CN1916768A - 个性化隐形眼镜定制设备 - Google Patents

个性化隐形眼镜定制设备 Download PDF

Info

Publication number
CN1916768A
CN1916768A CNA2006101130489A CN200610113048A CN1916768A CN 1916768 A CN1916768 A CN 1916768A CN A2006101130489 A CNA2006101130489 A CN A2006101130489A CN 200610113048 A CN200610113048 A CN 200610113048A CN 1916768 A CN1916768 A CN 1916768A
Authority
CN
China
Prior art keywords
gray level
level image
contact lenses
light
customizing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CNA2006101130489A
Other languages
English (en)
Inventor
张雨东
王建
赵立新
胡松
董小春
饶学军
高洪涛
戴云
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Institute of Optics and Electronics of CAS
Academy of Opto Electronics of CAS
Original Assignee
Institute of Optics and Electronics of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Institute of Optics and Electronics of CAS filed Critical Institute of Optics and Electronics of CAS
Priority to CNA2006101130489A priority Critical patent/CN1916768A/zh
Publication of CN1916768A publication Critical patent/CN1916768A/zh
Priority to US11/896,967 priority patent/US8061841B2/en
Priority to EP07017599A priority patent/EP1897679A1/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70283Mask effects on the imaging process
    • G03F7/70291Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009Production of simple or compound lenses
    • B29D11/00038Production of contact lenses
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/24Curved surfaces
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/703Non-planar pattern areas or non-planar masks, e.g. curved masks or substrates

Abstract

个性化隐形眼镜定制设备由均匀照明系统、灰度图像生成系统、投影光学系统、工件台系统和对准系统组成,均匀照明系统产生经过均匀的平行照明光,该光束通过灰度图像生产系统,根据人眼的像差检查的结果,通过计算机控制灰度图像生成器生成灰度图像,再通过投影光学系统,将灰度图像经过放缩、矫正像场曲率后,成像到给定曲率半径的像面—固定在工件台上,通过对准系统调整到正确位置且已涂光致抗蚀剂的样品表面上,使样品上的光致抗蚀剂按着灰度图形的灰度级曝光,再将曝光后的样品进行显影、刻蚀,即可得到在球面上刻有连续浮雕微结构的器件,该器件经过后期处理得到能够佩戴的个性化隐形眼镜。本发明实现个性化隐形眼镜的快速定制。

