JP2015111672A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2015111672A5
JP2015111672A5 JP2014236389A JP2014236389A JP2015111672A5 JP 2015111672 A5 JP2015111672 A5 JP 2015111672A5 JP 2014236389 A JP2014236389 A JP 2014236389A JP 2014236389 A JP2014236389 A JP 2014236389A JP 2015111672 A5 JP2015111672 A5 JP 2015111672A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
object area
along
scanning direction
angle
forms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014236389A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2015111672A (ja
JP6034845B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from EP14155686.0A external-priority patent/EP2876499B1/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2015111672A publication Critical patent/JP2015111672A/ja
Publication of JP2015111672A5 publication Critical patent/JP2015111672A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6034845B2 publication Critical patent/JP6034845B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2014236389A 2013-11-22 2014-11-21 マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 Active JP6034845B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP13194135 2013-11-22
EP13194135.3 2013-11-22
EP14155686.0 2014-02-19
EP14155686.0A EP2876499B1 (en) 2013-11-22 2014-02-19 Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016210859A Division JP6434473B2 (ja) 2013-11-22 2016-10-27 マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015111672A JP2015111672A (ja) 2015-06-18
JP2015111672A5 true JP2015111672A5 (enExample) 2016-05-19
JP6034845B2 JP6034845B2 (ja) 2016-11-30

Family

ID=49626852

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016533545A Active JP6343344B2 (ja) 2013-11-22 2014-11-13 マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系
JP2014236389A Active JP6034845B2 (ja) 2013-11-22 2014-11-21 マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系
JP2014236390A Pending JP2015111673A (ja) 2013-11-22 2014-11-21 マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系
JP2016210859A Active JP6434473B2 (ja) 2013-11-22 2016-10-27 マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016533545A Active JP6343344B2 (ja) 2013-11-22 2014-11-13 マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014236390A Pending JP2015111673A (ja) 2013-11-22 2014-11-21 マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系
JP2016210859A Active JP6434473B2 (ja) 2013-11-22 2016-10-27 マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系

Country Status (7)

Country Link
US (3) US9310690B2 (enExample)
EP (2) EP2876499B1 (enExample)
JP (4) JP6343344B2 (enExample)
KR (3) KR101922314B1 (enExample)
CN (3) CN105745580B (enExample)
TW (1) TWI638238B (enExample)
WO (1) WO2015074746A1 (enExample)

