CN1916768A - 个性化隐形眼镜定制设备 - Google Patents
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Abstract
个性化隐形眼镜定制设备由均匀照明系统、灰度图像生成系统、投影光学系统、工件台系统和对准系统组成,均匀照明系统产生经过均匀的平行照明光,该光束通过灰度图像生产系统,根据人眼的像差检查的结果,通过计算机控制灰度图像生成器生成灰度图像,再通过投影光学系统,将灰度图像经过放缩、矫正像场曲率后,成像到给定曲率半径的像面—固定在工件台上,通过对准系统调整到正确位置且已涂光致抗蚀剂的样品表面上,使样品上的光致抗蚀剂按着灰度图形的灰度级曝光,再将曝光后的样品进行显影、刻蚀,即可得到在球面上刻有连续浮雕微结构的器件,该器件经过后期处理得到能够佩戴的个性化隐形眼镜。本发明实现个性化隐形眼镜的快速定制。
Description
技术领域
本发明涉及一种个性化隐形眼镜的定制设备,是一种通过无掩模光刻技术在球面上刻蚀微结构来制作个性化隐形眼镜的技术装备。
技术背景
人们早就认识到,正常人眼并非完美的屈光系统,存在着一定程度的像差,从而降低了视网膜成像质量,限制视觉敏感度。除球面镜和柱面镜可用框架眼镜、隐形眼镜等器件矫正外,对于彗差和球差等高阶像差,并无准确有效的器件可以矫正。
1962年,Smirnov首次提出眼的高阶像差特征,并指出可通过个体化的透镜矫正人眼像差。David Williams实验室曾经就矫正人眼高级像差做过相应研究,证明如果校掉高阶像差,有助于提高人眼的主观像质(“VisualPerformance after correcting the monochromatic and chromaticaberrations of the eye”Geun-Young Yoon and David R.Williams,J.Opt.Soc.Am.A/Vol.19,No.2/February)。1994年,Liang等首次报道用Hartmann-Shack波前感受器测量人眼屈光系统整体像差(“Objectivemeasurement of wavefront aberrations of the human eye with the use of aShack-Hartmann wavefront sensor”J.Liang,B.Grimm and S.Goelx,etal,J.Opt.Soc.Am.A,1994,11:1949-1957)。中科院光电技术研究所自适应光学实验室在2005年申请了“双眼体视高阶像差矫正视觉仿真系统”的专利(公开号CN 1689538A),在该申请中,其制作出了能够精确测量人眼高阶像差的设备,为矫正人眼高阶像差奠定了基础。随后,中科院光电技术研究所在专利申请“人眼高阶像差矫正方法”(公开号CN 1702494A)中提出了矫正人眼高阶像差的方法。根据对以往矫正人眼高阶像差的各种方法的分析可知,通过个性化眼镜来矫正人眼的像差,无疑是一种最为安全、方便、经济的方法。
但在实际应用中,能够市场化推广的个性化眼镜的制作还存在以下一些问题:
(1)根据检测出各阶像差对矫正的贡献,需要在材料上加工出连续浮雕微结构,而一般的加工方式不易满足要求;
(2)人眼的高阶像差千差万别,矫正高阶像差不像矫正低阶像差那样具有通用性。对高阶像差进行矫正,要针对性的对不同的人眼个体,检测出各阶像差对矫正的贡献,在矫正了低阶像差的系统上通过光学光刻的方法生成连续浮雕微结构,对检测的像差进行补偿,使之变成能够同时矫正低阶像差和高阶像差的个性化系统。而传统的光刻技术的掩模结构固定,灵活性差,价格案昂贵,不满足器件的个性化要求。
因此在加工个性化眼镜中,无掩模光刻技术无疑具有巨大优势。另外,在无掩模光刻技术方面,荷兰ASML公司于2005年取得的发明专利“使用空间光调制器阵列的无掩模光刻系统与方法”(公开号CN 1573561A),在该专利中,他们应用空间光调制器阵列,将入射均匀光进行振幅调制,得到相应的灰度图像,并将其投影到平面目标物(包括半导体晶片、玻璃基片等)上,完成曝光。然而,由于制得的隐形眼镜需要贴眼球佩戴,且还需考虑普通屈光度的矫正,因此该眼镜必须是球面结构,这就要求连续浮雕微结构刻蚀在球面上而不是通常光刻的平面,而ASML公司的该项专利技术无法解决球面投影曝光的问题。
发明内容
本发明解决的技术问题是:提供一种个性化隐形眼镜定制设备,该设备很好地解决了球面投影曝光的问题,而且通过已测得的人眼高阶像差数据,来根据每个人的具体情况,制作高质量的个性化隐形眼镜,改善了人眼的成像质量,同时成本较为低廉。
