JP2015108846A - セルロースエステルフィルム - Google Patents
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Abstract
【課題】光学的等方性、特に膜厚方向の光学的等方性に優れたセルロースエステルフィルム、その製造方法、表示装置用偏光板及び表示装置を提供する。【解決手段】下記式（Ｉ）で表される面配向度Ｓが０．０００４以下であり、且つ、膜厚方向のリタデーションＲｔが１０ｎｍ未満であるセルロースエステルフィルム。式（Ｉ）Ｓ＝（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−ＮｚＲｔ＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）?ｄＮｘはセルロースエステルフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙは遅相軸方向に対し直角な方向のフィルム面内の屈折率、Ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはセルロースエステルフィルムの膜厚（ｎｍ）を表す。【選択図】図１
Description
本発明は、セルロースエステルフィルム（以下、単にフィルムともいう）、その製造方
法、偏光板及び表示装置に関するものである。
法、偏光板及び表示装置に関するものである。
液晶表示装置は、低電圧、低消費電力で、ＩＣ回路への直結が可能であり、そして、特
に、薄型化が可能であることから、ワードプロセッサやパーソナルコンピュータ等の表示
装置として広く採用されている。この液晶表示装置は、基本的な構成は、例えば液晶セル
の両側に偏光板を設けたものである。
に、薄型化が可能であることから、ワードプロセッサやパーソナルコンピュータ等の表示
装置として広く採用されている。この液晶表示装置は、基本的な構成は、例えば液晶セル
の両側に偏光板を設けたものである。
このような液晶表示装置において、コントラスト等の観点から、ツイスト角が９０度の
ツイステッドネマティック（ＴＮ）を用いた液晶表示装置からツイスト角が１６０度以上
のスーパーツイステッドネマティック（ＳＴＮ）を用いた液晶表示装置などが提案されて
きている。
ツイステッドネマティック（ＴＮ）を用いた液晶表示装置からツイスト角が１６０度以上
のスーパーツイステッドネマティック（ＳＴＮ）を用いた液晶表示装置などが提案されて
きている。
これらの液晶表示装置では視野角を拡大することが重要な課題となっており、液晶セル
の設計、駆動方式あるいは様々な光学補償フィルムを用いた方法等が提案されており、こ
れらに用いられる光学フィルムへの要求はますます厳しくなってきている。
の設計、駆動方式あるいは様々な光学補償フィルムを用いた方法等が提案されており、こ
れらに用いられる光学フィルムへの要求はますます厳しくなってきている。
例えば、偏光板保護フィルムとしてセルロースアセテートフィルムが、光学的等方性に
優れており広く用いられている。しかしながら、液晶セルを設計する上で、より光学的等
方性に優れた光学フィルムが求められていた。特に面内方向だけでなく膜厚方向について
もより光学的等方性に優れた光学フィルムが求められているのである。
優れており広く用いられている。しかしながら、液晶セルを設計する上で、より光学的等
方性に優れた光学フィルムが求められていた。特に面内方向だけでなく膜厚方向について
もより光学的等方性に優れた光学フィルムが求められているのである。
本発明の目的は、光学的等方性、特に膜厚方向の光学的等方性に優れたセルロースエス
テルフィルムを提供することであり、そのセルロースエステルフィルムの製造方法、表示
装置用偏光板及び表示装置を提供することにある。
テルフィルムを提供することであり、そのセルロースエステルフィルムの製造方法、表示
装置用偏光板及び表示装置を提供することにある。
本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。
１．下記式（Ｉ）で表される面配向度Ｓが０．０００４以下であり、且つ、膜厚方向の
リタデーションＲｔが１０ｎｍ未満であることを特徴とするセルロースエステルフィルム
。
リタデーションＲｔが１０ｎｍ未満であることを特徴とするセルロースエステルフィルム
。
式（Ｉ）
Ｓ＝（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ
Ｒｔ＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄ
式中、Ｎｘはセルロースエステルフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙは遅相軸方
向に対し直角な方向のフィルム面内の屈折率、Ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄは
セルロースエステルフィルムの膜厚（ｎｍ）を表す。
Ｓ＝（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ
Ｒｔ＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄ
式中、Ｎｘはセルロースエステルフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙは遅相軸方
向に対し直角な方向のフィルム面内の屈折率、Ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄは
セルロースエステルフィルムの膜厚（ｎｍ）を表す。
２．前記膜厚方向のリタデーションＲｔが８ｎｍ未満であることを特徴とする１に記載
のセルロースエステルフィルム。
のセルロースエステルフィルム。
３．前記面配向度Ｓが０．００００１〜０．０００４であることを特徴とする１又は２
に記載のセルロースエステルフィルム。
に記載のセルロースエステルフィルム。
４．下記式で表される面内リタデーションＲｏが２０ｎｍ未満であることを特徴とする
１〜３の何れか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
１〜３の何れか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
式
Ｒｏ＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ
式中、Ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙは遅相軸方向に対し直角な方向
のフィルム面内の屈折率であり、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）である。
Ｒｏ＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ
式中、Ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙは遅相軸方向に対し直角な方向
のフィルム面内の屈折率であり、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）である。
５．前記面内リタデーションＲｏが１０ｎｍ未満であることを特徴とする４に記載のセ
ルロースエステルフィルム。
ルロースエステルフィルム。
６．前記面内リタデーションＲｏが５ｎｍ未満であることを特徴とする５に記載のセル
ロースエステルフィルム。
ロースエステルフィルム。
７．前記面内リタデーションＲｏが０〜１ｎｍであることを特徴とする６に記載のセル
ロースエステルフィルム。
ロースエステルフィルム。
８．分子内に複数の環状構造を有する化合物をセルロースエステルに対して１０質量％
以上含有することを特徴とする１〜７の何れか１項に記載のセルロースエステルフィルム
。
以上含有することを特徴とする１〜７の何れか１項に記載のセルロースエステルフィルム
。
９．前記分子内に複数の環状構造を有する化合物をセルロースエステルに対して１５質
量％以上含有することを特徴とする８に記載のセルロースエステルフィルム。
量％以上含有することを特徴とする８に記載のセルロースエステルフィルム。
１０．前記分子内に複数の環状構造を有する化合物の分子量が３０００以下であること
を特徴とする８又は９に記載のセルロースエステルフィルム。
を特徴とする８又は９に記載のセルロースエステルフィルム。
１１．前記分子内に複数の環状構造を有する化合物の分子量が２５０以上２０００以下
であることを特徴とする１０に記載のセルロースエステルフィルム。
であることを特徴とする１０に記載のセルロースエステルフィルム。
１２．前記セルロースエステルフィルムが微粒子を含有し、該微粒子の１次平均粒子径
が２０ｎｍ以下であり、且つ、見掛け比重が７０ｇ／リットル以上であることを特徴とす
る１〜１１の何れか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
が２０ｎｍ以下であり、且つ、見掛け比重が７０ｇ／リットル以上であることを特徴とす
る１〜１１の何れか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
１３．前記セルロースエステルフィルムに使用するセルロースエステルの総置換度が２
．８５以上３．００以下のセルロースエステルであることを特徴とする１〜１２の何れか
１項に記載のセルロースエステルフィルム。
．８５以上３．００以下のセルロースエステルであることを特徴とする１〜１２の何れか
１項に記載のセルロースエステルフィルム。
１４．前記セルロースエステルフィルムの膜厚が１０μｍ以上６０μｍ以下であること
を特徴とする１〜１３の何れか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
を特徴とする１〜１３の何れか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
１５．偏光膜の少なくとも一方の側面に１〜１４の何れか１項に記載のセルロースエス
テルフィルムを貼り合せたことを特徴とする偏光板。
テルフィルムを貼り合せたことを特徴とする偏光板。
１６．液晶セルの少なくとも一方の側面に１５に記載の偏光板を貼り合せたことを特徴
とする表示装置。
とする表示装置。
本発明により、光学的等方性、特に膜厚方向の光学的等方性に優れたセルロースエステ
ルフィルム、その製造方法、表示装置用偏光板及び表示装置を提供することができた。
ルフィルム、その製造方法、表示装置用偏光板及び表示装置を提供することができた。
本発明を更に詳しく説明する。
本発明では、セルロースエステルとしては、低級脂肪酸エステルが好ましく、セルロー
スアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート
、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレート等が好ましく用いられる。本発
明で用いられるセルロースエステルは置換度が２．８５〜３．００であることが面配向度
がより低く維持できるため好ましく、特に２．９２〜３．００であることが好ましい。
スアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート
、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレート等が好ましく用いられる。本発
明で用いられるセルロースエステルは置換度が２．８５〜３．００であることが面配向度
がより低く維持できるため好ましく、特に２．９２〜３．００であることが好ましい。
アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定すること
が出来る。
が出来る。
重合度は２５０〜４００であるセルロースエステルが好ましく用いられ、特にセルロー
ストリアセテートが好ましく用いられる。本発明に係るセルロースエステルの数平均分子
量Ｍｎは、７０，０００〜２５０，０００が、機械的強度に優れ、且つ、適度なドープ粘
度となり好ましく、更に好ましくは、８０，０００〜１５０，０００である。又、重量平
均分子量Ｍｗとの比Ｍｗ／Ｍｎは１．０〜５．０のセルロースエステルが好ましく用いら
れる。
ストリアセテートが好ましく用いられる。本発明に係るセルロースエステルの数平均分子
量Ｍｎは、７０，０００〜２５０，０００が、機械的強度に優れ、且つ、適度なドープ粘
度となり好ましく、更に好ましくは、８０，０００〜１５０，０００である。又、重量平
均分子量Ｍｗとの比Ｍｗ／Ｍｎは１．０〜５．０のセルロースエステルが好ましく用いら
れる。
セルロースエステルは綿花リンターから合成されたセルロースエステルと木材パルプか
ら合成されたセルロースエステルのどちらかを単独あるいは混合して用いることができる
。ベルトやドラムからの剥離性が良い綿花リンターから合成されたセルロースエステルを
多く使用した方が生産性効率が高く好ましい。綿花リンターから合成されたセルロースエ
ステルの比率が６０質量％以上が、剥離性の効果が顕著になるため好ましく、より好まし
くは８５質量％以上、更には、単独で使用することが最も好ましい。