Description

个性化隐形眼镜定制设备
技术领域
本发明涉及一种个性化隐形眼镜的定制设备,是一种通过无掩模光刻技术在球面上刻蚀微结构来制作个性化隐形眼镜的技术装备。
技术背景
人们早就认识到,正常人眼并非完美的屈光系统,存在着一定程度的像差,从而降低了视网膜成像质量,限制视觉敏感度。除球面镜和柱面镜可用框架眼镜、隐形眼镜等器件矫正外,对于彗差和球差等高阶像差,并无准确有效的器件可以矫正。
1962年,Smirnov首次提出眼的高阶像差特征,并指出可通过个体化的透镜矫正人眼像差。David Williams实验室曾经就矫正人眼高级像差做过相应研究,证明如果校掉高阶像差,有助于提高人眼的主观像质(“VisualPerformance after correcting the monochromatic and chromaticaberrations of the eye”Geun-Young Yoon and David R.Williams,J.Opt.Soc.Am.A/Vol.19,No.2/February)。1994年,Liang等首次报道用Hartmann-Shack波前感受器测量人眼屈光系统整体像差(“Objectivemeasurement of wavefront aberrations of the human eye with the use of aShack-Hartmann wavefront sensor”J.Liang,B.Grimm and S.Goelx,etal,J.Opt.Soc.Am.A,1994,11:1949-1957)。中科院光电技术研究所自适应光学实验室在2005年申请了“双眼体视高阶像差矫正视觉仿真系统”的专利(公开号CN 1689538A),在该申请中,其制作出了能够精确测量人眼高阶像差的设备,为矫正人眼高阶像差奠定了基础。随后,中科院光电技术研究所在专利申请“人眼高阶像差矫正方法”(公开号CN 1702494A)中提出了矫正人眼高阶像差的方法。根据对以往矫正人眼高阶像差的各种方法的分析可知,通过个性化眼镜来矫正人眼的像差,无疑是一种最为安全、方便、经济的方法。
但在实际应用中,能够市场化推广的个性化眼镜的制作还存在以下一些问题:
(1)根据检测出各阶像差对矫正的贡献,需要在材料上加工出连续浮雕微结构,而一般的加工方式不易满足要求;
(2)人眼的高阶像差千差万别,矫正高阶像差不像矫正低阶像差那样具有通用性。对高阶像差进行矫正,要针对性的对不同的人眼个体,检测出各阶像差对矫正的贡献,在矫正了低阶像差的系统上通过光学光刻的方法生成连续浮雕微结构,对检测的像差进行补偿,使之变成能够同时矫正低阶像差和高阶像差的个性化系统。而传统的光刻技术的掩模结构固定,灵活性差,价格案昂贵,不满足器件的个性化要求。
因此在加工个性化眼镜中,无掩模光刻技术无疑具有巨大优势。另外,在无掩模光刻技术方面,荷兰ASML公司于2005年取得的发明专利“使用空间光调制器阵列的无掩模光刻系统与方法”(公开号CN 1573561A),在该专利中,他们应用空间光调制器阵列,将入射均匀光进行振幅调制,得到相应的灰度图像,并将其投影到平面目标物(包括半导体晶片、玻璃基片等)上,完成曝光。然而,由于制得的隐形眼镜需要贴眼球佩戴,且还需考虑普通屈光度的矫正,因此该眼镜必须是球面结构,这就要求连续浮雕微结构刻蚀在球面上而不是通常光刻的平面,而ASML公司的该项专利技术无法解决球面投影曝光的问题。
发明内容
本发明解决的技术问题是:提供一种个性化隐形眼镜定制设备,该设备很好地解决了球面投影曝光的问题,而且通过已测得的人眼高阶像差数据,来根据每个人的具体情况,制作高质量的个性化隐形眼镜,改善了人眼的成像质量,同时成本较为低廉。
本发明的技术方案是:个性化隐形眼镜定制设备,其特征在于:它由均匀照明系统、灰度图像生成系统、投影光学系统、工件台系统和对准系统组成,均匀照明系统产生经过均匀的平行照明光,该光束通过灰度图像生产系统,根据人眼的像差检查的结果,通过计算机控制灰度图像生成器生成灰度图像,再通过投影光学系统,将灰度图像经过放缩、矫正像场曲率后,成像到给定曲率半径的像面—固定在工件台上,通过对准系统调整到正确位置且已涂光致抗蚀剂的样品表面上,使样品上的光致抗蚀剂按着灰度图形的灰度级曝光,再将曝光后的样品进行显影、刻蚀,即可得到在球面上刻有连续浮雕微结构的器件。该器件经过检测合格后,经过后期处理得到能够佩戴的个性化隐形眼镜。
本发明的有益效果是:本发明与现有技术相比,本发明将无掩模光刻技术应用于个性化隐形眼镜的制作中,取消了普通光学光刻中的掩模,能够灵活的根据每个人矫正高阶像差而需要的不同结构进行制作;在光刻中,根据眼镜外形特征的需要,将图像曝光在球面上,而非传统的平面上。本设备结构简单、可靠,加工出来的个性化眼镜质量可靠,成本低,使其具有了进行大规模市场推广的前景。
附图说明
图1为本发明的结构示意图;
图2为图1中灰度图像生成系统结构示意图;
图3为图1中均匀照明系统结构示意图;
图4为图1中灰度图像投影示意图。
具体实施例
如图1所示,本发明由均匀照明系统1、灰度图像生产系统2、投影光学系统3、工件台系统4和对准系统5组成,均匀照明系统1产生经过均匀的平行照明光,该光束通过灰度图像生产系统2,根据人眼的像差检查的结果,通过计算机控制灰度图像生成器生成灰度图像,再通过投影光学系统3,将灰度图像经过放缩、矫正像场曲率后,成像到给定曲率半径的像面—固定在工件台4上,通过对准系统5调整到正确位置且已涂光致抗蚀剂的样品表面上,使样品上的光致抗蚀剂按着灰度图形的灰度级曝光,再将曝光后的样品进行显影、刻蚀,即可得到在球面上刻有连续浮雕微结构的器件。
如图2所示,灰度图像生成系统2由灰度图像控制器201和灰度图像生成器202组成,根据灰度图像生成器202的工作方式的不同,可以将此系统的工作方式分为两种,一种如图2a所示,控制器201控制灰度图像生成器202根据需要反射面产生相应的变化,均匀光束入射到灰度图像生成器202上,经过空间调制,产生不同灰度等级的灰度图像,并反射到投影光学系统上,此种工作方式为反射式,此类图像生成器主要包括DMD、反射型LCD等反射式空间光调制器;另一种如图2b示,控制器201控制灰度图像生成器202根据需要产生相应的变化,均匀光束入射到灰度图像生成器202上,经过空间调制,产生不同灰度等级的灰度图像,透射到投影光学系统上,此种工作方式为透射式,此类图像生成器主要包括透射型LCD等透射式空间光调制器。通过该系统得到满足矫正人眼高阶像差的所需的微结构的连续灰度图像。
如图3所示,均匀照明系统1由光源301、扩束镜302、光能匀化器303和准直透镜304组成,光源301发射的光束经过扩束镜302后,经光能匀化器303匀化为均匀光,经过准直透镜304后,转化为能量均匀度达到光刻要求的平行光。
如图4所示,投影光学系统3中投影透镜组401由一系列透镜镜头组成,在光学设计中,使其所成像面402为给定曲率半径的球面,这样就可将灰度图像生成系统生成的灰度图像投影到需要曝光的球面材料上。从而解决普通光刻只能在平面上刻蚀图案的缺点。

