JP2015113297A - 化粧料組成物 - Google Patents

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JP2015113297A
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海津 一宏
Kazuhiro Kaizu
一宏 海津
津田 ひろ子
Hiroko Tsuda
ひろ子 津田
正和 佐瀬
Masakazu Sase
正和 佐瀬
早苗 白坏
Sanae Shirotsuki
早苗 白坏
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Abstract

【課題】紫外線防御効果に優れ、刺激が抑制された化粧料組成物を提供する。
【解決手段】次の成分(A)、(B)紫外線吸収成分、及び(C)水を含有する化粧料組成物。(A)一般式(1)、(2)、(3)で表される、それぞれ構成単位(a)、(b)(c)を含み、共重合体中、(a)を1〜30質量%、(c)を5〜55質量%含み、(b)に対する(c)の質量比((c)/(b))が0.06〜1.43である共重合体;
Figure 2015113297

(R1〜R9は水素原子又はC1〜2のアルキル基、R10はC2〜4のアルキレン基、R11はC8〜30のアルキル基又はアルケニル基、X1はOM又はNHC(CH3)2CH2SO2M(Mは水素原子又は陽イオン基)、X2はNR1213(R12及びR13は水素原子等)又はOR14(R14はヒドロキシ基を有するC2又はC3のアルキル基)、X3は酸素原子又はNH、nは0〜3の整数)
【選択図】なし

Description

本発明は、化粧料組成物に関する。
地表には、約290〜400nm波長の紫外線が到達し、皮膚の深部まで達し、光老化や皮膚癌を誘発する主な要因となることが指摘され、化粧料において紫外線防御効果に対する要求が高まっている(非特許文献1)。
紫外線防御を目的とした化粧料は、酸化チタンや酸化亜鉛などの微粉末による紫外線の散乱や、桂皮酸系油剤などによる紫外線吸収により、紫外線防御機能を発揮している。この中で、桂皮酸系油剤などは、紫外線防御効果が高いものの、肌が敏感な人には、ヒリヒリといった感覚刺激や、発赤、炎症を生じる場合がある。さらに、これらの紫外線吸収剤は油性であり、化粧料に配合する場合には、界面活性剤による乳化が必要であり、界面活性剤の併用により桂皮酸系油剤の皮膚への浸透が促進されるおそれがある。
桂皮酸系油剤等の紫外線吸収剤の刺激を緩和する技術としては、桂皮酸系油剤と特定の高分子を組み合わせて、桂皮酸系油剤の皮膚への浸透を抑制する技術(特許文献1、2)が知られている。桂皮酸系油剤の刺激を緩和するためには、第一に、桂皮酸系油剤の皮膚への浸透を抑制することが重要である。
南山堂、新化粧品化学、第2版、第160〜162頁
特開2003−327778号公報 特開2004−331511号公報
近年の健康意識、特に敏感肌意識の高まりを受けて、紫外線防御効果の高い紫外線吸収剤を含みながら、より刺激性の低い化粧料組成物が求められるようになってきた。
そこで、低分子の界面活性剤を用いないか、又はその使用量を低減し、両親媒性高分子化合物を用いた乳化化粧料組成物の開発が進められてきているが、上記特許文献等に記載された化粧料組成物は、いずれも近年の高い要求特性を満足し得るものではなく、依然として改善の余地がある。
従って、本発明は、紫外線吸収剤を安定に含有しつつ、紫外線吸収剤による皮膚への刺激が抑制された化粧料組成物に関する。
本発明者らは、特定の構成単位(a)、構成単位(b)及び構成単位(c)を特定の割合で含む共重合体と、紫外線吸収成分と、水とを組み合わせて用いることにより、紫外線防御効果に優れ、刺激が抑制された化粧料組成物が得られることを見出した。
本発明は、次の成分(A)、(B)及び(C)を含有する化粧料組成物に関する。
(A)一般式(1)で表される構成単位(a)、一般式(2)で表される構成単位(b)及び一般式(3)で表される構成単位(c)を含み、
共重合体中、構成単位(a)を1質量%以上30質量%以下、構成単位(c)を5質量%以上55質量%以下含み、
構成単位(b)に対する構成単位(c)の質量比(構成単位(c)/構成単位(b))が0.06〜1.43である共重合体;
Figure 2015113297
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8及びR9は同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基を示し、R10は炭素数2〜4のアルキレン基を示し、R11は炭素数8〜30の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示す。X1はOM又はNHC(CH3)2CH2SO2M(Mは水素原子又は陽イオン基を示す)を示し、X2はNR1213(R12及びR13は水素原子又はヒドロキシ基を有していても良い炭素数1又は2のアルキル基を示す。ただし、R12及びR13が同時に水素原子の場合を除く)又はOR14(R14はヒドロキシ基を有する炭素数2又は3のアルキル基を示す)を示し、X3は酸素原子又はNHを示す。nは0〜3の整数を示す。)
(B)紫外線吸収成分、
(C)水。
本発明の化粧料組成物は、紫外線防御効果に優れ、しかも、刺激が抑制されたものである。
(A)共重合体:
本発明で用いる成分(A)の共重合体は、一般式(1)で表される構成単位(a)、一般式(2)で表される構成単位(b)及び一般式(3)で表される構成単位(c)を含むものである。
Figure 2015113297
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8及びR9は同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基を示し、R10は炭素数2〜4のアルキレン基を示し、R11は炭素数8〜30の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示す。X1はOM又はNHC(CH3)2CH2SO2M(Mは水素原子又は陽イオン基を示す)を示し、X2はNR1213(R12及びR13は水素原子又はヒドロキシ基を有していても良い炭素数1又は2のアルキル基を示す。ただし、R12及びR13が同時に水素原子の場合を除く)又はOR14(R14はヒドロキシ基を有する炭素数2又は3のアルキル基を示す)を示し、X3は酸素原子又はNHを示す。nは0〜3の整数を示す。)