ら合成されたセルロースエステルのどちらかを単独あるいは混合して用いることができる
。ベルトやドラムからの剥離性が良い綿花リンターから合成されたセルロースエステルを
多く使用した方が生産性効率が高く好ましい。綿花リンターから合成されたセルロースエ
ステルの比率が６０質量％以上が、剥離性の効果が顕著になるため好ましく、より好まし
くは８５質量％以上、更には、単独で使用することが最も好ましい。
本発明のフィルムの材料を溶解してドープを形成する溶媒としては、セルロースエステ
ルを溶解でき、かつ、適度な沸点であることが好ましく、例えばメチレンクロライド、酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソ
ラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロ
エタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ
−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロ
パノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，
３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、１，３−ジメチル−２−イ
ミダゾリジノン等を挙げることが出来るが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物
、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン等が好ましい有機溶媒（即ち
、良溶媒）として挙げられる。
ルを溶解でき、かつ、適度な沸点であることが好ましく、例えばメチレンクロライド、酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソ
ラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロ
エタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ
−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロ
パノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，
３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、１，３−ジメチル−２−イ
ミダゾリジノン等を挙げることが出来るが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物
、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン等が好ましい有機溶媒（即ち
、良溶媒）として挙げられる。
また、下記の製膜工程に示すように、溶媒蒸発工程において支持体上に形成されたウェ
ブ（ドープ膜）から溶媒を乾燥させるときに、ウェブ中の発泡を防止する観点から、用い
られる有機溶媒の沸点としては、３０〜８０℃が好ましく、例えば、上記記載の良溶媒の
沸点は、メチレンクロライド（沸点４０．４℃）、酢酸メチル（沸点５６．３２℃）、ア
セトン（５６．３℃）、酢酸エチル（７６．８２℃）等である。
ブ（ドープ膜）から溶媒を乾燥させるときに、ウェブ中の発泡を防止する観点から、用い
られる有機溶媒の沸点としては、３０〜８０℃が好ましく、例えば、上記記載の良溶媒の
沸点は、メチレンクロライド（沸点４０．４℃）、酢酸メチル（沸点５６．３２℃）、ア
セトン（５６．３℃）、酢酸エチル（７６．８２℃）等である。
上記記載の良溶媒の中でも溶解性に優れるメチレンクロライド、酢酸メチルが好ましく
用いられ、特にメチレンクロライドが全有機溶媒に対して５０質量％以上含まれているこ
とが好ましい。
用いられ、特にメチレンクロライドが全有機溶媒に対して５０質量％以上含まれているこ
とが好ましい。
上記有機溶媒の他に、０．１〜３０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させ
ることが好ましい。特に好ましくは５〜３０質量％で前記アルコールが含まれることが好
ましい。
ることが好ましい。特に好ましくは５〜３０質量％で前記アルコールが含まれることが好
ましい。
これらは上記記載のドープを流延用支持体に流延後、溶媒が蒸発を始めアルコールの比
率が多くなるとウェブ（ドープ膜）がゲル化し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離
することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらが割合が少ない時は非塩素
系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。
率が多くなるとウェブ（ドープ膜）がゲル化し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離
することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらが割合が少ない時は非塩素
系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。
炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール
、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール
等を挙げることが出来る。
、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール
等を挙げることが出来る。
これらのうちドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、且つ毒性がないこと
等からエタノールが好ましい。更に、好ましくはメチレンクロライド７０〜９５質量％に
対してエタノール５〜３０質量％を含む溶媒を用いることである。メチレンクロライドの
代わりに酢酸メチルを用いることもできる。
等からエタノールが好ましい。更に、好ましくはメチレンクロライド７０〜９５質量％に
対してエタノール５〜３０質量％を含む溶媒を用いることである。メチレンクロライドの
代わりに酢酸メチルを用いることもできる。
ドープ中のセルロースエステルの濃度は１７〜３５質量％が好ましく、特に２０〜３０
質量％が好ましい。濃度が高すぎると得られるフィルムの表面の平滑性が悪くなる傾向が
あり、濃度が薄すぎると面配向度Ｓが高くなる傾向があり、０．００００１〜０．０００
４のフィルムを得ることが困難となる。
質量％が好ましい。濃度が高すぎると得られるフィルムの表面の平滑性が悪くなる傾向が
あり、濃度が薄すぎると面配向度Ｓが高くなる傾向があり、０．００００１〜０．０００
４のフィルムを得ることが困難となる。
上記記載のセルロースエステルと有機溶媒を用いて、次のように製膜を行う。なお、本
発明において、セルロースエステル溶液のことをセルロースエステルドープまたは単にド
ープという。
発明において、セルロースエステル溶液のことをセルロースエステルドープまたは単にド
ープという。
本発明のセルロースエステルフィルムの製造方法に用いられる製膜工程は、下記に示す
溶解工程、流延工程、溶媒蒸発工程、剥離工程、乾燥工程及び巻き取り工程からなる。以
下に各々の工程を説明する。
溶解工程、流延工程、溶媒蒸発工程、剥離工程、乾燥工程及び巻き取り工程からなる。以
下に各々の工程を説明する。
《溶解工程》
セルロースエステルのフレークに、上記記載の良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中で
該フレークを攪拌しながら溶解し、ドープを形成する工程である。
セルロースエステルのフレークに、上記記載の良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中で
該フレークを攪拌しながら溶解し、ドープを形成する工程である。
本発明では、ドープ中の固形分濃度は１７質量％以上に調整することが好ましく、特に
２０質量％以上であると得られるフィルムの面配向度をより低減できるため好ましい。尚
、本発明でいうドープ中の固形分とは、本発明のセルロースエステルフィルムを製造する
際、乾燥工程で除かれる低沸点溶媒成分を除くドープ中の成分を言うので、ドープ中の固
形分濃度とは、これら乾燥工程後もフィルム中に残存する成分のドープ溶液全体に対する
質量％をさす。
２０質量％以上であると得られるフィルムの面配向度をより低減できるため好ましい。尚
、本発明でいうドープ中の固形分とは、本発明のセルロースエステルフィルムを製造する
際、乾燥工程で除かれる低沸点溶媒成分を除くドープ中の成分を言うので、ドープ中の固
形分濃度とは、これら乾燥工程後もフィルム中に残存する成分のドープ溶液全体に対する
質量％をさす。
ドープ中の固形分濃度が高すぎるとドープの粘度が高くなりすぎ、流延時にシャークス
キンなどが生じてフィルム平面性が劣化する場合があるので、３５質量％未満であること
が望ましい。
キンなどが生じてフィルム平面性が劣化する場合があるので、３５質量％未満であること
が望ましい。
ドープ粘度は５〜１００Ｐａ・ｓの範囲であることが好ましく、１０〜５０Ｐａ・ｓの
範囲に調整されていることが好ましい。
範囲に調整されていることが好ましい。
溶解には、常圧で行う方法、上記記載のような好ましい有機溶媒（即ち、良溶媒）の沸
点以下で行う方法、上記記載の良溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、冷却溶解法で行う
方法、高圧で行う方法等種々の溶解方法等がある。良溶媒の沸点以上の温度で、かつ沸騰
しない圧力をかけて溶解する方法としては、４０．４〜１２０℃で０．１１〜１．５０Ｍ
Ｐａに加圧することで発泡を抑え、かつ、短時間に溶解することができる。
点以下で行う方法、上記記載の良溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、冷却溶解法で行う
方法、高圧で行う方法等種々の溶解方法等がある。良溶媒の沸点以上の温度で、かつ沸騰
しない圧力をかけて溶解する方法としては、４０．４〜１２０℃で０．１１〜１．５０Ｍ
Ｐａに加圧することで発泡を抑え、かつ、短時間に溶解することができる。
本発明に係る溶解工程において用いられる溶媒としては、単独でも併用でもよいが、良
溶剤と貧溶剤を混合して使用することが、生産効率の点で好ましく、更に好ましくは、良
溶剤と貧溶剤の混合比率は良溶剤が７０〜９５質量％であり、貧溶剤が３０〜５質量％で
ある。
溶剤と貧溶剤を混合して使用することが、生産効率の点で好ましく、更に好ましくは、良
溶剤と貧溶剤の混合比率は良溶剤が７０〜９５質量％であり、貧溶剤が３０〜５質量％で
ある。
本発明に用いられる良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解す
るものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。その
ため、セルロースエステルの結合酢酸量によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばア
セトンを溶剤として用いるときには、セルロースエステルの結合酢酸量５５％では良溶剤
になり、結合酢酸量６０％では貧溶剤となってしまう。
るものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。その
ため、セルロースエステルの結合酢酸量によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばア
セトンを溶剤として用いるときには、セルロースエステルの結合酢酸量５５％では良溶剤
になり、結合酢酸量６０％では貧溶剤となってしまう。
また、セルロースエステルを溶解する際に、まず、良溶剤と貧溶剤の一部を用いて、先
にセルロースエステルを溶解した後、後から残りの貧溶剤を添加する事も出来る。本発明
に用いられる貧溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シク
ロヘキサン等が好ましく用いられる。
にセルロースエステルを溶解した後、後から残りの貧溶剤を添加する事も出来る。本発明
に用いられる貧溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シク
ロヘキサン等が好ましく用いられる。
冷却溶解方法としては、例えば特開平９−９５５３８号、同９−９５５４４号、同９−
９５５５７号に記載の方法を使用することが出来る。また、特開平１１−２１３７９号に
記載の高圧溶解方法も好ましく使用出来る。
９５５５７号に記載の方法を使用することが出来る。また、特開平１１−２１３７９号に
記載の高圧溶解方法も好ましく使用出来る。
溶解後ドープを濾材で濾過し、脱泡してポンプで次工程に送ることが好ましく、また、