本发明的技术方案是:个性化隐形眼镜定制设备,其特征在于:它由均匀照明系统、灰度图像生成系统、投影光学系统、工件台系统和对准系统组成,均匀照明系统产生经过均匀的平行照明光,该光束通过灰度图像生产系统,根据人眼的像差检查的结果,通过计算机控制灰度图像生成器生成灰度图像,再通过投影光学系统,将灰度图像经过放缩、矫正像场曲率后,成像到给定曲率半径的像面—固定在工件台上,通过对准系统调整到正确位置且已涂光致抗蚀剂的样品表面上,使样品上的光致抗蚀剂按着灰度图形的灰度级曝光,再将曝光后的样品进行显影、刻蚀,即可得到在球面上刻有连续浮雕微结构的器件。该器件经过检测合格后,经过后期处理得到能够佩戴的个性化隐形眼镜。
本发明的有益效果是:本发明与现有技术相比,本发明将无掩模光刻技术应用于个性化隐形眼镜的制作中,取消了普通光学光刻中的掩模,能够灵活的根据每个人矫正高阶像差而需要的不同结构进行制作;在光刻中,根据眼镜外形特征的需要,将图像曝光在球面上,而非传统的平面上。本设备结构简单、可靠,加工出来的个性化眼镜质量可靠,成本低,使其具有了进行大规模市场推广的前景。
附图说明
图1为本发明的结构示意图;
图2为图1中灰度图像生成系统结构示意图;
图3为图1中均匀照明系统结构示意图;
图4为图1中灰度图像投影示意图。
具体实施例
如图1所示,本发明由均匀照明系统1、灰度图像生产系统2、投影光学系统3、工件台系统4和对准系统5组成,均匀照明系统1产生经过均匀的平行照明光,该光束通过灰度图像生产系统2,根据人眼的像差检查的结果,通过计算机控制灰度图像生成器生成灰度图像,再通过投影光学系统3,将灰度图像经过放缩、矫正像场曲率后,成像到给定曲率半径的像面—固定在工件台4上,通过对准系统5调整到正确位置且已涂光致抗蚀剂的样品表面上,使样品上的光致抗蚀剂按着灰度图形的灰度级曝光,再将曝光后的样品进行显影、刻蚀,即可得到在球面上刻有连续浮雕微结构的器件。
如图2所示,灰度图像生成系统2由灰度图像控制器201和灰度图像生成器202组成,根据灰度图像生成器202的工作方式的不同,可以将此系统的工作方式分为两种,一种如图2a所示,控制器201控制灰度图像生成器202根据需要反射面产生相应的变化,均匀光束入射到灰度图像生成器202上,经过空间调制,产生不同灰度等级的灰度图像,并反射到投影光学系统上,此种工作方式为反射式,此类图像生成器主要包括DMD、反射型LCD等反射式空间光调制器;另一种如图2b示,控制器201控制灰度图像生成器202根据需要产生相应的变化,均匀光束入射到灰度图像生成器202上,经过空间调制,产生不同灰度等级的灰度图像,透射到投影光学系统上,此种工作方式为透射式,此类图像生成器主要包括透射型LCD等透射式空间光调制器。通过该系统得到满足矫正人眼高阶像差的所需的微结构的连续灰度图像。
如图3所示,均匀照明系统1由光源301、扩束镜302、光能匀化器303和准直透镜304组成,光源301发射的光束经过扩束镜302后,经光能匀化器303匀化为均匀光,经过准直透镜304后,转化为能量均匀度达到光刻要求的平行光。
如图4所示,投影光学系统3中投影透镜组401由一系列透镜镜头组成,在光学设计中,使其所成像面402为给定曲率半径的球面,这样就可将灰度图像生成系统生成的灰度图像投影到需要曝光的球面材料上。从而解决普通光刻只能在平面上刻蚀图案的缺点。
Claims (5)
1、个性化隐形眼镜定制设备,其特征在于:它由均匀照明系统(1)、灰度图像生成系统(2)、投影光学系统(3)、工件台系统(4)和对准系统(5)组成,均匀照明系统(1)产生经过均匀的平行照明光,该光束通过灰度图像生产系统(2),根据人眼的像差检查的结果生成灰度图像,再通过投影光学系统(3)将灰度图像经过放缩、矫正像场曲率后,成像到给定曲率半径的像面—固定在工件台(4)上,通过对准系统(5)调整到正确位置且已涂光致抗蚀剂的样品表面上,使样品上的光致抗蚀剂按着灰度图形的灰度级曝光,再将曝光后的样品进行显影、刻蚀,即可得到在球面上刻有连续浮雕微结构的器件。
2、根据权利要求1所述的个性化隐形眼镜定制设备,其特征在于:所述的灰度图像生成系统(2)由灰度图像控制器(201)和灰度图像生成器(202)组成,其中灰度图像生成器(202)为反射型空间调制器,灰度图像控制器(201)控制灰度图像生成器(202)根据需要反射面产生相应的变化,均匀光束入射到灰度图像生成器(202)上,经过空间调制产生不同灰度等级的灰度图像,并反射到投影光学系统上。