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014203040A1 (de) 2014-02-19 2015-08-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Betreiben eines solchen
DE102014203041A1 (de) 2014-02-19 2015-08-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Betreiben eines solchen
JP2018519535A (ja) * 2015-05-21 2018-07-19 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影装置を作動させる方法
CN105068381A (zh) * 2015-07-27 2015-11-18 江苏影速光电技术有限公司 一种曝光机光阑承载结构及曝光机光阑更换方法
TWI575300B (zh) 2015-08-31 2017-03-21 中強光電股份有限公司 投影裝置以及照明系統
JP6643466B2 (ja) * 2015-09-23 2020-02-12 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影装置を動作させる方法およびそのような装置の照明システム
DE102015221991A1 (de) * 2015-11-09 2017-05-11 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Mikroskopierverfahren zur Ermittlung eines Kontrastbildes und Mikroskop
DE102015224521B4 (de) 2015-12-08 2018-06-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographische Projektionsanlage und Verfahren zum Betreiben einer solchen Anlage
DE102015224522B4 (de) 2015-12-08 2018-06-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsanlage und Verfahren zum Betreiben eines solchen Systems
WO2017108448A1 (en) * 2015-12-22 2017-06-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system of a microlithographic apparatus
CN106933049B (zh) * 2015-12-30 2020-06-16 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种用于半导体光刻的曝光系统与曝光方法
US10061201B2 (en) 2016-10-24 2018-08-28 Hrl Laboratories, Llc Bottom up apparatus design for formation of self-propagating photopolymer waveguides
JP7356351B2 (ja) 2016-12-12 2023-10-04 エクセラ・バイオサイエンシーズ・インコーポレイテッド マイクロキャピラリーアレイを使用したスクリーニングのための方法およびシステム
CN114185250B (zh) * 2016-12-20 2024-12-06 Ev集团E·索尔纳有限责任公司 将一光敏层曝光之装置及方法
US10852528B2 (en) 2016-12-20 2020-12-01 Ev Group E. Thallner Gmbh Method and device for exposure of photosensitive layer
WO2018125832A1 (en) * 2016-12-30 2018-07-05 xCella Biosciences, Inc. Multi-stage sample recovery system
CN109654393B (zh) * 2017-01-11 2020-06-19 哈尔滨理工大学 具有第二遮挡板的鼻孔照明装置
US11099007B2 (en) * 2017-02-16 2021-08-24 Nikon Corporation Test of operational status of a digital scanner during lithographic exposure process
CN107421439B (zh) * 2017-04-21 2019-05-14 上海交通大学 一种无成像目标显著性检测与坐标跟踪系统及方法
PT3642674T (pt) 2017-06-19 2023-05-02 Suss Microtec Solutions Gmbh & Co Kg Compensação de ampliação e/ou direcionamento de feixe em sistemas óticos
US11175487B2 (en) 2017-06-19 2021-11-16 Suss Microtec Photonic Systems Inc. Optical distortion reduction in projection systems
WO2019064502A1 (ja) * 2017-09-29 2019-04-04 株式会社ニコン 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
WO2019064503A1 (ja) * 2017-09-29 2019-04-04 株式会社ニコン 電子ビーム装置、照明光学系、及びデバイス製造方法
JP7020859B2 (ja) 2017-10-24 2022-02-16 キヤノン株式会社 照明光学系、露光装置および物品の製造方法
EP3744468B1 (en) * 2018-03-23 2024-03-06 Primetals Technologies Japan, Ltd. Laser processing device, and method for adjusting a laser processing head
KR102604859B1 (ko) * 2018-06-19 2023-11-21 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하 이미지 포인트 노출 방법 및 장치
US10503076B1 (en) * 2018-08-29 2019-12-10 Applied Materials, Inc. Reserving spatial light modulator sections to address field non-uniformities
CN109116554B (zh) * 2018-10-11 2020-12-04 北京环境特性研究所 光学积分器的设计方法
EP3640735A1 (en) 2018-10-18 2020-04-22 ASML Netherlands B.V. Methods and apparatus for inspection of a structure and associated apparatuses
ES3039910T3 (en) 2018-12-06 2025-10-27 Xcella Biosciences Inc Lateral loading of microcapillary arrays
KR102651647B1 (ko) * 2019-03-12 2024-03-26 루머스 리미티드 이미지 프로젝터
CN111856745B (zh) * 2019-04-30 2023-03-17 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种光照射装置
EP3736550A1 (en) * 2019-05-10 2020-11-11 X-Rite Switzerland GmbH Illumination device for a spectrophotometer having integrated mixing optics, and method for illuminating a sample
CN116097172A (zh) * 2020-08-18 2023-05-09 株式会社尼康 曝光装置、测量装置、测量方法和元件制造方法
US11366307B2 (en) * 2020-08-27 2022-06-21 Kla Corporation Programmable and reconfigurable mask with MEMS micro-mirror array for defect detection
CN113189848B (zh) * 2021-04-21 2024-02-13 之江实验室 一种基于光纤阵列的多通道并行式超分辨直写式光刻系统
CN115390362A (zh) * 2021-05-25 2022-11-25 赫智科技(苏州)有限公司 一种4k光刻的方法
US20230123834A1 (en) * 2021-10-19 2023-04-20 Meta Platforms Technologies, Llc Euv lithography using polymer crystal based reticle
CN115128809B (zh) * 2022-05-17 2023-11-28 南京工业职业技术大学 一种实现全息波导显示系统均匀成像的光栅效率分布表征与优化方法
DE102022116214B4 (de) * 2022-06-29 2024-06-13 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Messkamera und Verfahren zur zweidimensionalen Vermessung von Gegenständen
DE102024205430A1 (de) * 2024-06-13 2025-12-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Optomechanisches System für die Projektionslithographie