上記一般式(1)で表される構成単位(a)は、上記式(1)で表される構造を有することから静電反発力を発現し、また上記一般式(2)で表される構成単位(b)と一般式(3)で表される構成単位(c)が、特定の質量比を有することによって良好な親疎水バランスを示すことができる。かかる共重合体を紫外線吸収成分及び水とともに用いることにより、紫外線防御効果に優れ、刺激が緩和された化粧料組成物を得ることができる。
上記一般式(1)で表される構成単位(a)は、下記一般式(4)で表されるモノマー(以下、モノマー(a)ともいう)を重合することにより誘導される構成単位であり、一般式(1)及び一般式(4)中におけるR1、R2、R3及びX1は、すべて同義である。
Figure 2015113297
式(1)及び式(4)中、R1、R2及びR3は同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基を示し、X1はOM又はNHC(CH32CH2SO2M(Mは水素原子又は陽イオン基を示す)を示す。式(1)及び式(4)において、R1及びR2は水素原子が好ましい。R3は水素原子又はメチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。X1はOMが好ましく、Mは水素原子が好ましい。
上記一般式(4)で表されるモノマーとして、具体的には、例えば、アクリル酸、メタアクリル酸、クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸が挙げられる。なかでも、刺激感を緩和した化粧料組成物を得る観点から、アクリル酸、メタアクリル酸、クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸が好ましく、アクリル酸、メタアクリル酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸がより好ましく、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸がさらに好ましい。
なお、上記一般式(4)で表されるモノマー以外のモノマーを用い、重合後に適宜官能基を導入させることにより、上記一般式(1)で表される構成単位を誘導してもよい。上記一般式(4)で表されるモノマー以外のモノマーとは、例えば、エステル基やニトリル基を有するモノマーが挙げられ、加水分解することによってカルボキシル基を生成して上記一般式(1)で表される構成単位とすることができる。
成分(A)の共重合体中における構成単位(a)は、高分子に水溶性を付与するために必要な構成単位である。構成単位(a)の含有量は、水溶性を付与する観点から、共重合体中に1質量%以上であって、好ましくは2質量%以上であり、より好ましくは3質量%以上であり、さらに好ましくは4質量%以上である。成分(A)の共重合体中における構成単位(a)の含有量は、良好な親疎水バランスを保持し、良好な乳化能を付与する観点から、共重合体中に30質量%以下であって、好ましくは27質量%以下であり、より好ましくは15質量%以下であり、さらに好ましくは10質量%以下であり、またさらに好ましくは8質量%以下である。また、成分(A)の共重合体中における構成単位(a)の含有量は、1質量%以上30質量%以下であって、好ましくは2〜27質量%であり、より好ましくは3〜15質量%であり、さらに好ましくは4〜10質量%であり、またさらに好ましくは4〜8質量%である。
上記一般式(2)で表される構成単位(b)は、下記一般式(5)で表されるモノマー(以下、モノマー(b)ともいう)を重合することにより誘導される構成単位であり、一般式(2)及び一般式(5)中におけるR4、R5、R6及びX2は、すべて同義である。
Figure 2015113297
式(2)及び式(5)中、R4、R5及びR6は同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基を示し、X2はNR1213(R12及びR13は水素原子又はヒドロキシ基を有していても良い炭素数1又は2のアルキル基を示す。ただし、R12及びR13が同時に水素原子の場合を除く)又はOR14(R14はヒドロキシ基を有する炭素数2又は3のアルキル基を示す)を示す。式(2)及び(5)において、R4、R5及びR6は水素原子が好ましい。
モノマー(b)として、具体的には、ジメチルアクリルアミド(X2=NR1213:R12及びR13はメチル基)、ヒドロキシエチルアクリルアミド(X2=NR1213:R12は水素原子、R13はヒドロキシエチル基)、アクリル酸ヒドロキシエチル(X2=OR14:R14はヒドロキシエチル基)、メタクリル酸ヒドロキシエチル(X2=OR14:R14はヒドロキシエチル基)、アクリル酸ヒドロキシプロピル(X2=OR14:R14はヒドロキシプロピル基)、メタクリル酸ヒドロキシプロピル(X2=OR14:R14はヒドロキシプロピル基)等が挙げられる。これらのうち、良好な親疎水バランスを保持し、良好な乳化能を付与する観点から、ジメチルアクリルアミド、アクリル酸ヒドロキシプロピル、アクリル酸ヒドロキシエチル、ヒドロキシエチルアクリルアミドが好ましく、ジメチルアクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミドがより好ましく、ジメチルアクリルアミドがさらに好ましい。
なお、上記一般式(5)で表されるモノマー以外のモノマーを用い、重合後に適宜官能基を導入させることにより、上記一般式(2)で表される構成単位を誘導してもよい。
成分(A)の共重合体中における構成単位(b)の含有量は、親水性を向上させ、良好な親疎水バランスを保持し、良好な乳化能を付与する観点から、好ましくは30質量%以上であり、より好ましくは33質量%以上であり、さらに好ましくは40質量%以上であり、またさらに好ましくは44質量%以上である。成分(A)の共重合体中における構成単位(b)の含有量は、良好な親疎水バランスを保持し、良好な乳化能を付与する観点から、好ましくは93質量%以下であり、より好ましくは92質量%以下であり、さらに好ましくは90質量%以下であり、またさらに好ましくは88質量%以下であり、よりさらに好ましくは87質量%以下である。また、成分(A)の共重合体中における構成単位(b)の含有量は、好ましくは30質量%以上93質量%以下であり、より好ましくは33〜92質量%であり、さらに好ましくは40〜90質量%であり、またさらに好ましくは44〜88質量%であり、よりさらに好ましくは44〜87質量%である。