3、根据权利要求1所述的个性化隐形眼镜定制设备,其特征在于:所述的灰度图像生成系统(2)由灰度图像控制器(201)和灰度图像生成器(202)组成,其中灰度图像生成器(202)为透射型空间调制器,灰度图像控制器(201)控制灰度图像生成器(202)根据需要产生相应的变化,均匀光束入射到灰度图像生成器(202)上,经过空间调制,产生不同灰度等级的灰度图像,透射到投影光学系上,
4、根据权利要求1所述的个性化隐形眼镜定制设备,其特征在于:所述的均匀照明系统(1)由光源(301)、扩束镜(302)、光能匀化器(303)和准直透镜(304)组成,光源(301)发出的光束经过扩束镜(302)扩束后,经光能匀化器(303)将光的能量进行均匀化处理,得到光刻所需的适合均匀度的光,再经过准直透镜(304)将光束准直得到所要求的平行光。
5、根据权利要求4所述的个性化隐形眼镜定制设备,其特征在于:均匀照明系统(1)中的光源(301)为对所选择光刻胶敏感的单色光源,包括激光器、或LED、或汞灯、或氙灯。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNA2006101130489A CN1916768A (zh) | 2006-09-08 | 2006-09-08 | 个性化隐形眼镜定制设备 |
US11/896,967 US8061841B2 (en) | 2006-09-08 | 2007-09-07 | Customizing equipment for individualized contact lenses |
EP07017599A EP1897679A1 (en) | 2006-09-08 | 2007-09-07 | Apparatus for producing customized contact lenses |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNA2006101130489A CN1916768A (zh) | 2006-09-08 | 2006-09-08 | 个性化隐形眼镜定制设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1916768A true CN1916768A (zh) | 2007-02-21 |
Family
ID=37737783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNA2006101130489A Pending CN1916768A (zh) | 2006-09-08 | 2006-09-08 | 个性化隐形眼镜定制设备 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8061841B2 (zh) |
EP (1) | EP1897679A1 (zh) |
CN (1) | CN1916768A (zh) |
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US9030515B2 (en) | 2011-08-24 | 2015-05-12 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging method using spatial light modulator and anamorphic projection optics |
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US8472104B2 (en) | 2011-08-24 | 2013-06-25 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging system using spatial light modulator anamorphic projection optics |
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2007
- 2007-09-07 EP EP07017599A patent/EP1897679A1/en not_active Withdrawn
- 2007-09-07 US US11/896,967 patent/US8061841B2/en not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20070221 |