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各物体区域グループは、単一の独立したデバイス、例えば、デジタルミラーデバイス（ＤＭＤ）として実現することができる。本発明により、対物系は、光学インテグレーター上のこれらのデバイスの像をこれらの像が途切れなく当接するように組み合わせる。従って、全てのデバイスの分解能が加算されるので、空間光変調器の各物体区域内の空間分解能を極めて高くすることができる。このようにして、１０ 8 ピクセル程度まで高くすることができる全体分解能を生成することができる。
時には、段階状のものではなく、傾斜部分を含む放射照度分布を生成することが望ましい。この放射照度分布は、２つの矩形格子が互いに平行に配置されず、図１８に示すように角度αを有する場合に達成することができる。次に、マイクロミラー５６の像５６’は、光入射ファセット７５の側辺と角度αを形成する格子１１４を形成する。この時に、隣接するマイクロミラー５６の中心は、光入射ファセット７５の境界線に対して同じ角度αを形成する像１１６を有する直線に沿って位置合わせされる。この角度αが、ｍ＝０，１，２，３，．．．である時にｍ・４５°と明確に異なる場合に、放射照度分布は、図１３及び図１５に示すような段階状分布の形状を持たなくなる。
矩形物体区域１１０が正方形光入射ファセット７５上に結像されることになる場合に、対物系５８はアナモフィックのものでなければならない。より具体的には、倍率Ｍの絶対値は、走査方向Ｙに沿ってよりも交差走査方向Ｘに沿って小さく、すなわち、｜ＭX｜＜｜ＭY｜である必要がある。これを図２３に例示しており、この図では、単一矩形物体区域１１０と光学ラスター要素７４の光入射ファセット７５との間に対物系５８の２つの円柱レンズ１２４、１２６が配置されている。交差走査方向Ｘに沿った物体区域１１０の長さがＬXであり、走査方向Ｙに沿った長さがＬYである場合に、｜Ｍ X ／Ｍ Y ｜は、ＬY／ＬXに等しくなければならない。
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Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014203040A1 (de) 2014-02-19 2015-08-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Betreiben eines solchen
DE102014203041A1 (de) 2014-02-19 2015-08-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Betreiben eines solchen
KR20180010242A (ko) * 2015-05-21 2018-01-30 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 마이크로리소그래픽 투영 장치의 작동 방법
CN105068381A (zh) * 2015-07-27 2015-11-18 江苏影速光电技术有限公司 一种曝光机光阑承载结构及曝光机光阑更换方法
TWI575300B (zh) 2015-08-31 2017-03-21 中強光電股份有限公司 投影裝置以及照明系統
WO2017050360A1 (en) * 2015-09-23 2017-03-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Method of operating a microlithographic projection apparatus and illuminations system of such an apparatus
DE102015221991A1 (de) * 2015-11-09 2017-05-11 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Mikroskopierverfahren zur Ermittlung eines Kontrastbildes und Mikroskop
DE102015224521B4 (de) 2015-12-08 2018-06-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographische Projektionsanlage und Verfahren zum Betreiben einer solchen Anlage
DE102015224522B4 (de) 2015-12-08 2018-06-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsanlage und Verfahren zum Betreiben eines solchen Systems
WO2017108448A1 (en) * 2015-12-22 2017-06-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system of a microlithographic apparatus
CN106933049B (zh) * 2015-12-30 2020-06-16 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种用于半导体光刻的曝光系统与曝光方法
US10061201B2 (en) 2016-10-24 2018-08-28 Hrl Laboratories, Llc Bottom up apparatus design for formation of self-propagating photopolymer waveguides
AU2017375631B2 (en) 2016-12-12 2023-06-15 xCella Biosciences, Inc. Methods and systems for screening using microcapillary arrays
EP3734349A1 (de) * 2016-12-20 2020-11-04 EV Group E. Thallner GmbH Vorrichtung und verfahren zur belichtung einer lichtempfindlichen schicht
WO2018113917A1 (de) * 2016-12-20 2018-06-28 Ev Group E. Thallner Gmbh Vorrichtung und verfahren zur belichtung einer lichtempfindlichen schicht
WO2018125832A1 (en) 2016-12-30 2018-07-05 xCella Biosciences, Inc. Multi-stage sample recovery system
CN109654393B (zh) * 2017-01-11 2020-06-19 哈尔滨理工大学 具有第二遮挡板的鼻孔照明装置
US11099007B2 (en) * 2017-02-16 2021-08-24 Nikon Corporation Test of operational status of a digital scanner during lithographic exposure process
CN107421439B (zh) * 2017-04-21 2019-05-14 上海交通大学 一种无成像目标显著性检测与坐标跟踪系统及方法
