うための部材である。上部ローラカバー25aは、載置台21の上面に設けられている。上部ローラカバー25aは、例えば、一方の端部にフランジを有する円柱形状である。上部ローラカバー25aにおける円柱形状の部分の径は、ローラ24aとの接触を防止するため、載置台21の径よりも小さい。上部ローラカバー25aの他方の端部は、載置台21と接触する。また、上部ローラカバー25aには、載置台21の孔21aと対応する開口を設けることができる。この開口は、孔21aと同じ形、同じ大きさとすればよい。また、保持ピン222のガイド部22aと支持部22bとが挿入される孔を設けることができる。なお、保持ピン222は、上部ローラカバー25aおよび載置台21を貫通するように設けられる。そのため、保持ピン22と比べて、ガイド部22aの長さが長い。
また、保持ピン222のガイド部22aと支持部22bとが挿入される孔の内部を撥液材料でコーティングしてもよい。このようにすることで、保持ピン222に付着した液体101、102が凍結してしまったとしても、保持ピン222が上部ローラカバー25aから剥がれやすくなる。
上部ローラカバー25aは、ネジなどの締結部材を用いて載置台21に固定することもできるし、載置台21と一体に形成することもできる。
下部ローラカバー25bは、載置台21の下面の周縁近傍に設けられている。下部ローラカバー25bの径は、ローラ24aとの接触を防止するため、載置台21の径よりも小さい。
下部ローラカバー25bの下端(載置台21側とは反対側の端部)は、ローラ24aの下端よりも下方に位置することが好ましい。より好ましくは、支持部24cの下端よりも下方に位置することが好ましい。
下部ローラカバー25bは、ネジなどの締結部材を用いて載置台21に固定することもできるし、載置台21と一体に形成することもできる。
また、保持ピンカバー26は、複数の保持ピン222を覆うように設けることができる。例えば、図10(a)に示すように、保持ピンカバー26は、隣接する2つの保持ピン222のガイド部22aの側面を覆うため、円と円が重なったような断面を有する筒状を呈する。
また、保持ピンカバー26は、複数の保持ピン222の内側に設けられた四角い環状凸部と、複数の保持ピン222の外側に設けられた四角い環状凸部とを有していてもよい。
例えば、複数の保持ピン222の内側に設けられた環状凸部は、載置台21の孔21aに沿って設けられる。また、複数の保持ピン222の外側に設けられた環状凸部は、複数の保持ピン222の内側に設けられた環状凸部と相似形状の環状凸部であり、複数の保持ピン222を外側から囲むように設けられる。
また、図10(b)に示すように、保持ピンカバー26aは、隣接する2つの保持ピン222毎に設けられ、保持ピンカバー26a同士が重ならない様にすることもできる。
保持ピンカバー26は、ネジなどの締結部材を用いて載置台21に固定することもできるし、載置台21と一体に形成することもできる。
保持ピンカバー26の下端(載置台21側とは反対側の端部)は、基板100に冷却ガスあるいは、液体101,102を供給する際の、冷却ノズル34の噴出口の位置、液体ノズル54の吐出口の位置、およびガイド部22aの下端よりも下方に位置している。
なお、載置台21の上面側においては、上部ローラカバー25aにより、保持ピン222のガイド部22aと支持部22bとが覆われている。そのため、上部ローラカバー25aにより、保持ピン222の凍結を防ぐことができる。
凸部23cは、柱状を呈し、プッシャ23aの上面に複数設けられている。凸部23cは、保持ピン222のガイド部22aと対向する位置に設けられている。凸部23cの断面寸法は、保持ピンカバー26の内寸よりも小さい。そのため、プッシャ23aが上昇した際に、凸部23cを保持ピンカバー26の内部に挿入することができる。凸部23cを保持ピンカバー26の内部に挿入することができれば、保持ピンカバー26の内部にあるガイド部22aの下端を押すことができる。
なお、コントローラ9は、載置台21の回転位置を監視している。そのため、コントローラ9が載置台21の回転を停止させるときには、保持ピン222が凸部23cに対向する位置となるように停止させる。
また、載置台21の表面で凍結された液体101、102が載置台21の表面から剥がれ、ローラ24aと衝突し、載置台21の回転を妨げることも防止できる。
なお、繁雑となるのを避けるために、図11においては、冷却部3、第1液体供給部4、第2液体供給部5、送風部7、排気部8、およびコントローラ9などを適宜省略して描いている。
ローラカバー325は、例えば、上部ローラカバー25c、および下部ローラカバー25bを有する。
上部ローラカバー25cは、ネジなどの締結部材を用いて載置台21に固定することもできるし、載置台21と一体に形成することもできる。
また、上部ローラカバー25aに比べて重量を軽くすることができる。
なお、繁雑となるのを避けるために、図12においては、冷却部3、第1液体供給部4、第2液体供給部5、送風部7、排気部8、およびコントローラ9などを適宜省略して描いている。
図13(a)は、載置部402の模式平面図である。
図13(b)は、他の実施形態に係る保持ピンカバー26aの模式平面図である。
ローラカバー425は、例えば、上部ローラカバー25d、および下部ローラカバー25bを有する。
上部ローラカバー25dは、ネジなどの締結部材を用いて載置台21に固定することもできるし、載置台21と一体に形成することもできる。
この様な構成を有する上部ローラカバー25dとすれば、上部ローラカバー25a、25cに比べて、重量を軽くすることができる。