上記一般式(3)で表される構成単位(c)は、下記一般式(6)で表されるモノマー(以下、モノマー(c)ともいう)を重合することにより誘導される構成単位であり、一般式(3)及び一般式(6)中におけるR7、R8、R9、R10、R11、X2及びnは、すべて同義である。
Figure 2015113297
式(3)及び式(6)中、R7、R8及びR9は同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基を示し、R10は炭素数2〜4のアルキレン基を示し、R11は炭素数8〜30の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示す。X2は酸素原子又はNHを示し、nは0〜3の整数を示す。式(3)及び式(6)において、R7及びR8は水素原子が好ましく、R9は水素原子又はメチル基が好ましく、メチル基がより好ましく、X2は酸素原子が好ましい。nは、成分(B)を乳化する観点から、好ましくは2以下であり、より好ましくは1以下であり、さらに好ましくは0である。R11は、成分(B)を乳化する観点から、好ましくは炭素数12以上であり、より好ましくは14以上であり、さらに好ましくは16以上であり、またさらに好ましくは18以上であり、好ましくは24以下であり、さらに好ましくは22以下である。また、R11は、炭素数12〜22のアルキル基又はアルケニル基が好ましく、炭素数14〜22のアルキル基又はアルケニル基がより好ましい。
なかでも、構成単位(c)は、下記式(3')で表される構成単位であるのが好ましく、かかる構成単位は下記式(6')で表されるモノマーから誘導される。
Figure 2015113297
(式中、R7、R8、R9、R11は、前記と同じ意味である。)
構成単位(c)としては、具体的には、(メタ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸n−デシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ミリスチル、(メタ)アクリル酸パルミチル、(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸ベヘニル等が挙げられる。なかでも、構成単位(c)は、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ミリスチル、(メタ)アクリル酸パルミチル、(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸ベヘニルが好ましく、(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸ベヘニルがより好ましい。
なお、上記一般式(6)で表されるモノマー以外のモノマーを用い、重合後に適宜官能基を導入させることにより、上記一般式(3)で表される構成単位を誘導してもよい。
成分(A)の共重合体中における構成単位(c)の含有量は、浸透を抑制し粒子径を微細にする観点から、5質量%以上であり、好ましくは7質量%以上であり、より好ましくは8質量%以上であり、さらに好ましくは9質量%以上であり、よりさらに好ましくは40質量%以上である。成分(A)の共重合体中における構成単位(c)の含有量は、同様の観点から、55質量%以下であり、好ましくは53質量%以下であり、より好ましくは50質量%以下であり、さらに好ましくは48質量%以下である。また、成分(A)の共重合体中における構成単位(c)の含有量は、5質量%以上55質量%以下であり、好ましくは7〜53質量%であり、より好ましくは8〜50質量%であり、さらに好ましくは9〜48質量%である。
成分(A)の共重合体において、構成単位(b)の含有量と構成単位(c)の含有量との質量比((c)/(b))は、良好な親疎水バランスを保持する観点から、0.06以上であって、好ましくは0.07以上であり、より好ましくは0.08以上であり、さらに好ましくは0.09以上であり、またさらに好ましくは0.1以上であり、よりさらに好ましくは0.11以上である。構成単位(b)の含有量と構成単位(c)の含有量との質量比((c)/(b))は、同様の観点から、1.43以下であって、好ましくは1.3以下であり、より好ましくは1.2以下であり、さらに好ましくは1.1以下であり、またさらに好ましくは1.0以下であり、よりさらに好ましくは0.95以下である。
また、成分(A)において、構成単位(b)の含有量と構成単位(c)の含有量との質量比((c)/(b))は、0.06〜1.43であり、好ましくは0.07〜1.3であり、より好ましくは0.08〜1.2であり、さらに好ましくは0.09〜1.1であり、またさらに好ましくは0.1〜1.0であり、よりさらに好ましくは、0.1〜0.95であり、さらに好ましくは0.11〜0.95である。
成分(A)の共重合体において、構成単位(a)の含有量と構成単位(b)及び構成単位(c)の合計含有量との質量比({(b)+(c)}/(a))は、良好な親疎水バランスを保持する観点から、好ましくは4以上であり、より好ましくは5以上であり、さらに好ましくは7以上であり、よりさらに好ましくは9以上であり、またさらに好ましくは12以上である。構成単位(a)の含有量と構成単位(b)及び構成単位(c)の合計含有量との質量比({(b)+(c)}/(a))は、水溶性を付与する観点を保持する観点から、好ましくは50以下であり、より好ましくは30以下であり、さらに好ましくは25以下である。また、構成単位(a)の含有量と構成単位(b)及び構成単位(c)の合計含有量との質量比({(b)+(c)}/(a))は、好ましくは4〜50であり、より好ましくは5〜30であり、さらに好ましくは7〜30であり、よりさらに好ましくは9〜25であり、またさらに好ましくは12〜25である。
成分(A)の共重合体中において、構成単位(a)、構成単位(b)、構成単位(c)は、それぞれ1種又は2種以上を用いることができる。
また、成分(A)の共重合体中における構成単位(a)、構成単位(b)及び構成単位(c)の合計含有量は、良好な親疎水バランスを保持し乳化能を付与する観点から、好ましくは70質量%以上であり、より好ましくは80質量%以上であり、さらに好ましくは90質量%以上であり、よりさらに好ましくは95質量%以上であり、よりさらに好ましくは98質量%以下であり、よりさらに好ましくは実質的に100質量%であり、またさらに好ましくは100質量%である。
なお、実質的に100質量%とは、共重合体中に、構成単位(a)、構成単位(b)及び構成単位(c)以外の構成単位が、原料等に含まれる不純物等に由来するも場合を含む意味である。