Claims (5)

1、个性化隐形眼镜定制设备,其特征在于:它由均匀照明系统(1)、灰度图像生成系统(2)、投影光学系统(3)、工件台系统(4)和对准系统(5)组成,均匀照明系统(1)产生经过均匀的平行照明光,该光束通过灰度图像生产系统(2),根据人眼的像差检查的结果生成灰度图像,再通过投影光学系统(3)将灰度图像经过放缩、矫正像场曲率后,成像到给定曲率半径的像面—固定在工件台(4)上,通过对准系统(5)调整到正确位置且已涂光致抗蚀剂的样品表面上,使样品上的光致抗蚀剂按着灰度图形的灰度级曝光,再将曝光后的样品进行显影、刻蚀,即可得到在球面上刻有连续浮雕微结构的器件。
2、根据权利要求1所述的个性化隐形眼镜定制设备,其特征在于:所述的灰度图像生成系统(2)由灰度图像控制器(201)和灰度图像生成器(202)组成,其中灰度图像生成器(202)为反射型空间调制器,灰度图像控制器(201)控制灰度图像生成器(202)根据需要反射面产生相应的变化,均匀光束入射到灰度图像生成器(202)上,经过空间调制产生不同灰度等级的灰度图像,并反射到投影光学系统上。
3、根据权利要求1所述的个性化隐形眼镜定制设备,其特征在于:所述的灰度图像生成系统(2)由灰度图像控制器(201)和灰度图像生成器(202)组成,其中灰度图像生成器(202)为透射型空间调制器,灰度图像控制器(201)控制灰度图像生成器(202)根据需要产生相应的变化,均匀光束入射到灰度图像生成器(202)上,经过空间调制,产生不同灰度等级的灰度图像,透射到投影光学系上,
4、根据权利要求1所述的个性化隐形眼镜定制设备,其特征在于:所述的均匀照明系统(1)由光源(301)、扩束镜(302)、光能匀化器(303)和准直透镜(304)组成,光源(301)发出的光束经过扩束镜(302)扩束后,经光能匀化器(303)将光的能量进行均匀化处理,得到光刻所需的适合均匀度的光,再经过准直透镜(304)将光束准直得到所要求的平行光。
5、根据权利要求4所述的个性化隐形眼镜定制设备,其特征在于:均匀照明系统(1)中的光源(301)为对所选择光刻胶敏感的单色光源,包括激光器、或LED、或汞灯、或氙灯。
CNA2006101130489A 2006-09-08 2006-09-08 个性化隐形眼镜定制设备 Pending CN1916768A (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNA2006101130489A CN1916768A (zh) 2006-09-08 2006-09-08 个性化隐形眼镜定制设备
US11/896,967 US8061841B2 (en) 2006-09-08 2007-09-07 Customizing equipment for individualized contact lenses
EP07017599A EP1897679A1 (en) 2006-09-08 2007-09-07 Apparatus for producing customized contact lenses