その際、ドープ中には、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、マット剤、微粒子等
も添加されることがある。
その際、ドープ中には、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、マット剤、微粒子等
も添加されることがある。
これらの化合物は、セルロースエステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒
と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
本発明の面配向度Ｓが０．０００４以下、特に０．００００１〜０．０００４であるフ
ィルムを得るためには分子内に複数の環状構造を有する化合物をセルロースエステルに対
して１０質量％以上含有させることが特に好ましい。好ましくは、１５質量％以上含有さ
せることが好ましい。これらの化合物は単独で１０質量％以上含有させることが好ましい
が、複数の化合物を添加する場合は添加量全体として１０質量％以上であってもよい。
ィルムを得るためには分子内に複数の環状構造を有する化合物をセルロースエステルに対
して１０質量％以上含有させることが特に好ましい。好ましくは、１５質量％以上含有さ
せることが好ましい。これらの化合物は単独で１０質量％以上含有させることが好ましい
が、複数の化合物を添加する場合は添加量全体として１０質量％以上であってもよい。
添加する化合物は分子量が３０００以下の化合物であることが好ましく、特に２５０〜
２０００以下の化合物であることが好ましい。環状構造に関して、環の大きさについて特
に制限はないが、３〜８個の原子から構成されていることが好ましく、特に６員環及び／
又は５員環であることが好ましい。これらが炭素、酸素、窒素、珪素あるいは他の原子を
含んでいてもよく、環の結合の一部が不飽和結合であってもよく、例えば６員環がベンゼ
ン環、シクロヘキサン環でもよい。本発明の化合物は、このような環状構造が複数含まれ
ているものであり、例えば、ベンゼン環とシクロヘキサン環をどちらも分子内に有してい
たり、２個のシクロヘキサン環を有していたり、ナフタレンの誘導体あるいはアントラセ
ン等の誘導体であってもよい。より好ましくはこのような環状構造を分子内に３個以上含
んでいる化合物であることが好ましい。また、少なくとも環状構造の１つの結合が不飽和
結合を含まないものであることが好ましい。
２０００以下の化合物であることが好ましい。環状構造に関して、環の大きさについて特
に制限はないが、３〜８個の原子から構成されていることが好ましく、特に６員環及び／
又は５員環であることが好ましい。これらが炭素、酸素、窒素、珪素あるいは他の原子を
含んでいてもよく、環の結合の一部が不飽和結合であってもよく、例えば６員環がベンゼ
ン環、シクロヘキサン環でもよい。本発明の化合物は、このような環状構造が複数含まれ
ているものであり、例えば、ベンゼン環とシクロヘキサン環をどちらも分子内に有してい
たり、２個のシクロヘキサン環を有していたり、ナフタレンの誘導体あるいはアントラセ
ン等の誘導体であってもよい。より好ましくはこのような環状構造を分子内に３個以上含
んでいる化合物であることが好ましい。また、少なくとも環状構造の１つの結合が不飽和
結合を含まないものであることが好ましい。
これらの化合物は、セルロースエステルに対して１０質量％添加した場合、未添加のセ
ルロースエステルに対してガラス転移点Ｔｇの低下が２５℃未満である化合物であること
が、面配向度の低減効果の点で好ましく、更にＴｇの低下が２０℃未満であることが好ま
しく、１５℃未満であることが特に好ましい。１０質量％添加したときにＴｇの低下が２
０℃未満であると、製膜工程で不要な延伸が抑制され、膜厚が６０μｍ未満の薄膜フィル
ムであっても面内のリタデーションが低くできるため、光学的等方性に優れたフィルムを
得る上でも特に好ましい。
ルロースエステルに対してガラス転移点Ｔｇの低下が２５℃未満である化合物であること
が、面配向度の低減効果の点で好ましく、更にＴｇの低下が２０℃未満であることが好ま
しく、１５℃未満であることが特に好ましい。１０質量％添加したときにＴｇの低下が２
０℃未満であると、製膜工程で不要な延伸が抑制され、膜厚が６０μｍ未満の薄膜フィル
ムであっても面内のリタデーションが低くできるため、光学的等方性に優れたフィルムを
得る上でも特に好ましい。
又、これらの化合物を添加してもフィルムのヘイズが膜厚６０μｍ換算で１．０％未満
、特に０．１％未満であることが好ましい。
、特に０．１％未満であることが好ましい。
このような面配向度を低減させるための化合物としては、具体的には、アビエチン酸、
デヒドロアビエチン酸、パラストリン酸、ＫＥ−６０４（荒川化学製）、ＫＥ−８５（荒
川化学製）、アラルダイドＥＰＮ１１３９（旭チバ（株）製）、アラルダイドＧＹ２６０
（旭チバ（株）製）等の樹脂オリゴマー等が挙げられる。又、下記（化３）に示すケトン
樹脂、ハイラック１１０Ｈ（日立化成（株）製）、ハイラック１１１（日立化成（株）製
）等も好ましく用いることが出来る。以下にこれら化合物の化学式を示すが、添加により
面配向度が０．０００２以上低下するものであれば、特にこれらに限定されるものではな
い。
デヒドロアビエチン酸、パラストリン酸、ＫＥ−６０４（荒川化学製）、ＫＥ−８５（荒
川化学製）、アラルダイドＥＰＮ１１３９（旭チバ（株）製）、アラルダイドＧＹ２６０
（旭チバ（株）製）等の樹脂オリゴマー等が挙げられる。又、下記（化３）に示すケトン
樹脂、ハイラック１１０Ｈ（日立化成（株）製）、ハイラック１１１（日立化成（株）製
）等も好ましく用いることが出来る。以下にこれら化合物の化学式を示すが、添加により
面配向度が０．０００２以上低下するものであれば、特にこれらに限定されるものではな
い。
尚、ＫＥ−８５は、アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸、パラストリン酸の混合物で
ある。
ある。
面配向度Ｓが低くなる理由は明確にはなっていないが、これらの化合物が添加されるこ
とによって、流延されたセルロースエステルの配向が妨害されるため、面配向度Ｓを低く
することができるものと考えられる。
とによって、流延されたセルロースエステルの配向が妨害されるため、面配向度Ｓを低く
することができるものと考えられる。
これらの化合物は、セルロースエステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒
と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
また液晶表示装置用には耐熱耐湿性を付与する可塑剤、或いは酸化防止剤や紫外線吸収
剤、マット剤などを添加することが好ましい。
剤、マット剤などを添加することが好ましい。
上記酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、２，
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコー
ル−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒド
ロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−
ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等が挙げられる。特に２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−
（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい
。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコー
ル−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒド
ロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−
ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等が挙げられる。特に２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−
（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい
。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
これらの化合物の添加量は、セルロースエステルに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０
％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。
％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。
また、この他、カオリン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム
、酸化チタン、アルミナ等の無機微粒子、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類
金属の塩などの熱安定剤を加えてもよい。
、酸化チタン、アルミナ等の無機微粒子、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類
金属の塩などの熱安定剤を加えてもよい。
更に帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤等も加えることができる。
《流延工程》
ドープを加圧型定量ギヤポンプを通して加圧ダイに送液し、流延位置において、無限に
移送する無端の金属ベルトあるいは回転する金属ドラムの流延用支持体（以降、単に支持
体ということもある）上に加圧ダイからドープを流延する工程である。流延用支持体の表
面は鏡面となっている。
ドープを加圧型定量ギヤポンプを通して加圧ダイに送液し、流延位置において、無限に
移送する無端の金属ベルトあるいは回転する金属ドラムの流延用支持体（以降、単に支持
体ということもある）上に加圧ダイからドープを流延する工程である。流延用支持体の表
面は鏡面となっている。
その他の流延する方法は流延されたドープ膜をブレードで膜厚を調節するドクターブレ
ード法、あるいは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があ
るが、口金部分のスリット形状を調製出来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加
圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があるが、何れも好ましく用いられる。
ード法、あるいは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があ
るが、口金部分のスリット形状を調製出来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加
圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があるが、何れも好ましく用いられる。
製膜速度を上げるために加圧ダイを流延用支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割し
て重層してもよい。
て重層してもよい。
このように、得られたドープをベルト又はドラム等の支持体上に流延し、製膜するが、
本発明は特にベルトを用いた溶液流延法で特に有効である。これは後述のように支持体上
での乾燥条件を細かく調整することが容易であるからである。ベルトは１周４０〜１５０
ｍの長さのものが好ましく用いられる。
本発明は特にベルトを用いた溶液流延法で特に有効である。これは後述のように支持体上
での乾燥条件を細かく調整することが容易であるからである。ベルトは１周４０〜１５０
ｍの長さのものが好ましく用いられる。
《溶媒蒸発工程》
ウェブ（本発明においては、流延用支持体上にドープを流延し、形成されたドープ膜を
ウェブと呼ぶ）を流延用支持体上で加熱し溶媒を蒸発させる工程である。溶媒を蒸発させ
るには、ウェブ側から風を吹かせる方法及び／または支持体の裏面から液体により伝熱さ
せる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱の方法が乾燥効
率が好ましい。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。
ウェブ（本発明においては、流延用支持体上にドープを流延し、形成されたドープ膜を
ウェブと呼ぶ）を流延用支持体上で加熱し溶媒を蒸発させる工程である。溶媒を蒸発させ
るには、ウェブ側から風を吹かせる方法及び／または支持体の裏面から液体により伝熱さ
せる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱の方法が乾燥効