成分(A)の共重合体は、本発明の効果を損なわない範囲において、構成単位(a)、構成単位(b)及び構成単位(c)以外の構成単位を含んでもよい。
また、本発明の効果を損なわない範囲において、架橋されていてもよいが、共重合体を効率的に油/水界面に吸着させる観点から、架橋されていないことが好ましい。
本発明で用いる成分(A)の共重合体は、公知の合成方法により得ることができる。例えば、上記モノマー(a)、モノマー(b)及びモノマー(c)を含むモノマー成分を溶液重合法で重合させることで得ることができる。
上記の溶液重合に用いられる溶媒としては、例えば、芳香族系炭化水素(トルエン、キシレン等)、低級アルコール(エタノール、イソプロパノール等)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン)、エーテル(テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等)等の有機溶媒を使用することができる。溶媒量(質量基準)は、モノマー全量に対し、0.5〜10倍量が好ましい。
重合開始剤としては、公知のラジカル重合開始剤を用いることができ、例えばアゾ系重合開始剤、ヒドロ過酸化物類、過酸化ジアルキル類、過酸化ジアシル類、ケトンぺルオキシド類等が挙げられる。重合開始剤量は、モノマー全量100質量部に対し、0.01〜5質量部が好ましく、0.01〜3質量部がより好ましく、0.01〜1質量部がさらに好ましい。
重合反応は、窒素気流下、60〜180℃の温度範囲で行うのが好ましく、反応時間は0.5〜20時間が好ましい。
本発明で用いる成分(A)の重合体の重量平均分子量は、層状α−ゲルの調製を可能とする観点から、5,000〜100万が好ましく、7,000〜50万がより好ましく、1万〜20万がさらに好ましい。なお、重量平均分子量はGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)により測定した値であり、測定条件の詳細は実施例に示す通りである。
成分(A)の共重合体の含有量は、紫外線防御効果を高め、刺激を抑制する観点から、化粧料組成物中に、好ましくは0.1質量%以上であり、より好ましくは0.5質量%以上であり、さらに好ましくは0.7質量%以上であり、よりさらに好ましくは0.9質量%以上であり、好ましくは10質量%以下であり、より好ましくは8質量%以下であり、さらに好ましくは6質量%以下であり、さらにより好ましくは4質量%以下であり、またさらに好ましくは3質量%以下である。
また、成分(A)の含有量は、化粧料組成物中に、好ましくは0.1〜10質量%であり、より好ましくは0.5〜8質量%であり、さらに好ましくは0.7〜6質量%であり、さらにより好ましくは0.9〜4質量%であり、またさらに好ましくは0.9〜3質量%である。
(B)紫外線吸収成分:
本発明で用いる成分(B)の紫外線吸収成分は、一般に化粧料に用いられるものであれば限定されるものでないが、成分(A)による乳化を可能とする観点から、油溶性の紫外線吸収剤が好ましい。
油溶性の紫外線吸収剤としては、例えば、下記のものが挙げられる。
安息香酸系紫外線吸収剤としては、パラアミノ安息香酸(以下、PABAと略す)、グリセリルPABA、エチルジヒドロキシプロピルPABA、N−エトキシレートPABAエチルエステル、N−ジメチルPABAエチルエステル、N−ジメチルPABAブチルエステル、N−ジメチルPABAアミノエステル、オクチルジメチルPABA等が挙げられる。
アントラニル酸系紫外線吸収剤としては、ホモメンチル−N−アセチルアントラニレート等が挙げられる。
サリチル酸系紫外線吸収剤としては、アミルサリチレート、メンチルサリチレート、ホモメンチルサリチレート、オクチルサリチレート、フェニルサリチレート、ベンジルサリチレート、p−イソプロパノールフェニルサリチレート等が挙げられる。
桂皮酸系紫外線吸収剤としては、オクチルシンナメート、エチル−4−イソプロピルシンナメート、エチル−2,4−ジイソプロピルシンナメート、メチル−2,4−ジイソプロピルシンナメート、プロピル−p−メトキシシンナメート、イソプロピル−p−メトキシシンナメート、イソアミル−p−メトキシシンナメート、2−エチルヘキシル−p−メトキシシンナメート、2−エトキシエチル−p−メトキシシンナメート、シクロヘキシル−p−メトキシシンナメート、エチル−α−シアノ−β−フェニルシンナメート、2−エチルヘキシル−α−シアノ−β−フェニルシンナメート、グリセリルモノ−2−エチルヘキサノイルジパラメトキシシンナメート等が挙げられ、紫外線吸収効果を高める観点、及び刺激を抑制する観点から、2−エチルヘキシル−p−メトキシシンナメートが好ましい。
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2'−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2'−ジヒドロキシ−4,4'−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−4'−メチルベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、2−エチルヘキシル−4'−フェニルベンゾフェノン−2−カルボキシレート、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシ−3−カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。
トリアジン系紫外線吸収剤としては、紫外線吸収効果を高める観点、及び刺激緩和を抑制する観点から、2,4−ビス−[{4−(2−エチルヘキソロキシ)−2−ヒドロキシ}−フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス[4−(2−エチルヘキシルオキシカルボニル)アニリノ]1,3,5−トリアジン等が好ましいものとして挙げられる。
更に、油溶性の紫外線吸収剤として、上記以外に、3−(4'−メチルベンジリデン)−dl−カンファー、3−ベンジリデン−dl−カンファー、ウロカニン酸エチルエステル、2−フェニル−5−メチルベンゾキサゾール、2,2'−ヒドロキシ−5−メチルフェニルベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−5−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、ジベンザラシン、ジアニソイルメタン、4−メトキシ−4'−t−ブチルジベンゾイルメタン、5−(3,3−ジメチル−2−ノルボニリデン)−3−ペンタン−2−オン、特開平2−212579号公報記載のベンゼン−ビス−1,3−ジケトン誘導体、特開平3−220153号公報記載のベンゾイルピナコロン誘導体、ジメトキ−シベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオン酸オクチル、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル等が挙げられ、紫外線吸収効果を高める観点、及び刺激を抑制する観点から、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルが好ましい。