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNA2006101130489A CN1916768A (zh) 2006-09-08 2006-09-08 个性化隐形眼镜定制设备

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN1916768A true CN1916768A (zh) 2007-02-21

Family

ID=37737783

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2006101130489A Pending CN1916768A (zh) 2006-09-08 2006-09-08 个性化隐形眼镜定制设备

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8061841B2 (zh)
EP (1) EP1897679A1 (zh)
CN (1) CN1916768A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103625189A (zh) * 2013-11-27 2014-03-12 浙江伟星实业发展股份有限公司 一种浮雕实现装置及其实现方法
CN112790895A (zh) * 2020-12-28 2021-05-14 上海美沃精密仪器股份有限公司 一种人工晶体补偿校正系统及方法

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8317505B2 (en) * 2007-08-21 2012-11-27 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Apparatus for formation of an ophthalmic lens precursor and lens
US8861132B2 (en) 2010-07-06 2014-10-14 International Business Machines Corporation Low friction tape head and system implementing same
US8679733B2 (en) * 2011-01-19 2014-03-25 International Business Machines Corporation Patterning process for small devices
US8872875B2 (en) 2011-08-24 2014-10-28 Palo Alto Research Center Incorporated Single-pass imaging system with anamorphic optical system
US9630424B2 (en) 2011-08-24 2017-04-25 Palo Alto Research Center Incorporated VCSEL-based variable image optical line generator
US9030515B2 (en) 2011-08-24 2015-05-12 Palo Alto Research Center Incorporated Single-pass imaging method using spatial light modulator and anamorphic projection optics
US8520045B2 (en) 2011-08-24 2013-08-27 Palo Alto Research Center Incorporated Single-pass imaging system with spatial light modulator and catadioptric anamorphic optical system
US8670172B2 (en) 2011-08-24 2014-03-11 Palo Alto Research Center Incorporated Variable length imaging method using electronically registered and stitched single-pass imaging
US8405913B2 (en) 2011-08-24 2013-03-26 Palo Alto Research Center Incorporated Anamorphic projection optical system
US8472104B2 (en) 2011-08-24 2013-06-25 Palo Alto Research Center Incorporated Single-pass imaging system using spatial light modulator anamorphic projection optics
US8477403B2 (en) 2011-08-24 2013-07-02 Palo Alto Research Center Incorporated Variable length imaging apparatus using electronically registered and stitched single-pass imaging systems
US8767270B2 (en) 2011-08-24 2014-07-01 Palo Alto Research Center Incorporated Single-pass imaging apparatus with image data scrolling for improved resolution contrast and exposure extent
US8390917B1 (en) 2011-08-24 2013-03-05 Palo Alto Research Center Incorporated Multiple line single-pass imaging using spatial light modulator and anamorphic projection optics
US8502853B2 (en) 2011-08-24 2013-08-06 Palo Alto Research Center Incorporated Single-pass imaging method with image data scrolling for improved resolution contrast and exposure extent
US8791972B2 (en) 2012-02-13 2014-07-29 Xerox Corporation Reflex-type digital offset printing system with serially arranged single-pass, single-color imaging systems
AU2013202155A1 (en) * 2012-03-30 2013-10-17 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Method and apparatus for providing variations of a lower-lid contact surface and under-lid support structures of a translating multifocal contact lens
SG193768A1 (en) * 2012-03-30 2013-10-30 Johnson & Johnson Vision Care Methods and apparatus for forming a translating multifocal contact lens
US9354379B2 (en) 2014-09-29 2016-05-31 Palo Alto Research Center Incorporated Light guide based optical system for laser line generator
CN112297669B (zh) * 2020-10-06 2022-06-07 杨帆 一种接触印相工艺的数码中间底的制作方法
CN114967163A (zh) * 2022-05-17 2022-08-30 嘉兴驭光光电科技有限公司 匀光装置、投射器以及匀光装置的设计方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003282671B8 (en) 2002-10-28 2010-05-27 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Lithographic method for forming mold inserts and molds
US7061591B2 (en) 2003-05-30 2006-06-13 Asml Holding N.V. Maskless lithography systems and methods utilizing spatial light modulator arrays
WO2005005121A2 (en) 2003-07-11 2005-01-20 Koninklijke Philips Electronics N.V. A method of manufacturing a mould for producing an optical surface, a method of producing a contact lens and a device for use with these methods
DE102004008675B4 (de) * 2004-02-20 2009-05-07 Imedos Gmbh Bildgebendes Verfahren zur Erfassung medizinisch relevanter Unterschiede von Strukturen und Eigenschaften eines Untersuchungsobjektes und dazu geeignete Vorrichtung
CN100430031C (zh) 2004-04-26 2008-11-05 中国科学院光电技术研究所 双眼体视高阶像差矫正视觉仿真系统
CN100451734C (zh) 2004-05-24 2009-01-14 中国科学院光电技术研究所 人眼高阶像差矫正方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103625189A (zh) * 2013-11-27 2014-03-12 浙江伟星实业发展股份有限公司 一种浮雕实现装置及其实现方法
CN112790895A (zh) * 2020-12-28 2021-05-14 上海美沃精密仪器股份有限公司 一种人工晶体补偿校正系统及方法
CN112790895B (zh) * 2020-12-28 2022-12-27 上海美沃精密仪器股份有限公司 一种人工晶体补偿校正系统及方法