率が好ましい。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。
本発明では、流延用支持体上で乾燥されているウェブの残留溶媒量が２００質量％から
１２０質量％の範囲にある時間は２０秒未満であることが低い面配向度のフィルムを得る
ために好ましい。さらに１７秒以下であることが好ましく、さらに１５秒以下であること
が好ましい。１０秒未満では溶媒の沸騰による気泡が増加する危険があり、細心の注意が
必要となるため、あまり好ましくはない。そのため、特に、１０〜１５秒であることが好
ましい。流延用支持体上で乾燥されているウェブの残留溶媒量が２００質量％から１２０
質量％の範囲にある時間が短いほど低い面配向度のフィルムを得ることができる。ここで
いう時間は流延用支持体上にウェブがある時間であり、１２０質量％となる前に支持体か
らウェブを剥離する場合は２００質量％から剥離するまでの時間を指す。
１２０質量％の範囲にある時間は２０秒未満であることが低い面配向度のフィルムを得る
ために好ましい。さらに１７秒以下であることが好ましく、さらに１５秒以下であること
が好ましい。１０秒未満では溶媒の沸騰による気泡が増加する危険があり、細心の注意が
必要となるため、あまり好ましくはない。そのため、特に、１０〜１５秒であることが好
ましい。流延用支持体上で乾燥されているウェブの残留溶媒量が２００質量％から１２０
質量％の範囲にある時間が短いほど低い面配向度のフィルムを得ることができる。ここで
いう時間は流延用支持体上にウェブがある時間であり、１２０質量％となる前に支持体か
らウェブを剥離する場合は２００質量％から剥離するまでの時間を指す。
本発明のセルロースエステルフィルムの製造方法では、流延後の支持体上で乾燥されて
いるウェブ（ドープ膜）中の残留溶媒量が２００質量％から１２０質量％の範囲内のとき
に残留溶媒量の減少速度が４〜１５質量％／秒となるように乾燥することが特に面配向度
を低減できるため好ましい。さらに残留溶媒量の減少速度が６質量％／秒以上であること
が好ましく、特に６〜８質量％／秒であることが好ましい。この乾燥速度が、残留溶媒量
２００質量％から１２０質量％まで低下するのに要する時間の５０％以上の時間で維持さ
れていることが好ましく、特に６０％以上の時間で維持されていることが好ましい。
いるウェブ（ドープ膜）中の残留溶媒量が２００質量％から１２０質量％の範囲内のとき
に残留溶媒量の減少速度が４〜１５質量％／秒となるように乾燥することが特に面配向度
を低減できるため好ましい。さらに残留溶媒量の減少速度が６質量％／秒以上であること
が好ましく、特に６〜８質量％／秒であることが好ましい。この乾燥速度が、残留溶媒量
２００質量％から１２０質量％まで低下するのに要する時間の５０％以上の時間で維持さ
れていることが好ましく、特に６０％以上の時間で維持されていることが好ましい。
所定の乾燥速度とするため、支持体上のウェブは平均温度が４１〜１００℃に設定され
た雰囲気内でウエブを乾燥させる乾燥工程を有し、かつ流延後２５〜９０秒で剥離するこ
とが特に好ましい。特にウェブの残留溶媒量が２００質量％以下のときに平均温度が４１
〜１００℃に設定された雰囲気内でウエブを乾燥させることが望ましい。
た雰囲気内でウエブを乾燥させる乾燥工程を有し、かつ流延後２５〜９０秒で剥離するこ
とが特に好ましい。特にウェブの残留溶媒量が２００質量％以下のときに平均温度が４１
〜１００℃に設定された雰囲気内でウエブを乾燥させることが望ましい。
更に好ましくは流延から７５秒以内に剥離することであり、特に好ましくは６０秒以内
で剥離することである。これによって、得られるフィルムの面配向度を更に低くすること
ができる。４１〜１００℃の雰囲気下に維持するにはこの温度の温風をウェブ上面にあて
るか赤外線等の手段により加熱することが好ましい。
で剥離することである。これによって、得られるフィルムの面配向度を更に低くすること
ができる。４１〜１００℃の雰囲気下に維持するにはこの温度の温風をウェブ上面にあて
るか赤外線等の手段により加熱することが好ましい。
支持体上での乾燥の課程で、支持体の温度は３０℃以上となるように支持体の裏面側よ
り温風、温水あるいは赤外線、ヒーター等によって加熱されることが好ましい。ただし、
ウエブ自身の温度は含まれる溶媒の蒸発潜熱により、溶媒の沸点以下の温度に維持されて
いることが望ましい。
り温風、温水あるいは赤外線、ヒーター等によって加熱されることが好ましい。ただし、
ウエブ自身の温度は含まれる溶媒の蒸発潜熱により、溶媒の沸点以下の温度に維持されて
いることが望ましい。
流延後の支持体上のウエブは流延直後は比較的低温で乾燥させた後（低温乾燥工程）、
５℃以上高い雰囲気（高温乾燥工程）下で乾燥させることが面配向度を低減させるために
特に好ましく、高温乾燥工程は４１〜１００℃、より好ましくは４５〜９０℃、更に５０
〜８０℃で乾燥させることが好ましい。
５℃以上高い雰囲気（高温乾燥工程）下で乾燥させることが面配向度を低減させるために
特に好ましく、高温乾燥工程は４１〜１００℃、より好ましくは４５〜９０℃、更に５０
〜８０℃で乾燥させることが好ましい。
又、支持体の温度分布は幅手方向で±３℃以内であることが好ましく、±１℃以内であ
ることがより好ましく、±０．５℃以内が更に好ましく、±０．１℃以内であることが、
最も好ましい。特に残留溶媒量が２００質量％以下を高温乾燥工程として、所定の乾燥速
度とすることが望ましい。いずれにしてもウェブ中で溶媒が沸騰することによる気泡等が
発生しないことが望ましい。
ることがより好ましく、±０．５℃以内が更に好ましく、±０．１℃以内であることが、
最も好ましい。特に残留溶媒量が２００質量％以下を高温乾燥工程として、所定の乾燥速
度とすることが望ましい。いずれにしてもウェブ中で溶媒が沸騰することによる気泡等が
発生しないことが望ましい。
《剥離工程》
支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で支持体から剥離する工程である。剥離
されたウェブは次工程に送られる。
支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で支持体から剥離する工程である。剥離
されたウェブは次工程に送られる。
剥離する時点でのウェブの残留溶媒量（下記式）があまり大き過ぎると剥離し難かった
り、逆に支持体上で充分に乾燥させてから剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたり
する。
り、逆に支持体上で充分に乾燥させてから剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたり
する。
支持体上のウエブは、少なくともウェブに含まれる残留溶媒量が２００質量％未満まで
４１〜１００℃の雰囲気下で支持体上で乾燥されることがより好ましく、同雰囲気下で乾
燥させた後、一度４０℃未満の雰囲気下にして剥離することがフィルムの面内リターデー
ションを低く維持し、面品質も向上するため好ましい。
４１〜１００℃の雰囲気下で支持体上で乾燥されることがより好ましく、同雰囲気下で乾
燥させた後、一度４０℃未満の雰囲気下にして剥離することがフィルムの面内リターデー
ションを低く維持し、面品質も向上するため好ましい。
支持体上の剥離位置における温度は、好ましくは１０〜４０℃であり、更に好ましくは
１１〜３０℃である。得られるフィルムの面配向度及び／又は面内リターデーションＲ０
を低く維持するため、該剥離位置におけるウェブの残留溶媒量は２０〜１２０質量％が好
ましく、更に好ましくは４０〜１００質量％であり、特に７０〜１００質量であることが
好ましい。
１１〜３０℃である。得られるフィルムの面配向度及び／又は面内リターデーションＲ０
を低く維持するため、該剥離位置におけるウェブの残留溶媒量は２０〜１２０質量％が好
ましく、更に好ましくは４０〜１００質量％であり、特に７０〜１００質量であることが
好ましい。
本発明に係るウェブの残留溶媒量は下記式で定義される。
残留溶媒量＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／
（ウェブの加熱処理後質量）×１００％
尚、残留溶媒量を測定する際の、加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を行うこ
とを表す。
残留溶媒量＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／
（ウェブの加熱処理後質量）×１００％
尚、残留溶媒量を測定する際の、加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を行うこ
とを表す。
上記のように剥離時の残留溶媒量に調整するには、流延後の流延用支持体の表面温度を
制御し、ウェブからの有機溶媒の蒸発を効率的に行えるように、流延用支持体上の剥離位
置における温度を上記記載の温度範囲に設定することが好ましい。支持体温度を制御する
には、伝熱効率のよい伝熱方法を使用するのがよく、例えば、液体による裏面伝熱方法が
好ましい。
制御し、ウェブからの有機溶媒の蒸発を効率的に行えるように、流延用支持体上の剥離位
置における温度を上記記載の温度範囲に設定することが好ましい。支持体温度を制御する
には、伝熱効率のよい伝熱方法を使用するのがよく、例えば、液体による裏面伝熱方法が
好ましい。
輻射熱や熱風等による伝熱方法は支持体温度のコントロールが難しいが、ベルト（支持
体）マシンにおいて、移送するベルトが下側に来た所の温度制御には、緩やかな風でベル
ト温度を調節することが出来る。
体）マシンにおいて、移送するベルトが下側に来た所の温度制御には、緩やかな風でベル
ト温度を調節することが出来る。
支持体の温度は、加熱手段を分割することによって、部分的に支持体温度を変えること
が出来、流延用支持体の流延位置、乾燥部、剥離位置等異なる温度とすることが出来る。
が出来、流延用支持体の流延位置、乾燥部、剥離位置等異なる温度とすることが出来る。
製膜速度を上げる方法（残留溶媒量が出来るだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上
げることが出来る）として、残留溶媒が多くとも剥離出来るゲル流延法（ゲルキャスティ
ング）がある。
げることが出来る）として、残留溶媒が多くとも剥離出来るゲル流延法（ゲルキャスティ
ング）がある。
それは、ドープ中にセルロースエステルに対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル
化する方法、支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。また、ドープ中に金属塩を
加える方法もある。
化する方法、支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。また、ドープ中に金属塩を
加える方法もある。
支持体上でゲル化させ膜を強くすることによって、剥離を早め製膜速度を上げることも
出来る。
出来る。
残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時に平面性を
損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易く、経済速度と品質との兼ね合いで
剥離残留溶媒量を決められる。支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常１９６
〜２４５Ｎ／ｍで剥離が行われるが、セルロースエステルの単位質量あたりの紫外線吸収
剤の含有量が多く、且つ、従来よりも薄膜化されている本発明のセルロースエステルフィ
ルムは、剥離の際にシワが入りやすいため、１９０Ｎ／ｍ以下で剥離することが好ましく
、更には、剥離できる最低張力〜１６６．６Ｎ／ｍ、次いで、最低張力〜１３７．２Ｎ／
ｍで剥離することが好ましいが、特に好ましくは、最低張力〜１００Ｎ／ｍで剥離するこ
とである。剥離張力が低いほど面内リターデーションＲ０が低く保てるため好ましいだけ
でなく、面配向度が低いフィルムを得るためにも好ましい。面内リターデーションＲ０は
２０ｎｍ未満であることが好ましく、更には、１０ｎｍ未満、次いで、５ｎｍ未満である
ことが好ましいが、最も好ましくは０〜１ｎｍである。剥離張力及び搬送張力、後述する
テンターによる幅手方向の収縮あるいは延伸倍率を調整することによって、Ｒ０を低く維
持することができる。
損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易く、経済速度と品質との兼ね合いで
剥離残留溶媒量を決められる。支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常１９６
〜２４５Ｎ／ｍで剥離が行われるが、セルロースエステルの単位質量あたりの紫外線吸収
剤の含有量が多く、且つ、従来よりも薄膜化されている本発明のセルロースエステルフィ
ルムは、剥離の際にシワが入りやすいため、１９０Ｎ／ｍ以下で剥離することが好ましく
、更には、剥離できる最低張力〜１６６．６Ｎ／ｍ、次いで、最低張力〜１３７．２Ｎ／
ｍで剥離することが好ましいが、特に好ましくは、最低張力〜１００Ｎ／ｍで剥離するこ
とである。剥離張力が低いほど面内リターデーションＲ０が低く保てるため好ましいだけ