これらの紫外線吸収剤のうち、紫外線吸収効果を高める観点、及び刺激緩和を向上させる観点から、桂皮酸系紫外線吸収剤及びトリアジン系紫外線吸収剤から選ばれる1種又は2種以上を含有することが好ましく、桂皮酸系紫外線吸収剤及びトリアジン系紫外線吸収剤を含有することがより好ましい。
成分(B)として、桂皮酸系紫外線吸収剤及びトリアジン系紫外線吸収剤を含有する場合、両者の質量比(桂皮酸系紫外線吸収剤/トリアジン系紫外線吸収剤)は、紫外線吸収効果を高める観点、及び刺激を抑制する観点から、1/1〜9/1が好ましく、2/1〜6/1がより好ましい。
また、紫外線吸収効果を高める観点、及び刺激緩和を向上させる観点から、成分(B)の紫外線吸収成分中、桂皮酸系紫外線吸収剤の含有量は、60質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、80質量%以上がさらに好ましく、90質量%以上がよりさらに好ましい。
成分(B)の紫外線吸収成分の含有量は、良好な紫外線効果を付与し、成分(A)との併用により刺激を抑制する観点から、化粧料組成物中に、好ましくは1質量%以上であり、1.2質量%以上がより好ましく、1.3質量%以上がさらに好ましく、1.5質量%以上がよりさらに好ましく、30質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましく、10質量%以下がさらに好ましく、5質量%以下がよりさらに好ましい。また、成分(B)の含有量は、化粧料組成物中に、好ましくは1〜30質量%であり、より好ましくは1.2〜20質量%であり、さらに好ましくは1.3〜10質量%であり、よりさらに好ましくは1.5〜5質量%である。
また、同様の観点から、化粧料組成物中、成分(A)と成分(B)との質量比((A/(B)))は、好ましくは1/9〜5/5であり、より好ましくは2/8〜4/6であり、3/7〜4/6がさらに好ましい。
(C)水:
水の含有量は、良好な紫外線防御効果を付与し、刺激を抑制する観点から、化粧料組成物中に、40質量%以上が好ましく、45質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましく、98質量%以下が好ましく、96質量%以下がより好ましく、95質量%以下がさらに好ましい。また、成分(C)の含有量は、化粧料組成物中に、40〜98質量%が好ましく、45〜96質量%がより好ましく、50〜95質量%がさらに好ましい。
本発明の化粧料組成物は、さらにその他の化粧料に通常用いられる有効成分や添加剤、例えば、アスコルビン酸、ニコチン酸アミド、ニコチン酸等の水溶性ビタミン類;オウバクエキス、カンゾウエキス、アロエエキス、スギナエキス、茶エキス、キューカンバーエキス、チョウジエキス、ニンジンエキス、ハマメリス抽出液、プラセンタエキス、海藻エキス、マロニエエキス、カミツレエキス、ユズエキス、アスナロエキス、アルテアエキス、ローヤルゼリーエキス、ユーカリエキス、褐藻エキス、アスナロ抽出液等の動物や植物から得られる抽出液;水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、トリエタノールアミン、炭酸ナトリウム等の塩基;クエン酸、酒石酸、乳酸、リン酸、コハク酸、アジピン酸等の酸;カルボキシビニルポリマー、アルギン酸ナトリウム、カラギーナン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、グアーガム、キサンタンガム、カルボキシメチルキトサン、ヒアルロン酸ナトリウム、オキサゾリン変性シリコーン、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリル酸ジエチル硫酸塩・N,N−ジメチルアクリルアミド・ジメタクリル酸ポリエチレングリコール共重合体等の増粘剤;油剤、例えば、流動パラフィン、スクワラン、ワセリン等の炭化水素油;セチルジメチルブチルエーテル、エチレングリコールジオクチルエーテル、グリセロールモノオレイルエーテル等のエーテル油;ミリスチン酸オクチルドデシル、パルミチン酸イソプロピル、ステアリン酸ブチル、アジピン酸ジ−2−エチルヘキシル、ジカプリン酸ネオペンチルグリコール、トリオクタノイン等の紫外線吸収剤以外のエステル油などを含有することもできる。
通常、化粧料組成物中に紫外線吸収成分を乳化して配合するためには、通常乳化剤として低分子量界面活性剤を用いている。しかし、低分子量界面活性剤は、感覚刺激を誘発したり、紫外線吸収剤の浸透促進剤として働いてしまう可能性がある。
一方、本発明における成分(A)の共重合体は、高分子量でありながら、界面活性剤と同じ働きをするため、低分子量界面活性剤と同じようなメカニズムで紫外線吸収成分を乳化可能でありながら、塗布後も浸透することなく肌の表面にとどまるため、乳化した紫外線吸収成分の浸透量も低減することが可能となる。また、多くの紫外線吸収成分をトラップすることができると考えられる。
本発明の化粧料組成物は、さらに界面活性剤を含有することができるが、良好な紫外線防御効果を付与し、刺激を抑制する観点から、化粧料組成物中、その含有量は5質量%以下が好ましく、2質量%以下がより好ましく、1質量%以下がさらに好ましく、0.5質量%以下がさらにより好ましく
界面活性剤として、非イオン性界面活性剤を含有する場合、その含有量は、化粧料組成物中、5質量%以下が好ましく、3質量%以下がより好ましく、2質量%以下がさらに好ましく、1質量%以下がよりさらに好ましい。
また、界面活性剤として、アニオン界面活性剤を含有する場合、その含有量は、化粧料組成物中、3質量%以下が好ましく、2質量%以下がより好ましく、1質量%以下がさらに好ましく、0.5質量%以下がよりさらに好ましく、実質含有しないのがさらに好ましい。
本発明の化粧料組成物は、通常の方法により製造することができる。具体的には、例えば、(A)共重合体、及び(B)紫外線吸収成分を混合した系を可溶化状態にした後、(C)水を添加して冷却する方法、いわゆる転相乳化法を用いることができる。