また、前述したローラカバー25および保持ピンカバー26と同様に、載置台21の回転が停止したとしても、ローラ24aや保持ピン222などが凍結するのを抑制することができる。また、載置台21の表面で凍結された液体101、102が載置台21の表面から剥がれ、ローラ24aと衝突し、載置台21の回転を抑制することも防止できる。
また、図13(b)に示すように、保持ピンカバー26aは、隣接する2つの保持ピン222毎に設けられ、保持ピンカバー26a同士が重ならない様にすることもできる。
前述の実施の形態に関して、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。
例えば、基板処理装置1が備える各要素の形状、寸法、数、配置などは、例示をしたものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。
例えば、凍結工程(固液相)の後、凍結工程(固相)を実行すること無く、解凍工程を行うようにしてもよい。
Claims (14)
- 略円板状を呈し、中央部分に孔を有する載置台と、
前記載置台の側面に接触し、前記載置台を回転させるローラと、
前記載置台に設けられ、基板を保持する複数の保持ピンと、
前記基板の、前記載置台側とは反対側の第1の面に第1の液体を供給する第1の液体ノズルと、
前記第1の液体ノズルの位置を移動させる第1の駆動部と、
前記載置台の前記孔から、前記基板の、前記載置台側の第2の面に第2の液体を供給する第2の液体ノズルと、
前記第2の液体ノズルの位置を移動させる第2の駆動部と、
前記載置台の前記孔から、前記第2の面に冷却ガスを供給する冷却ノズルと、
前記冷却ノズルの位置を移動させる第3の駆動部と、
前記第1の駆動部、前記第2の駆動部、および前記第3の駆動部を制御するコントローラと、
を備え、
前記第2の面に前記冷却ガスを供給する場合には、前記コントローラは、前記第3の駆動部を制御して、前記冷却ノズルを前記第2の面の下方に配置し、前記第2の駆動部を制御して、前記第2の液体ノズルを前記第2の液体ノズルの退避位置に移動させる、
または、
前記第2の面に前記第2の液体を供給する場合には、前記コントローラは、前記第2の駆動部を制御して、前記第2の液体ノズルを前記第2の面の下方に配置し、前記第3の駆動部を制御して、前記冷却ノズルを前記冷却ノズルの退避位置に移動させる基板処理装置。 - 前記載置台は、前記載置台の厚み方向を貫通する複数の第2の孔を備え、
前記複数の保持ピンは、
前記第2の孔の内部に設けられ、かつ、前記載置台における前記基板を保持する側とは反対側に突出したガイド部を備え、前記載置台に対して、前記第1の面とは直交する方向に沿って個別に移動可能であり、
前記複数の保持ピンとは別体で設けられ、前記複数の保持ピンの前記ガイド部に接離動
可能に構成され、前記複数の保持ピンを前記第1の面とは直交する方向に一括して移動させる昇降部をさらに備えた請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記冷却ノズルおよび前記第2の液体ノズルは、前記保持ピンの前記ガイド部の端部と前記昇降部との間を移動する請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記保持ピンの前記ガイド部の側面を覆う保持ピンカバーをさらに備え、
前記昇降部は、前記ガイド部と対向する位置に設けられた凸部をさらに有する請求項2または3に記載の基板処理装置。 - 前記第2の面に前記冷却ガスを供給する場合には、前記コントローラは、前記第1の駆動部を制御して、前記第1の液体ノズルを前記第1の面の上方に配置する請求項1~4のいずれか1つに記載の基板処理装置。
- 前記コントローラは、前記第1の駆動部を制御して、前記第1の面の上方に配置され、前記第1の液体を吐出している前記第1の液体ノズルを前記第1の面に沿って揺動させる請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記第2の面に前記冷却ガスを供給する場合には、前記コントローラは、前記第3の駆動部を制御して、前記冷却ガスを吐出している前記冷却ノズルを、前記第2の面に沿って揺動させる請求項1~6のいずれか1つに記載の基板処理装置。
- 前記第2の面に前記第2の液体を供給する場合には、前記コントローラは、前記第2の駆動部を制御して、前記第2の液体を吐出している前記第2の液体ノズルを前記第2の面に沿って揺動させる請求項1~7のいずれか1つに記載の基板処理装置。
- 前記冷却ノズルは、前記基板の側に向かうに従い内径が漸増するテーパ形状を有し、テーパ部分の角度が、0°より大きく、8°以下である請求項1~8のいずれか1つに記載の基板処理装置。
- 前記載置台の、前記基板を保持する側の面に設けられ、前記ローラの上面、および前記ローラの前記載置台側を覆う上部ローラカバーをさらに備えた請求項1~9のいずれか1つに記載の基板処理装置。
- 前記上部ローラカバーは、前記複数の保持ピンが挿入される孔を有する請求項10記載の基板処理装置。
- 前記上部ローラカバーは、円筒状を呈し、上端の外縁側が前記ローラよりも外側に張り出した形状を有し、
前記上部ローラカバーの内縁側の端部は、前記端部の外縁側の上端から内縁側の下端に向かう傾斜面となるよう形成されている請求項10記載の基板処理装置。 - 前記上部ローラカバーは、円筒状を呈し、上端に、前記載置台の外側に張り出した板状体を有し、
前記板状体は、前記ローラの上面を覆っている請求項10記載の基板処理装置。 - 前記載置台の、前記基板を保持する側とは反対側の面の周縁近傍に設けられ、前記ローラの前記載置台側を覆う下部ローラカバーをさらに備えた請求項1~13のいずれか1つに記載の基板処理装置。
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