Family Cites Families (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5517279A (en) 1993-08-30 1996-05-14 Hugle; William B. Lens array photolithography
JP2674578B2 (ja) * 1995-08-29 1997-11-12 株式会社ニコン 走査露光装置及び露光方法
JP2674579B2 (ja) * 1995-08-29 1997-11-12 株式会社ニコン 走査露光装置および走査露光方法
US6404499B1 (en) 1998-04-21 2002-06-11 Asml Netherlands B.V. Lithography apparatus with filters for optimizing uniformity of an image
EP1107064A3 (en) 1999-12-06 2004-12-29 Olympus Optical Co., Ltd. Exposure apparatus
GB9930529D0 (en) * 1999-12-23 2000-02-16 Screen Tech Ltd Optical arrangement for flat-panel displays
JP4838430B2 (ja) * 2001-01-26 2011-12-14 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
GB0107076D0 (en) * 2001-03-21 2001-05-09 Screen Technology Ltd Liquid-crystal display using emissive elements
JP4401060B2 (ja) 2001-06-01 2010-01-20 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リトグラフ装置、およびデバイス製造方法
KR100480620B1 (ko) 2002-09-19 2005-03-31 삼성전자주식회사 마이크로 미러 어레이를 구비한 노광 장치 및 이를 이용한노광 방법
JP4717813B2 (ja) 2003-09-12 2011-07-06 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光設備のための照明系
DE10343333A1 (de) * 2003-09-12 2005-04-14 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
WO2005040927A2 (en) 2003-10-18 2005-05-06 Carl Zeiss Smt Ag Device and method for illumination dose adjustments in microlithography
US20060087634A1 (en) 2004-10-25 2006-04-27 Brown Jay M Dynamic illumination uniformity and shape control for lithography
EP1837895B1 (en) * 2004-12-27 2016-02-24 Nikon Corporation Optical integrator, illumination optical apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
TWI456267B (zh) * 2006-02-17 2014-10-11 Zeiss Carl Smt Gmbh 用於微影投射曝光設備之照明系統
JP2007279113A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Nikon Corp 走査型露光装置及びデバイスの製造方法
US7932993B2 (en) 2006-09-16 2011-04-26 Wenhui Mei Divided sub-image array scanning and exposing system
US8334935B2 (en) 2006-12-19 2012-12-18 Thomson Licensing High resolution DMD projection system
WO2009026947A1 (en) 2007-08-30 2009-03-05 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic projection exposure apparatus
US8451427B2 (en) * 2007-09-14 2013-05-28 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
US20090091730A1 (en) * 2007-10-03 2009-04-09 Nikon Corporation Spatial light modulation unit, illumination apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
CN101681123B (zh) * 2007-10-16 2013-06-12 株式会社尼康 照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法
SG185313A1 (en) * 2007-10-16 2012-11-29 Nikon Corp Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8379187B2 (en) * 2007-10-24 2013-02-19 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
KR20180072841A (ko) 2007-11-06 2018-06-29 가부시키가이샤 니콘 조명 광학계, 노광 장치 및 노광 방법
WO2009060745A1 (ja) * 2007-11-06 2009-05-14 Nikon Corporation 制御装置、露光方法、及び露光装置
US9116346B2 (en) 2007-11-06 2015-08-25 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5326259B2 (ja) * 2007-11-08 2013-10-30 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
NL1036108A1 (nl) * 2007-11-09 2009-05-12 Asml Netherlands Bv Device Manufacturing Method and Lithographic Apparatus, and Computer Program Product.
CN101946190B (zh) * 2008-02-15 2013-06-19 卡尔蔡司Smt有限责任公司 微光刻的投射曝光设备使用的分面镜
DE102008001511A1 (de) 2008-04-30 2009-11-05 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithografie sowie Beleuchtungssystem und Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
WO2009142440A2 (ko) * 2008-05-20 2009-11-26 Jung Jin Ho 마스크 리스 노광장치용 광학부품
DE102008002749A1 (de) 2008-06-27 2009-12-31 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungsoptik für die Mikrolithografie
EP2146248B1 (en) 2008-07-16 2012-08-29 Carl Zeiss SMT GmbH Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
JPWO2010024106A1 (ja) * 2008-08-28 2012-01-26 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5403244B2 (ja) * 2009-07-16 2014-01-29 株式会社ニコン 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5608233B2 (ja) * 2009-07-31 2014-10-15 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学ビーム偏向要素及び調節方法
JP2011108851A (ja) * 2009-11-17 2011-06-02 Canon Inc 露光装置及びデバイスの製造方法
JP5809637B2 (ja) 2009-11-18 2015-11-11 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
DE102009054540B4 (de) 2009-12-11 2011-11-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithographie
JP2012004561A (ja) 2010-06-16 2012-01-05 Nikon Corp 照明方法、照明光学装置、及び露光装置
CN103097955B (zh) * 2010-08-30 2015-08-19 卡尔蔡司Smt有限责任公司 微光刻投射曝光装置的照明系统
JP2012069656A (ja) 2010-09-22 2012-04-05 Nikon Corp 空間光変調器、照明装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2012099686A (ja) 2010-11-04 2012-05-24 Nikon Corp 光源形成方法、露光方法、及びデバイス製造方法
JP6016169B2 (ja) 2011-01-29 2016-10-26 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系
US8823921B2 (en) 2011-08-19 2014-09-02 Ultratech, Inc. Programmable illuminator for a photolithography system
US8390917B1 (en) 2011-08-24 2013-03-05 Palo Alto Research Center Incorporated Multiple line single-pass imaging using spatial light modulator and anamorphic projection optics

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015111672A5 (enExample)
JP2015111673A5 (enExample)
JP2017507356A5 (enExample)
JP2012527645A5 (enExample)
JP2015152739A5 (enExample)
JP2014010400A5 (enExample)
EP2385413A3 (en) Micro-optic security and image presentation system
JP2014130375A5 (enExample)
JP2016000510A5 (enExample)
JP2015031824A5 (enExample)
JP2016212154A5 (enExample)
US20170192241A1 (en) Optical imaging system
JP2013047797A5 (enExample)
JP2015152765A5 (enExample)
JP2010096957A5 (enExample)
JP2016200808A5 (enExample)
JP2017044722A5 (ja) ステレオ光学系および撮像装置
US9470879B2 (en) Optical imaging system
JP2015152738A5 (enExample)
JP2016126057A5 (enExample)
JP2018148383A5 (enExample)
JP2016224082A5 (enExample)
JP2016148731A5 (enExample)
JP2016213757A5 (enExample)
JP2019008047A5 (enExample)