でなく、面配向度が低いフィルムを得るためにも好ましい。面内リターデーションＲ０は
２０ｎｍ未満であることが好ましく、更には、１０ｎｍ未満、次いで、５ｎｍ未満である
ことが好ましいが、最も好ましくは０〜１ｎｍである。剥離張力及び搬送張力、後述する
テンターによる幅手方向の収縮あるいは延伸倍率を調整することによって、Ｒ０を低く維
持することができる。
本発明において、面内リタデーションＲ０は自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（
王子計測機器（株）製）を用いて、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い
、得られた屈折率Ｎｘ、Ｎｙ、Ｎｚから算出することができる。又、膜厚方向のリタデー
ション値Ｒｔは２０ｎｍ未満のものが得られ、更に１０ｎｍ未満のものが好ましく得られ
、特に０〜８ｎｍのセルロースエステルが好ましく得られる。
王子計測機器（株）製）を用いて、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い
、得られた屈折率Ｎｘ、Ｎｙ、Ｎｚから算出することができる。又、膜厚方向のリタデー
ション値Ｒｔは２０ｎｍ未満のものが得られ、更に１０ｎｍ未満のものが好ましく得られ
、特に０〜８ｎｍのセルロースエステルが好ましく得られる。
本発明のセルロースエステルフィルムは、遅相軸方向と製膜方向とのなす角度θと面内
方向のリタデーションＲ０が下記式（II）のＰが０．９９９９を満たす関係にあり、特に
偏光板保護フィルム等の光学フィルムとして好ましく用いられる。特に、Ｐが０．９９９
９５でＲ０とθが下記式（II）を満たすことである。
方向のリタデーションＲ０が下記式（II）のＰが０．９９９９を満たす関係にあり、特に
偏光板保護フィルム等の光学フィルムとして好ましく用いられる。特に、Ｐが０．９９９
９５でＲ０とθが下記式（II）を満たすことである。
式（II）
Ｐ≦１−ｓｉｎ２（２θ）ｓｉｎ２（πＲ０／λ）
Ｒ０＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ
式中、Ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙは遅相軸方向に対し直角な方向
のフィルム面内の屈折率であり、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）である。θはフィルム面内
の遅相軸方向と製膜方向（フィルムの直尺方向）とのなす角度（ラジアン）、λは上記Ｎ
ｘ、Ｎｙ、θを求める三次元屈折率測定の際の光の波長５９０ｎｍ、πは円周率である。
Ｐ≦１−ｓｉｎ２（２θ）ｓｉｎ２（πＲ０／λ）
Ｒ０＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ
式中、Ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙは遅相軸方向に対し直角な方向
のフィルム面内の屈折率であり、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）である。θはフィルム面内
の遅相軸方向と製膜方向（フィルムの直尺方向）とのなす角度（ラジアン）、λは上記Ｎ
ｘ、Ｎｙ、θを求める三次元屈折率測定の際の光の波長５９０ｎｍ、πは円周率である。
《乾燥工程》
ウェブを千鳥状に配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置及び／またはクリッ
プまたはピンでウェブの両端を保持して搬送するテンター装置を用いて巾保持しながら、
ウェブを乾燥する工程である。乾燥工程における搬送張力も可能な範囲で低めに維持する
ことがＲ０が低く維持できるため好ましく、１９０Ｎ／ｍ以下であることが好ましい。更
に好ましくは１７０Ｎ／ｍ以下であることが好ましく、更に好ましくは１４０Ｎ／ｍ以下
であることが好ましく１００〜１３０Ｎ／ｍであることが特に好ましい。特に、フィルム
中の残留溶媒量が少なくとも５質量％以下となるまで上記搬送張力以下に維持することが
効果的である。
ウェブを千鳥状に配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置及び／またはクリッ
プまたはピンでウェブの両端を保持して搬送するテンター装置を用いて巾保持しながら、
ウェブを乾燥する工程である。乾燥工程における搬送張力も可能な範囲で低めに維持する
ことがＲ０が低く維持できるため好ましく、１９０Ｎ／ｍ以下であることが好ましい。更
に好ましくは１７０Ｎ／ｍ以下であることが好ましく、更に好ましくは１４０Ｎ／ｍ以下
であることが好ましく１００〜１３０Ｎ／ｍであることが特に好ましい。特に、フィルム
中の残留溶媒量が少なくとも５質量％以下となるまで上記搬送張力以下に維持することが
効果的である。
乾燥の手段はウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイク
ロウェーブを当てて加熱する手段もある。あまり急激な乾燥は出来上がりのフィルムの平
面性を損ね易い。高温による乾燥は残留溶媒が８質量％以下くらいから行うのがよい。全
体を通し、乾燥温度は概ね４０〜２５０℃で行われる。特に本発明では残留溶媒が８質量
％以下まで乾燥されたフィルムを１１５〜２００℃で少なくとも５〜６０分間維持するこ
とが好ましく、これによって更に面配向度が低減されるのである。より好ましくは１２０
〜１６０℃の範囲で５〜６０分間維持されることであり、これは乾燥工程の一部を兼ねて
もよい。加熱温度はフィルムのＴｇ以下であることが望ましい。
ロウェーブを当てて加熱する手段もある。あまり急激な乾燥は出来上がりのフィルムの平
面性を損ね易い。高温による乾燥は残留溶媒が８質量％以下くらいから行うのがよい。全
体を通し、乾燥温度は概ね４０〜２５０℃で行われる。特に本発明では残留溶媒が８質量
％以下まで乾燥されたフィルムを１１５〜２００℃で少なくとも５〜６０分間維持するこ
とが好ましく、これによって更に面配向度が低減されるのである。より好ましくは１２０
〜１６０℃の範囲で５〜６０分間維持されることであり、これは乾燥工程の一部を兼ねて
もよい。加熱温度はフィルムのＴｇ以下であることが望ましい。
流延用支持体面から剥離した後の乾燥工程では、溶媒の蒸発によってウェブは巾方向に
収縮しようとする。特に高温度で急激に乾燥するほど収縮が大きくなる。この収縮を可能
な限り抑制しながら乾燥することが、出来上がったフィルムの平面性を良好にする上では
好ましい。一方で、剥離後の乾燥工程である程度収縮させるかあるいは延伸する場合は低
い延伸倍率とすることが面配向を低く維持できるため好ましい。
収縮しようとする。特に高温度で急激に乾燥するほど収縮が大きくなる。この収縮を可能
な限り抑制しながら乾燥することが、出来上がったフィルムの平面性を良好にする上では
好ましい。一方で、剥離後の乾燥工程である程度収縮させるかあるいは延伸する場合は低
い延伸倍率とすることが面配向を低く維持できるため好ましい。
この観点から、例えば、特開昭６２−４６６２５号に示されているような乾燥全工程あ
るいは一部の工程を巾方向にクリップまたはピンでウェブの巾両端を巾保持しつつ乾燥さ
せる方法（テンター方式と呼ばれる）、中でも、クリップを用いるテンター方式、ピンを
用いるピンテンター方式が好ましく用いられる。
るいは一部の工程を巾方向にクリップまたはピンでウェブの巾両端を巾保持しつつ乾燥さ
せる方法（テンター方式と呼ばれる）、中でも、クリップを用いるテンター方式、ピンを
用いるピンテンター方式が好ましく用いられる。
尚、この様に幅把持しながら乾燥することで得られるフィルムの面内リターデーション
を小さくできる。テンターを行う場合のウェブの残留溶媒量は、テンター開始時に１００
質量％以下であるのが好ましく、且つ、ウェブの残留溶媒量が１０質量％以下になるまで
テンターをかけながら乾燥を行う事が好ましく、更に好ましくは５質量％以下である。
を小さくできる。テンターを行う場合のウェブの残留溶媒量は、テンター開始時に１００
質量％以下であるのが好ましく、且つ、ウェブの残留溶媒量が１０質量％以下になるまで
テンターをかけながら乾燥を行う事が好ましく、更に好ましくは５質量％以下である。
また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、支持体より剥離したフィル
ムを更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは、０
．５質量％以下である。
ムを更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは、０
．５質量％以下である。
フィルム乾燥工程では一般にロール懸垂方式か、上記記載のようなピンテンター方式で
フィルムを搬送しながら乾燥する方式が採られる。液晶表示部材用としては、ピンテンタ
ー方式で幅を保持しながら乾燥させることが、寸法安定性を向上させるために好ましい。
特に支持体より剥離した直後の残留溶剤量の多いところで幅保持を行うことが、寸法安定
性向上効果をより発揮するため特に好ましい。フィルムを乾燥させる手段は特に制限なく
、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行う。簡便さの点で熱風で行うの
が好ましい。
フィルムを搬送しながら乾燥する方式が採られる。液晶表示部材用としては、ピンテンタ
ー方式で幅を保持しながら乾燥させることが、寸法安定性を向上させるために好ましい。
特に支持体より剥離した直後の残留溶剤量の多いところで幅保持を行うことが、寸法安定
性向上効果をより発揮するため特に好ましい。フィルムを乾燥させる手段は特に制限なく
、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行う。簡便さの点で熱風で行うの
が好ましい。
《巻き取り工程》
ウェブ中の残留溶媒量が２質量％以下となってからセルロースエステルフィルムとして
巻き取る工程であり、残留溶媒量を０．４質量％以下にすることにより寸法安定性の良好
なフィルムを得ることが出来る。
ウェブ中の残留溶媒量が２質量％以下となってからセルロースエステルフィルムとして
巻き取る工程であり、残留溶媒量を０．４質量％以下にすることにより寸法安定性の良好
なフィルムを得ることが出来る。
巻き取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンショ
ン法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等が
あり、それらを使いわければよい。
ン法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等が
あり、それらを使いわければよい。
セルロースエステルフィルムの膜厚は、使用目的によって異なるが、仕上がりフィルム
として、通常５〜５００μｍの範囲にあり、更に１０〜２５０μｍの範囲が好ましく、特
に液晶画像表示装置用フィルムとしては１０〜１２０μｍの範囲が用いられる。本発明で
は特に、１０〜６０μｍの膜厚の薄いフィルムであっても、光学的等方性に優れ、特に面
配向度が低いフィルムを得ることができるのである。
として、通常５〜５００μｍの範囲にあり、更に１０〜２５０μｍの範囲が好ましく、特
に液晶画像表示装置用フィルムとしては１０〜１２０μｍの範囲が用いられる。本発明で
は特に、１０〜６０μｍの膜厚の薄いフィルムであっても、光学的等方性に優れ、特に面
配向度が低いフィルムを得ることができるのである。
膜厚の調節には、所望の厚さになるように、ドープ濃度、ポンプの送液量、ダイの口金
のスリット間隙、ダイの押し出し圧力、流延用支持体の速度等をコントロールするのがよ
い。
のスリット間隙、ダイの押し出し圧力、流延用支持体の速度等をコントロールするのがよ
い。
また、膜厚を均一にする手段として、膜厚検出手段を用いて、プログラムされたフィー
ドバック情報を上記各装置にフィードバックさせて調節するのが好ましい。溶液流延製膜
法を通しての流延直後から乾燥までの工程において、乾燥装置内の雰囲気を、空気とする
のもよいが、窒素ガスや炭酸ガス等の不活性ガス雰囲気で行ってもよい。
ドバック情報を上記各装置にフィードバックさせて調節するのが好ましい。溶液流延製膜
法を通しての流延直後から乾燥までの工程において、乾燥装置内の雰囲気を、空気とする
のもよいが、窒素ガスや炭酸ガス等の不活性ガス雰囲気で行ってもよい。
ただ、乾燥雰囲気中の蒸発溶媒の爆発限界の危険性は常に考慮されなければならないこ
とは勿論のことである。
とは勿論のことである。
本発明のセルロースエステルフィルムは可塑剤を含有することができる。
本発明に係る可塑剤としては、特に限定はないが、リン酸エステル系可塑剤、カルボン
酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル、クエン酸エステル、グリコレート系可塑剤等の
可塑剤が好ましく用いられるが、特にこれらのみに限定されるわけではない。
酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル、クエン酸エステル、グリコレート系可塑剤等の