PT3642674T (pt) 2017-06-19 2023-05-02 Suss Microtec Solutions Gmbh & Co Kg Compensação de ampliação e/ou direcionamento de feixe em sistemas óticos
US11175487B2 (en) 2017-06-19 2021-11-16 Suss Microtec Photonic Systems Inc. Optical distortion reduction in projection systems
WO2019064503A1 (ja) * 2017-09-29 2019-04-04 株式会社ニコン 電子ビーム装置、照明光学系、及びデバイス製造方法
WO2019064502A1 (ja) * 2017-09-29 2019-04-04 株式会社ニコン 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
JP7020859B2 (ja) 2017-10-24 2022-02-16 キヤノン株式会社 照明光学系、露光装置および物品の製造方法
JP6920540B2 (ja) * 2018-03-23 2021-08-18 Ｐｒｉｍｅｔａｌｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｊａｐａｎ株式会社 レーザ加工ヘッド及びレーザ加工装置並びにレーザ加工ヘッドの調整方法
WO2019242840A1 (de) * 2018-06-19 2019-12-26 Ev Group E. Thallner Gmbh Verfahren und vorrichtung zur belichtung von bildpunkten
CN109116554B (zh) * 2018-10-11 2020-12-04 北京环境特性研究所 光学积分器的设计方法
EP3640735A1 (en) * 2018-10-18 2020-04-22 ASML Netherlands B.V. Methods and apparatus for inspection of a structure and associated apparatuses
CN111856745B (zh) * 2019-04-30 2023-03-17 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种光照射装置
EP3736550A1 (en) * 2019-05-10 2020-11-11 X-Rite Switzerland GmbH Illumination device for a spectrophotometer having integrated mixing optics, and method for illuminating a sample
US11366307B2 (en) * 2020-08-27 2022-06-21 Kla Corporation Programmable and reconfigurable mask with MEMS micro-mirror array for defect detection
CN113189848B (zh) * 2021-04-21 2024-02-13 之江实验室 一种基于光纤阵列的多通道并行式超分辨直写式光刻系统
CN115390362A (zh) * 2021-05-25 2022-11-25 赫智科技(苏州)有限公司 一种4k光刻的方法
CN115128809B (zh) * 2022-05-17 2023-11-28 南京工业职业技术大学 一种实现全息波导显示系统均匀成像的光栅效率分布表征与优化方法

Family Cites Families (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5517279A (en) 1993-08-30 1996-05-14 Hugle; William B. Lens array photolithography
JP2674578B2 (ja) * 1995-08-29 1997-11-12 株式会社ニコン 走査露光装置及び露光方法
JP2674579B2 (ja) * 1995-08-29 1997-11-12 株式会社ニコン 走査露光装置および走査露光方法
US6404499B1 (en) 1998-04-21 2002-06-11 Asml Netherlands B.V. Lithography apparatus with filters for optimizing uniformity of an image
EP1107064A3 (en) 1999-12-06 2004-12-29 Olympus Optical Co., Ltd. Exposure apparatus
GB9930529D0 (en) * 1999-12-23 2000-02-16 Screen Tech Ltd Optical arrangement for flat-panel displays
JP4838430B2 (ja) * 2001-01-26 2011-12-14 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
GB0107076D0 (en) * 2001-03-21 2001-05-09 Screen Technology Ltd Liquid-crystal display using emissive elements
EP1262836B1 (en) 2001-06-01 2018-09-12 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR100480620B1 (ko) 2002-09-19 2005-03-31 삼성전자주식회사 마이크로 미러 어레이를 구비한 노광 장치 및 이를 이용한노광 방법
EP1668421A2 (en) 2003-09-12 2006-06-14 Carl Zeiss SMT AG Illumination system for a microlithography projection exposure installation
DE10343333A1 (de) * 2003-09-12 2005-04-14 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
WO2005040927A2 (en) 2003-10-18 2005-05-06 Carl Zeiss Smt Ag Device and method for illumination dose adjustments in microlithography
US20060087634A1 (en) 2004-10-25 2006-04-27 Brown Jay M Dynamic illumination uniformity and shape control for lithography
EP1837895B1 (en) * 2004-12-27 2016-02-24 Nikon Corporation Optical integrator, illumination optical apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
TWI456267B (zh) 2006-02-17 2014-10-11 Zeiss Carl Smt Gmbh 用於微影投射曝光設備之照明系統