本発明の化粧料組成物は、W/O型乳化化粧料組成物であり、その乳化化粧料組成物中の乳化粒子の体積平均粒径は、紫外線防御効果を高め、刺激を抑制する観点から、0.01〜10μmが好ましく、0.05〜9.5μmがより好ましく、0.07〜9μmがさらに好ましく、0.1〜9μmがよりさらに好ましい。なお、本発明において体積平均粒径とは、体積分率で計算した累積体積頻度が粒径の小さい方から計算して50%になる粒径を意味するものであり、後述の方法で測定されるものである。
本発明の化粧料組成物は、適量を手に取り、あるいは、織物や不織布等に含ませても良く、頭皮を除く皮膚、好ましくは顔、身体、手足等のいずれかに塗布することにより、使用することができる。
以下、本発明について、実施例に基づき具体的に説明する。
また、実施例で用いた、上記構成単位(a)を誘導するモノマー(a)、構成単位(b)を誘導するモノマー(b)、構成単位(c)を誘導するモノマー(c)、溶媒及び開始剤の略称、及び各モノマーから誘導される構成単位の構造を表1に示す。
Figure 2015113297
製造例1(共重合体1の製造)
表2に示すモノマー、開始剤及び溶媒を用いて、共重合体1を製造した。
すなわち、まず攪拌機、還流冷却器、温度計及び窒素導入管を有する反応器に、イソプロパノール125.0gを仕込み、窒素雰囲気下で82℃まで昇温した。別途、メタクリル酸(MAA、和光純薬工業社製)12.5g、2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA、日本触媒社製)137.5g、ステアリルメタクリレート(SMA、新中村化学工業社製)100.0g、開始剤として2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル(和光純薬工業社製、商品名「V−601」)0.875g、及びイソプロパノール250.0gを均一に混合し、滴下速度2.0g/min にて2時間かけて反応器内へ滴下した。滴下終了後、82℃で4時間保持して熟成した。その後、得られた反応液を50℃にて減圧乾燥し、イソプロパノールを留去して、共重合体1を得た。
製造例2(共重合体2〜9、11〜13の製造)
各モノマー、開始剤、溶媒、反応濃度を表2に示すようにする以外は、製造例1と同様にして、共重合体2〜9、11〜13を得た。
製造例3(共重合体10の製造)
攪拌機、還流冷却器、温度計及び窒素導入管を有する反応器に、イソプロパノール233.3g、アクリル酸(AA、和光純薬工業社製)5.0g、ジメチルアクリルアミド(DMAAm、興人社製)55.0g、アクリル酸ベヘニル(BEA、日油社製)40.0gを入れ、均一に混合し窒素雰囲気下で30分間攪拌した。その後、78℃まで昇温し、開始剤として2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル(和光純薬工業社製、商品名「V−601」)0.35gをイソプロパノール10.0gに溶解した溶液を添加した。78℃で2時間保持して重合を行い、さらに4時間保持することにより熟成した。その後、得られた反応液を50℃にて減圧乾燥し、イソプロパノールを留去して、共重合体10を得た。
《重量平均分子量の測定》
得られた共重合体を、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)に溶解させて0.5質量%溶液を調製し、これを用いてゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)にて重量平均分子量を測定した。重量平均分子量は、ポリスチレン換算値として求めた。GPC測定の条件は、以下の通りである。
カラム:α−M(昭和電工社製)を2本直列に連結して使用した。
溶離液:H3PO4濃度60mmol/L、かつLiBr濃度50mmol/L のDMF溶液
流速:1.0mL/min
カラム温度:40℃
検出器:RI(示差屈折率計)
検量線:ポリスチレンを用いて作成した。
結果を表2に示す。
Figure 2015113297
実施例1、比較例1〜2
表3に示す組成の化粧料組成物を製造し、乳化粒子の粒子径、紫外線吸収成分(パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル)の浸透量を測定した。結果を表3に併せて示す。
(製造方法)
(1)実施例1:
共重合体3 1g及びパラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル 2gを、80℃にて、スパチュラで混合撹拌して溶解させる。次いで、80℃に加熱したグリセリン 10gを添加し、80℃で30分撹拌する。さらに、25℃の水酸化カリウム 0.01g及び精製水 0.99gの混合物を撹拌下添加し、残りの精製水86gを撹拌下ゆっくり添加する。最後に、撹拌下25℃まで冷却して、化粧料組成物を得た。
(2)比較例1:
POE(25)オクチルドデシルエーテル 1g及びパラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル 2gを、80℃にて、スパチュラで混合撹拌して溶解させる。次いで、80℃に加熱したグリセリン 10gを添加し、80℃で30分混合撹拌する。さらに、80℃の精製水 87gを撹拌下ゆっくり添加する。最後に、撹拌下25℃まで冷却して、化粧料組成物を得た。
(3)比較例2:
2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン・メタクリル酸ブチル共重合体液 20g及びパラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル 2gを、80℃にて、スパチュラで混合撹拌する。次いで、80℃に加熱したグリセリン 10gを添加し、80℃で30分撹拌する。さらに、80℃の精製水 68gを撹拌下ゆっくり添加する。最後に、撹拌下25℃まで冷却したが、乳化できなかった。
(評価方法)
(1)粒子径:
乳化粒子の粒子径は、動的光散乱式粒径分布測定装置LB−500、LA−920(HORIBA製)を用いて散乱光強度を測定し、それから体積平均粒径を求めた。これらの測定は、25℃で行うものである。
(2)浸透量:
