JP2013047797A5 - - Google Patents

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  1. 予め決められたスキャンライン画像データに応答して、一連の一次元光ピクセルで構成される一次元スキャンライン画像を発生するための方法であって、
    1つ以上の光源から第1の束密度の有する1つ以上の光ビームを発生させることにより、均質光を発生させることを含み、前記発生した1つ以上の光ビームの全てがホモジナイザに案内されると共に、前記ホモジナイザから出た前記均質光が均一の二次元均質光場を形成し且つ第2の束密度を有し、前記第1の束密度は前記第2の束密度より大きく、
    前記予め決められたスキャンライン画像データに従って前記均質光を変調することを含み、前記変調された均質光が二次元変調光場を形成し、
    前記均質光が前記変調されてなる変調光をアナモルフィックに画像化しかつ集中させることを含み、前記集中された変調光が一次元スキャンライン画像を形成し、前記一連の一次元光ピクセルの各々は、スキャンラインに垂直に位置合わせされた複数の光変調素子から受け取られた前記二次元変調光場の同時に組み合わされた部分を備え、
    前記変調光をアナモルフィックに集中させることは、
    第1の集束レンズ及び第2の集束レンズを用いて、処理方向に交差する方向に、前記変調光の部分を投影しかつ拡大することを含み、前記変調光の部分が、前記第1の集束レンズと前記第2の集束レンズとの間で処理方向に平行のままであり、
    前記第1の集束レンズ及び前記第2の集束レンズより下流に位置する第3の集束レンズを用いて、前記処理方向に平行な方向に前記変調光の部分を集中させることを含む、
    方法。
  2. 前記均質光を変調することは、
    複数の行及び複数の列に配置された前記複数の光変調素子の上に前記均質光を案内することを含み、前記複数の列の各々は、前記複数の光変調素子の関連付けられたグループを含み、
    前記複数の光変調素子の各々を制御することを含み、前記予め決められたスキャンライン画像データに応答して、前記複数の光変調素子の各々が、第1の変調状態及び第2の変調状態の1つに調整され、前記複数の光変調素子の各々が前記第1の変調状態にあるとき、前記複数の光変調素子の各々は、関連付けられ且つ受け取られた前記均質光の部分を変調して、前記関連付けられ且つ変調された前記均質光の部分が、対応する予め定められた方向に案内されると共に、前記複数の光変調素子の各々が前記第2の変調状態にあるとき、前記複数の光変調素子の各々は、前記関連付けられ且つ受け取られた前記均質光の部分を変調して、前記関連付けられ且つ変調された前記均質光の部分が、前記対応する予め定められた方向に沿って通過せず、
    前記変調光をアナモルフィックに集中させることは、
    前記複数の光変調素子の各々から受け取られた前記変調光の部分をアナモルフィックに集中させることを含み、前記複数の列の各々の前記複数の光変調素子の関連付けられた各グループから受け取られた前記変調光の部分は、前記一次元スキャンライン画像の関連付けられた画像領域の上に集中する、
    請求項1に記載の方法。
  3. 前記均質光を変調することは、デジタル・マイクロミラー・デバイス、電子光学回折変調器アレイ、及び熱光学吸収素子から成るアレイの1つを利用することを含む、請求項1に記載の方法。
  4. 前記均質光を変調することは、
    基板に配置された複数の微小電気機械式ミラー機構に前記均質光を案内することを含み、
    前記複数の微小電気機械式ミラー機構の各々を制御することを含み、前記予め決められたスキャンライン画像データの対応する部分に従って、前記基板に対して傾いた第1の位置と前記基板に対して傾いた第2の位置との間で、前記複数の微小電気機械式ミラー機構の各々のミラーが動かされる、
    請求項1に記載の方法。
  5. 前記均質光を変調することは、前記複数の微小電気機械式ミラー機構の各々を位置させることを含み、前記複数の微小電気機械式ミラー機構の各々のミラーが前記基板に対して傾いた第1の位置に位置するとき、前記複数の微小電気機械式ミラー機構の各々のミラーは、前記均質光の関連付けられ部分を反射させ、前記反射された部分は、アナモルフィック光学系に案内されると共に、前記複数の微小電気機械式ミラー機構の各々のミラーが前記基板に対して傾いた第2の位置に位置するとき、前記複数の微小電気機械式ミラー機構の各々のミラーは、前記均質光の前記関連付けられ部分を反射させ、前記反射された部分は、前記アナモルフィック光学系から離れる、
    請求項4に記載の方法。
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