JP2007279113A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Nikon Corp 走査型露光装置及びデバイスの製造方法
US7932993B2 (en) 2006-09-16 2011-04-26 Wenhui Mei Divided sub-image array scanning and exposing system
WO2008076114A1 (en) 2006-12-19 2008-06-26 Thomson Licensing High resolution dmd projection system
CN101796460B (zh) 2007-08-30 2013-05-01 卡尔蔡司Smt有限责任公司 微光刻投射曝光设备中用于照明掩模的照明系统
US8451427B2 (en) * 2007-09-14 2013-05-28 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
US20090091730A1 (en) * 2007-10-03 2009-04-09 Nikon Corporation Spatial light modulation unit, illumination apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
CN101681123B (zh) * 2007-10-16 2013-06-12 株式会社尼康 照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法
EP2179329A1 (en) * 2007-10-16 2010-04-28 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8379187B2 (en) * 2007-10-24 2013-02-19 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
KR20180072841A (ko) 2007-11-06 2018-06-29 가부시키가이샤 니콘 조명 광학계, 노광 장치 및 노광 방법
JP5418230B2 (ja) * 2007-11-06 2014-02-19 株式会社ニコン 露光方法、及び露光装置
US9116346B2 (en) 2007-11-06 2015-08-25 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5326259B2 (ja) * 2007-11-08 2013-10-30 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
NL1036108A1 (nl) * 2007-11-09 2009-05-12 Asml Netherlands Bv Device Manufacturing Method and Lithographic Apparatus, and Computer Program Product.
EP2243047B1 (en) * 2008-02-15 2021-03-31 Carl Zeiss SMT GmbH Facet mirror for use in a projection exposure apparatus for microlithography
DE102008001511A1 (de) 2008-04-30 2009-11-05 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithografie sowie Beleuchtungssystem und Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
WO2009142440A2 (ko) * 2008-05-20 2009-11-26 Jung Jin Ho 마스크 리스 노광장치용 광학부품
DE102008002749A1 (de) 2008-06-27 2009-12-31 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungsoptik für die Mikrolithografie
EP2146248B1 (en) * 2008-07-16 2012-08-29 Carl Zeiss SMT GmbH Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
JPWO2010024106A1 (ja) * 2008-08-28 2012-01-26 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5403244B2 (ja) * 2009-07-16 2014-01-29 株式会社ニコン 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5608233B2 (ja) * 2009-07-31 2014-10-15 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学ビーム偏向要素及び調節方法
JP2011108851A (ja) * 2009-11-17 2011-06-02 Canon Inc 露光装置及びデバイスの製造方法
NL2005331A (en) 2009-11-18 2011-05-19 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
DE102009054540B4 (de) 2009-12-11 2011-11-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithographie
JP2012004561A (ja) 2010-06-16 2012-01-05 Nikon Corp 照明方法、照明光学装置、及び露光装置
EP2649493A1 (en) * 2010-08-30 2013-10-16 Carl Zeiss SMT GmbH Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
JP2012069656A (ja) 2010-09-22 2012-04-05 Nikon Corp 空間光変調器、照明装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2012099686A (ja) 2010-11-04 2012-05-24 Nikon Corp 光源形成方法、露光方法、及びデバイス製造方法
JP6016169B2 (ja) * 2011-01-29 2016-10-26 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系
US8823921B2 (en) * 2011-08-19 2014-09-02 Ultratech, Inc. Programmable illuminator for a photolithography system
US8390917B1 (en) 2011-08-24 2013-03-05 Palo Alto Research Center Incorporated Multiple line single-pass imaging using spatial light modulator and anamorphic projection optics

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