化粧料組成物のシリコン膜への浸透量を、ディフュージョンセルアレイシステム(イントロテック社製)を用いて評価した。まず、アクセプターセルとして48穴プレート(MULTIWELL 48well、FALCON社製)に、1.42mLのPEG400(試薬一級、和光純薬工業社製)生理食塩水(大塚生食注、大塚製薬工場社製)溶液(40質量%)を計量する。次いで、12.5cm×8.5cmのシリコーン膜(LTC−S1−75、リンテック社製)をアクセプターセルとドナーセルの間にセットする。さらに、アクセプターセル、シリコン膜、ドナーセルをディフュージョンセルアレイシステムにセットした後、ドナーセルの各セルに0.2mLの化粧料組成物を計量する。32℃、撹拌下、上記シリコーン膜を通過した、3時間後のパラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシルの浸透量をHPLCで測定する。
なお、パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシルの浸透量が少ないほど、皮膚への刺激が抑制される。
(測定条件)
HPLC(Waters e2695 Separatios Module、日本ウォーターズ株式会社製、Waters 2489 UV/Visible Detector、日本ウォーターズ社製)
カラム:ODSカラム(Inertsil OSD−3、GL Sciences社製)
溶離液:90vol%メタノール水溶液
流速:1mL/min
検出波長:310nm
Figure 2015113297
実施例2〜12、比較例3、4
実施例1と同様にして、表4に示す組成の化粧料組成物を製造し、粒子径及び浸透量を測定した。結果を表4に併せて示す。なお、比較例3、4は乳化できなかった。
Figure 2015113297
実施例13〜15、比較例5、6
実施例1又は比較例1と同様にして、表5に示す組成の化粧料組成物を製造し、粒子径及び浸透量を測定した。結果を表5に併せて示す。
Figure 2015113297
実施例16
以下に示す組成の化粧料組成物を製造した。得られた化粧料組成物は、紫外線防御効果に優れ、刺激が抑制され、べたつきも抑制されたものであった。
(成分)
共重合体3 1.0(質量%)
パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル
(ユビナール MC80、BASF社製) 7.0
パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル・ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル
安息香酸ヘキシル混合物(ユビナール A PLUS B、BASF社製)
2.0
2,4−ビス−[{4−(2−エチルヘキソロキシ)−2−ヒドロキシ}
−フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン
(チノソーブS、BASF社製) 0.5
2,4,6−トリス[4−(2−エチルヘキシルオキシカルボニル)アニリノ]
1,3,5−トリアジン(ユビナールT-150、BASF社製) 0.5
グリセリン(86%グリセリン、花王社製) 10.0
カルボキシビニルポリマー
(カーボポール980、Novenon社製) 0.1
水酸化カリウム(白色カセイフレーク、日本曹達社製) 0.06
精製水 バランス
合計 100
(製造方法)
共重合体3 1.0g、パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル 7g、パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル・ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル混合物 2.0g、 2,4−ビス−[{4−(2−エチルヘキソロキシ)−2−ヒドロキシ}−フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン 0.5g、2,4,6−トリス[4−(2−エチルヘキシルオキシカルボニル)アニリノ]1,3,5−トリアジン 0.5gを、80℃にて、スパチュラで混合撹拌し、溶解させる。次いで、80℃に加熱した、グリセリン 10gを添加し、80℃で30分撹拌する。さらに、25℃の水酸化カリウム0.01g及び精製水0.99gの混合物を撹拌下添加する。さらに、80℃の精製水28gをゆっくり添加する。最後に25℃まで冷却して、エマルション相を調製する。
一方、精製水 39.9gに、カルボキシビニルポリマー 0.1gを撹拌下、分散させる。30分保持した後、25℃の水酸化カリウム0.05g及び精製水9.95gの混合物を添加し、カーボポール相を調製する。
最後に、25℃で、エマルション相、カーボポール相を撹拌混合し、化粧料組成物を得た。

Claims (5)

  1. 次の成分(A)、(B)及び(C)を含有する化粧料組成物。
    (A)一般式(1)で表される構成単位(a)、一般式(2)で表される構成単位(b)及び一般式(3)で表される構成単位(c)を含み、
    共重合体中、構成単位(a)を1質量%以上30質量%以下、構成単位(c)を5質量%以上55質量%以下含み、
    構成単位(b)に対する構成単位(c)の質量比(構成単位(c)/構成単位(b))が0.06〜1.43である共重合体;
    Figure 2015113297
    (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8及びR9は同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜2のアルキル基を示し、R10は炭素数2〜4のアルキレン基を示し、R11は炭素数8〜30の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示す。X1はOM又はNHC(CH3)2CH2SO2M(Mは水素原子又は陽イオン基を示す)を示し、X2はNR1213(R12及びR13は水素原子又はヒドロキシ基を有していても良い炭素数1又は2のアルキル基を示す。ただし、R12及びR13が同時に水素原子の場合を除く)又はOR14(R14はヒドロキシ基を有する炭素数2又は3のアルキル基を示す)を示し、X3は酸素原子又はNHを示す。nは0〜3の整数を示す。)
    (B)紫外線吸収成分、
    (C)水
  2. 成分(B)が、桂皮酸系紫外線吸収剤及びトリアジン系紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも1種を含む請求項1記載の化粧料組成物。
  3. 成分(A)の共重合体中において、構成単位(b)の含有量が、30質量%以上93質量%以下である、請求項1又は2記載の化粧料組成物。