Also Published As

Publication number Publication date
US8061841B2 (en) 2011-11-22
EP1897679A1 (en) 2008-03-12
US20080062390A1 (en) 2008-03-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1916768A (zh) 个性化隐形眼镜定制设备
US10578973B2 (en) Illumination optical assembly, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5464288B2 (ja) 空間光変調器の検査装置および検査方法
US7936445B2 (en) Altering pattern data based on measured optical element characteristics
TW200928611A (en) Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
WO2007058188A1 (ja) 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
WO2009097746A1 (zh) 基于随机相长干涉的三维显示方法及装置
KR102170864B1 (ko) 동공 휘도 분포의 평가 방법 및 개선 방법, 조명 광학계 및 그 조정 방법, 노광 장치, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법
TW527641B (en) Fabrication method for correcting member, fabrication method for projection optical system, and exposure apparatus
TW200424792A (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
CN1603961A (zh) 光刻装置和器件制造方法
JPWO2009125511A1 (ja) 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2007518592A (ja) 光学表面を生成するための型を製造する方法、コンタクトレンズを生成する方法、及び、このような方法と共に使用するための装置
CN1267787C (zh) 二元光学器件变灰度掩模制作方法及装置
TW200403544A (en) Scanning exposure apparatus and method
JPWO2004077533A1 (ja) 露光装置
CN109085740A (zh) 一种数字光刻系统光强不均匀度的测定及校正方法
WO2010044307A1 (ja) 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2014146660A (ja) 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2009038152A5 (zh)
CN102033299B (zh) 折反射投射物镜
JP6593623B2 (ja) 空間光変調器の設定方法、駆動データの作成方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP2014123600A (ja) オプティカルインテグレータ、照明ユニット、伝送光学系、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
Zhang et al. A gray matching method for cylindrical lens array fabrication based on DMD lithography
JP2014157890A (ja) 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20070221