  4. 成分(A)の共重合体中において、構成単位(c)の含有量が、7質量%以上53質量%以下である、請求項1〜3のいずれか1項記載の化粧料組成物。
  5. 成分(A)の共重合体中、構成単位(c)において、R11が炭素数12〜22のアルキル基又はアルケニル基である、請求項1〜4のいずれか1項記載の化粧料組成物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021161027A (ja) * 2020-03-30 2021-10-11 株式会社ナリス化粧品 経皮吸収抑制剤

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02262512A (ja) * 1989-04-01 1990-10-25 Shionogi & Co Ltd 皮膚の保護剤組成物
JPH0789834A (ja) * 1993-09-21 1995-04-04 Noevir Co Ltd 日焼け止め化粧料
JPH09503997A (ja) * 1993-07-08 1997-04-22 シグナス,インコーポレイテッド モノリシックなマトリックス経皮送達システム
JPH09141080A (ja) * 1995-11-15 1997-06-03 Shiseido Co Ltd 水溶性架橋型両親媒性高分子電解質からなる乳化剤、これを配合した乳化組成物及び乳化化粧料
JPH11209244A (ja) * 1998-01-27 1999-08-03 Kao Corp 水系美爪料
JP2000510489A (ja) * 1997-12-04 2000-08-15 ロレアル 1,3,5−トリアジン誘導体とシリコーンコポリオールを含有する水中油型エマルション及びその化粧品への用途
JP2000273031A (ja) * 1999-03-23 2000-10-03 Pola Chem Ind Inc 保護化粧料
JP2001181123A (ja) * 1999-12-27 2001-07-03 Lion Corp 外用剤組成物
JP2003192728A (ja) * 2001-04-26 2003-07-09 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 第3級水酸基を有するビニル重合性モノマー
JP2003206214A (ja) * 2002-01-10 2003-07-22 Shiseido Co Ltd 皮膚外用剤
JP2006008796A (ja) * 2004-06-24 2006-01-12 Shiseido Co Ltd 水中油型乳化組成物
JP2011046670A (ja) * 2009-08-28 2011-03-10 Kao Corp O/w型日焼け止め化粧料
JP2011236202A (ja) * 2010-04-13 2011-11-24 Shiseido Co Ltd 水中油型乳化組成物
JP2012140342A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Shiseido Co Ltd 水中油型乳化日焼け止め化粧料
JP2012233178A (ja) * 2011-04-22 2012-11-29 Mitsubishi Chemicals Corp 共重合体、化粧料組成物及び毛髪化粧料

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02262512A (ja) * 1989-04-01 1990-10-25 Shionogi & Co Ltd 皮膚の保護剤組成物
JPH09503997A (ja) * 1993-07-08 1997-04-22 シグナス,インコーポレイテッド モノリシックなマトリックス経皮送達システム
JPH0789834A (ja) * 1993-09-21 1995-04-04 Noevir Co Ltd 日焼け止め化粧料
JPH09141080A (ja) * 1995-11-15 1997-06-03 Shiseido Co Ltd 水溶性架橋型両親媒性高分子電解質からなる乳化剤、これを配合した乳化組成物及び乳化化粧料
JP2000510489A (ja) * 1997-12-04 2000-08-15 ロレアル 1,3,5−トリアジン誘導体とシリコーンコポリオールを含有する水中油型エマルション及びその化粧品への用途
JPH11209244A (ja) * 1998-01-27 1999-08-03 Kao Corp 水系美爪料
JP2000273031A (ja) * 1999-03-23 2000-10-03 Pola Chem Ind Inc 保護化粧料
JP2001181123A (ja) * 1999-12-27 2001-07-03 Lion Corp 外用剤組成物
JP2003192728A (ja) * 2001-04-26 2003-07-09 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 第3級水酸基を有するビニル重合性モノマー
JP2003206214A (ja) * 2002-01-10 2003-07-22 Shiseido Co Ltd 皮膚外用剤
JP2006008796A (ja) * 2004-06-24 2006-01-12 Shiseido Co Ltd 水中油型乳化組成物
JP2011046670A (ja) * 2009-08-28 2011-03-10 Kao Corp O/w型日焼け止め化粧料
JP2011236202A (ja) * 2010-04-13 2011-11-24 Shiseido Co Ltd 水中油型乳化組成物
JP2012140342A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Shiseido Co Ltd 水中油型乳化日焼け止め化粧料
JP2012233178A (ja) * 2011-04-22 2012-11-29 Mitsubishi Chemicals Corp 共重合体、化粧料組成物及び毛髪化粧料

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021161027A (ja) * 2020-03-30 2021-10-11 株式会社ナリス化粧品 経皮吸収抑制剤
JP7479898B2 (ja) 2020-03-30 2024-05-09 株式会社ナリス化粧品 経皮吸収抑制剤

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