可塑剤が好ましく用いられるが、特にこれらのみに限定されるわけではない。
リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）およびトリク
レジルホスフェート（ＴＣＰ）、ビフェニル−ジフェニルホスフェート、ジメチルエチル
ホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジ
フェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート
等が挙げられる。
レジルホスフェート（ＴＣＰ）、ビフェニル−ジフェニルホスフェート、ジメチルエチル
ホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジ
フェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート
等が挙げられる。
カルボン酸エステル系可塑剤としては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代
表的なものである。フタル酸エステルの例としては、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジ
エチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（
ＤＯＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、エチルフタリルエチルグリコ
レート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等が用
いられる。
表的なものである。フタル酸エステルの例としては、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジ
エチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（
ＤＯＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、エチルフタリルエチルグリコ
レート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等が用
いられる。
クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリエチル（ＯＡＣＴＥ）およ
びクエン酸アセチルトリブチル（ＯＡＣＴＢ）が用いられる。
びクエン酸アセチルトリブチル（ＯＡＣＴＢ）が用いられる。
その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチ
ル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。トリアセチン、ト
リブチリン等を用いることもできる。これらの可塑剤は単独で使用しても２種以上を適宜
組み合わせて使用してもよい。
ル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。トリアセチン、ト
リブチリン等を用いることもできる。これらの可塑剤は単独で使用しても２種以上を適宜
組み合わせて使用してもよい。
これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対
して１〜３５質量％が好ましく、特に好ましくは、５〜３０質量％である。
して１〜３５質量％が好ましく、特に好ましくは、５〜３０質量％である。
加工性とはベースフィルムや液晶表示部材をスリット加工や打ち抜き加工する際のこと
で、加工性が悪いと切断面がノコギリ状になり切り屑が発生し、製品に付着して欠陥とな
るため好ましくない。
で、加工性が悪いと切断面がノコギリ状になり切り屑が発生し、製品に付着して欠陥とな
るため好ましくない。
本発明のセルロースエステルフィルムに係る紫外線吸収剤について説明する。
本発明のセルロースエステルフィルムは、その高い寸法安定性から、偏光板または液晶
表示用部材等に使用されるが、偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤
が好ましく用いられる。
表示用部材等に使用されるが、偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤
が好ましく用いられる。
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶
表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられ
る。具体的には３８０ｎｍの透過率が１０％未満であることが好ましく、特に５％未満で
あることがより好ましい。
表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられ
る。具体的には３８０ｎｍの透過率が１０％未満であることが好ましく、特に５％未満で
あることがより好ましい。
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェ
ノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェ
ノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
又、特開平６−１４８４３０号記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。
ノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェ
ノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
又、特開平６−１４８４３０号記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては下記一般式〔１〕で示される化合物が好ま
しく用いられる。
しく用いられる。
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は同じか又は異なってもよく、水素原子、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコ
キシ基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ又
はジアルキルアミノ基、アシルアミノ基又は５〜６員の複素環基を表し、Ｒ４はＲ５と共
に５〜６員の炭素環を形成してもよい。
ゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコ
キシ基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ又
はジアルキルアミノ基、アシルアミノ基又は５〜６員の複素環基を表し、Ｒ４はＲ５と共
に５〜６員の炭素環を形成してもよい。
また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していて良い。
以下に本発明に係る紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない
。ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフ
タルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−
（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル
）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、Ｃｉｂａ製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２
Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−
３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、Ｃｉｂ
ａ製）
また本発明に係る紫外線吸収剤のひとつであるベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下
記一般式〔２〕で表される化合物が好ましく用いられる。
。ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフ
タルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−
（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル
）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、Ｃｉｂａ製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２
Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−
３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、Ｃｉｂ
ａ製）
また本発明に係る紫外線吸収剤のひとつであるベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下
記一般式〔２〕で表される化合物が好ましく用いられる。
式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基
、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を
有していてもよい。Ａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアル
キル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基、又は−ＣＯ（ＮＨ）ｎ−１−Ｄ
基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表
す。ｍ及びｎは１または２を表す。
、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を
有していてもよい。Ａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアル
キル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基、又は−ＣＯ（ＮＨ）ｎ−１−Ｄ
基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表
す。ｍ及びｎは１または２を表す。
上記において、アルキル基としては、例えば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪
族基を表し、アルコキシル基としては例えば、炭素数１８までのアルコキシル基で、アル
ケニル基としては例えば、炭素数１６までのアルケニル基で例えばアリル基、２−ブテニ
ル基などを表す。又、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換分としてはハロゲ
ン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子など、ヒドロキシル基、フェニル基、
（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子などを置換していてもよい）などが
挙げられる。
族基を表し、アルコキシル基としては例えば、炭素数１８までのアルコキシル基で、アル
ケニル基としては例えば、炭素数１６までのアルケニル基で例えばアリル基、２−ブテニ
ル基などを表す。又、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換分としてはハロゲ
ン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子など、ヒドロキシル基、フェニル基、
（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子などを置換していてもよい）などが
挙げられる。
以下に一般式〔２〕で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこ
れらに限定されない。
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶
素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫
外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特
に好ましく用いられる。
れらに限定されない。
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶
素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫
外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特
に好ましく用いられる。
本発明に係る紫外線吸収剤添加液の添加方法としては、下記に記載の方法が挙げられる
。
。
《添加方法Ａ》
紫外線吸収剤添加液の調製方法としては、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソ
ランなどの有機溶剤に紫外線吸収剤を溶解してから直接ドープ組成中に添加する。
紫外線吸収剤添加液の調製方法としては、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソ
ランなどの有機溶剤に紫外線吸収剤を溶解してから直接ドープ組成中に添加する。
《添加方法Ｂ》
紫外線吸収剤添加液の調製方法としては、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソ
ランなどの有機溶剤に紫外線吸収剤と少量のセルロースエステルを溶解してからインライ
ンミキサーでドープに添加する。
紫外線吸収剤添加液の調製方法としては、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソ
ランなどの有機溶剤に紫外線吸収剤と少量のセルロースエステルを溶解してからインライ
ンミキサーでドープに添加する。
本発明においては、添加方法Ｂの方が、紫外線吸収剤の添加量を容易に調整できるため
、生産性に優れていて好ましい。
、生産性に優れていて好ましい。
紫外線吸収剤の使用量は化合物の種類、使用条件などにより一様ではないが、通常はセ
ルロースエステルフィルム１ｍ２当り、０．２〜２．０ｇが好ましく、０．４〜１．５ｇ
がさらに好ましく、０．６〜１．０ｇが特に好ましい。
ルロースエステルフィルム１ｍ２当り、０．２〜２．０ｇが好ましく、０．４〜１．５ｇ
がさらに好ましく、０．６〜１．０ｇが特に好ましい。
本発明のセルロースエステルフィルムには滑り性を付与するために微粒子を添加するこ
とができる。微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられ
る。
とができる。微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられ
る。
無機化合物としては、珪素を含む化合物、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコ
ニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和
ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が
好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セル
ロースエステル積層フィルムの濁度を低減できるので、二酸化珪素が特に好ましく用いら
れる。
ニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和
ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が
好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セル
ロースエステル積層フィルムの濁度を低減できるので、二酸化珪素が特に好ましく用いら
れる。
二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、
Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエ
ロジル（株）製）等の市販品が使用できる。
Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエ
ロジル（株）製）等の市販品が使用できる。
酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上
日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。
日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。
有機化合物としては、例えば、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマ
ーが好ましく、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。
ーが好ましく、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。
上記記載のシリコーン樹脂の中でも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、
例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び
同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。
例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び
同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。
本発明のセルロースエステルフィルムに添加される微粒子の１次平均粒子径としては、
ヘイズを低く抑えるという観点から、２０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは、５〜１
６ｎｍであり、特に好ましくは、５〜１２ｎｍである。これらの微粒子は０．１〜５μｍ
の粒径の２次粒子を形成してセルロースエステルフィルムに含まれることが好ましく、好
ましい平均粒径は０．１〜２μｍであり、更に好ましくは０．２〜０．６μｍである。こ
れにより、フィルム表面に高さ０．１〜１．０μｍ程度の凹凸を形成し、これによってフ
ィルム表面に適切な滑り性を与えることが出来る。
ヘイズを低く抑えるという観点から、２０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは、５〜１
６ｎｍであり、特に好ましくは、５〜１２ｎｍである。これらの微粒子は０．１〜５μｍ
の粒径の２次粒子を形成してセルロースエステルフィルムに含まれることが好ましく、好
ましい平均粒径は０．１〜２μｍであり、更に好ましくは０．２〜０．６μｍである。こ
れにより、フィルム表面に高さ０．１〜１．０μｍ程度の凹凸を形成し、これによってフ
ィルム表面に適切な滑り性を与えることが出来る。
本発明に係る微粒子の１次平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２０
０万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、その平均値をもって、１次平均粒
子径とした。
０万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、その平均値をもって、１次平均粒
子径とした。
微粒子の、見掛比重としては、７０ｇ／リットル以上が好ましく、更に好ましくは、９
０〜２００ｇ／リットルであり、特に好ましくは、１００〜２００ｇ／リットルである。
見掛比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化す
るため好ましく、また、本発明のように固形分濃度の高いドープを調製する際には、特に
好ましく用いられる。
０〜２００ｇ／リットルであり、特に好ましくは、１００〜２００ｇ／リットルである。
見掛比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化す
るため好ましく、また、本発明のように固形分濃度の高いドープを調製する際には、特に
好ましく用いられる。
１次粒子の平均径が２０ｎｍ以下、見掛比重が７０ｇ／リットル以上の二酸化珪素微粒
子は、例えば、気化させた四塩化珪素と水素を混合させたものを１０００〜１２００℃に
て空気中で燃焼させることで得ることができる。また例えばアエロジル２００Ｖ、アエロ
ジルＲ９７２Ｖ（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、それらを使
用することができる。
子は、例えば、気化させた四塩化珪素と水素を混合させたものを１０００〜１２００℃に
て空気中で燃焼させることで得ることができる。また例えばアエロジル２００Ｖ、アエロ
ジルＲ９７２Ｖ（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、それらを使
用することができる。
上記記載の見掛比重は二酸化珪素微粒子を一定量メスシリンダーに採り、この時の重さ
を測定し、下記式で算出したものである。
を測定し、下記式で算出したものである。
見掛比重（ｇ／リットル）＝二酸化珪素質量（ｇ）÷二酸化珪素の容積（リットル）
本発明に係る微粒子の分散液を調製する方法としては、例えば以下に示すような３種類
が挙げられる。
本発明に係る微粒子の分散液を調製する方法としては、例えば以下に示すような３種類
が挙げられる。
《調製方法Ａ》
溶剤と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。微
粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。
溶剤と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。微
粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。
《調製方法Ｂ》
溶剤と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。別
に溶剤に少量のセルローストリアセテートを加え、撹拌溶解する。これに前記微粒子分散
液を加えて撹拌する。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーで
ドープ液と十分混合する。
溶剤と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。別
に溶剤に少量のセルローストリアセテートを加え、撹拌溶解する。これに前記微粒子分散
液を加えて撹拌する。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーで
ドープ液と十分混合する。
《調製方法Ｃ》
溶剤に少量のセルローストリアセテートを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加えて
分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーで
ドープ液と十分混合する。
溶剤に少量のセルローストリアセテートを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加えて
分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーで
ドープ液と十分混合する。
調製方法Ａは二酸化珪素微粒子の分散性に優れ、調製方法Ｃは二酸化珪素微粒子が再凝
集しにくい点で優れている。中でも、上記記載の調製方法Ｂは二酸化珪素微粒子の分散性
と、二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。
集しにくい点で優れている。中でも、上記記載の調製方法Ｂは二酸化珪素微粒子の分散性
と、二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。
《分散方法》
二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質
量％が好ましく、１０〜２５質量％がさらに好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい
。分散濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘイズ、凝集物が
良化するため好ましい。
二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質
量％が好ましく、１０〜２５質量％がさらに好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい
。分散濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘイズ、凝集物が
良化するため好ましい。
使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルア
ルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げら
れる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製
膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
ルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げら
れる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製
膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
セルロースエステルに対する二酸化珪素微粒子の添加量はセルロースエステル１００質
量部に対して、二酸化珪素微粒子は０．０１〜０．３質量部が好ましく、０．０５〜０．
２質量部がさらに好ましく、０．０８〜０．１２質量部が最も好ましい。添加量は多い方
が、動摩擦係数に優れ、添加量が少ない方がヘイズが低く、凝集物も少ない点が優れてい
る。
量部に対して、二酸化珪素微粒子は０．０１〜０．３質量部が好ましく、０．０５〜０．
２質量部がさらに好ましく、０．０８〜０．１２質量部が最も好ましい。添加量は多い方
が、動摩擦係数に優れ、添加量が少ない方がヘイズが低く、凝集物も少ない点が優れてい
る。
分散機は通常の分散機が使用できる。分散機は大きく分けてメディア分散機とメディア
レス分散機に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレス分散機がヘイズが低
く好ましい。
レス分散機に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレス分散機がヘイズが低
く好ましい。
メディア分散機としてはボールミル、サンドミル、ダイノミルなどがあげられる。
メディアレス分散機としては超音波型、遠心型、高圧型などがあるが、本発明において
は高圧分散装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中
に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧
分散装置で処理する場合、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力
条件が９．８０７ＭＰａ以上であることが好ましい。更に好ましくは１９．６１３ＭＰａ
以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４
２０ｋＪ／時間以上に達するものが好ましい。
は高圧分散装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中
に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧
分散装置で処理する場合、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力
条件が９．８０７ＭＰａ以上であることが好ましい。更に好ましくは１９．６１３ＭＰａ
以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４
２０ｋＪ／時間以上に達するものが好ましい。
上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ
社製超高圧ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）あるいはナノマイザ社製ナノマ
イザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホ
モジナイザ、三和機械（株）社製ＵＨＮ−０１等が挙げられる。
社製超高圧ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）あるいはナノマイザ社製ナノマ
イザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホ
モジナイザ、三和機械（株）社製ＵＨＮ−０１等が挙げられる。
また、微粒子を含むドープを流延支持体に直接接するように流延することが、滑り性が
高く、ヘイズが低いフィルムが得られるので好ましい。
高く、ヘイズが低いフィルムが得られるので好ましい。
本発明のフィルム製膜時において、巻き取り後のブロッキング防止等のためには、上記
マット剤の添加の他に、フィルムの両サイドにエンボス加工を施すことができる。エンボ
ス加工は目的に応じて任意の高さに加工する事ができるが、本発明においては、巻き取り
後の不要な残留溶媒を揮発させるために、高さ５μｍ以上とすることが好ましく、より好
ましくは１０μｍ以上である。
マット剤の添加の他に、フィルムの両サイドにエンボス加工を施すことができる。エンボ
ス加工は目的に応じて任意の高さに加工する事ができるが、本発明においては、巻き取り
後の不要な残留溶媒を揮発させるために、高さ５μｍ以上とすることが好ましく、より好
ましくは１０μｍ以上である。
又、ロール状に巻き取られた後、出荷されるまでの間、汚れや静電気によるゴミ付着等
から製品を保護するために通常、包装加工がなされる。この包装材料については、上記目
的が果たせれば特に限定されないが、フィルムからの残留溶媒の揮発を妨げないものが好
ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン、ナイロン、ポリス
チレン、紙、各種不織布等が挙げられる。繊維がメッシュクロス状になったものは、より
好ましく用いられる。
から製品を保護するために通常、包装加工がなされる。この包装材料については、上記目
的が果たせれば特に限定されないが、フィルムからの残留溶媒の揮発を妨げないものが好
ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン、ナイロン、ポリス
チレン、紙、各種不織布等が挙げられる。繊維がメッシュクロス状になったものは、より
好ましく用いられる。
本発明のセルロースエステルフィルムは複数のドープを用いた共流延法等による多層構
成を有するものであってもよい。
成を有するものであってもよい。
共流延とは、異なったダイを通じて２層または３層構成にする逐次多層流延方法、２つ
または３つのスリットを有するダイ内で合流させ２層または３層構成にする同時多層流延
方法、逐次多層流延と同時多層流延を組み合わせた多層流延方法のいずれであっても良い
。
または３つのスリットを有するダイ内で合流させ２層または３層構成にする同時多層流延
方法、逐次多層流延と同時多層流延を組み合わせた多層流延方法のいずれであっても良い
。
本発明のセルロースエステルフィルムの作製について、製造装置の模式図の１例を図１
を用いて説明する。図１において、エンドレスステンレスベルト１は、低温乾燥ゾーン３
と高温乾燥ゾーン４の間を循環している。ドープ組成物は、ダイ２から流延部５でエンド
レスステンレスベルト１の上に流延され、矢印方向に運ばれ、低温乾燥ゾーン３と高温乾
燥ゾーン４で、乾燥され、剥離部６で剥離ロール７によりエンドレスステンレスベルトか
ら剥離されてセルロースエステルフィルムとなる。セルロースエステルフィルムは、更に
第１乾燥ゾーン８を通り、第２乾燥ゾーン１０から、第３乾燥ゾーン１１へ運ばれ、製品
として巻き取り部１２で巻き取られる。尚、第１乾燥ゾーン８と第３乾燥ゾーン１１は、
パスを長くとるため、搬送ロール９により搬送される。
を用いて説明する。図１において、エンドレスステンレスベルト１は、低温乾燥ゾーン３
と高温乾燥ゾーン４の間を循環している。ドープ組成物は、ダイ２から流延部５でエンド
レスステンレスベルト１の上に流延され、矢印方向に運ばれ、低温乾燥ゾーン３と高温乾
燥ゾーン４で、乾燥され、剥離部６で剥離ロール７によりエンドレスステンレスベルトか
ら剥離されてセルロースエステルフィルムとなる。セルロースエステルフィルムは、更に
第１乾燥ゾーン８を通り、第２乾燥ゾーン１０から、第３乾燥ゾーン１１へ運ばれ、製品
として巻き取り部１２で巻き取られる。尚、第１乾燥ゾーン８と第３乾燥ゾーン１１は、
パスを長くとるため、搬送ロール９により搬送される。
又、本発明で用いられるセルロースエステルはフィルムにしたときの輝点異物が少ない
ものが、特に偏光板保護フィルムあるいは光学補償フィルムの支持体として好ましく用い
られる。本発明において、輝点異物とは、２枚の偏光板を直交に配置し（クロスニコル）
、この間にセルロースエステルフィルムを配置して、一方の面から光源の光を当てて、も
う一方の面からセルロースエステルフィルムを観察したときに、光源の光がもれて見える
点のことである。
ものが、特に偏光板保護フィルムあるいは光学補償フィルムの支持体として好ましく用い
られる。本発明において、輝点異物とは、２枚の偏光板を直交に配置し（クロスニコル）
、この間にセルロースエステルフィルムを配置して、一方の面から光源の光を当てて、も
う一方の面からセルロースエステルフィルムを観察したときに、光源の光がもれて見える
点のことである。
このとき評価に用いる偏光板は輝点異物がない保護フィルムで構成されたものであるこ
とが望ましく、偏光子の保護にガラス板を使用したものが好ましく用いられる。輝点異物
の発生は、セルロースエステルに含まれる未酢化のセルロースがその原因の１つと考えら
れ、対策としては、未酢化のセルロース量の少ないセルロースエステルを用いることや、
また、セルロースエステルを溶解したドープ液の濾過等により、除去、低減が可能である
。又、フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積当たりの輝点異物数は少なくなり、フィルム
に含まれるセルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異物は少なくなる傾向があ
る。
とが望ましく、偏光子の保護にガラス板を使用したものが好ましく用いられる。輝点異物
の発生は、セルロースエステルに含まれる未酢化のセルロースがその原因の１つと考えら
れ、対策としては、未酢化のセルロース量の少ないセルロースエステルを用いることや、
また、セルロースエステルを溶解したドープ液の濾過等により、除去、低減が可能である
。又、フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積当たりの輝点異物数は少なくなり、フィルム
に含まれるセルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異物は少なくなる傾向があ
る。
輝点異物は、輝点の直径０．０１ｍｍ以上のものが２００個／ｃｍ２以下であることが
好ましく、更に好ましくは、１００個／ｃｍ２以下、５０個／ｃｍ２以下、３０個／ｃｍ
２以下、１０個／ｃｍ２以下であることが好ましいが、特に好ましくは、０であることで
ある。
好ましく、更に好ましくは、１００個／ｃｍ２以下、５０個／ｃｍ２以下、３０個／ｃｍ
２以下、１０個／ｃｍ２以下であることが好ましいが、特に好ましくは、０であることで
ある。
又、０．００５〜０．０１ｍｍ以下の輝点についても２００個／ｃｍ２以下であること
が好ましく、更に好ましくは、１００個／ｃｍ２以下、５０個／ｃｍ２以下、３０個／ｃ
ｍ２以下、１０個／ｃｍ２以下であることが好ましいが、特に好ましいのは、輝点が０の
場合である。０．００５ｍｍ以下の輝点についても少ないものが好ましい。
が好ましく、更に好ましくは、１００個／ｃｍ２以下、５０個／ｃｍ２以下、３０個／ｃ
ｍ２以下、１０個／ｃｍ２以下であることが好ましいが、特に好ましいのは、輝点が０の
場合である。０．００５ｍｍ以下の輝点についても少ないものが好ましい。
輝点異物を濾過によって除去する場合、セルロースエステルを単独で溶解させたものを
濾過するよりも可塑剤を添加混合した組成物を濾過することが輝点異物の除去効率が高く
好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂な
どのフッ素樹脂等の従来公知のものが好ましく用いられるが、セラミックス、金属等も好
ましく用いられる。絶対濾過精度としては５０μｍ以下のものが好ましく、更に好ましく
は、３０μｍ以下、１０μｍ以下であるが、特に好ましくは、５μｍ以下のものである。
濾過するよりも可塑剤を添加混合した組成物を濾過することが輝点異物の除去効率が高く
好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂な
どのフッ素樹脂等の従来公知のものが好ましく用いられるが、セラミックス、金属等も好
ましく用いられる。絶対濾過精度としては５０μｍ以下のものが好ましく、更に好ましく
は、３０μｍ以下、１０μｍ以下であるが、特に好ましくは、５μｍ以下のものである。
これらは、適宜組み合わせて使用することもできる。濾材はサーフェースタイプでもデ
プスタイプでも用いることができるが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ま
しく用いられる。
プスタイプでも用いることができるが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ま
しく用いられる。
また、本発明の光学フィルムは、その厚さが１０〜６０μｍのものが好ましい。膜厚が
薄くなると面配向度が高くなる傾向を有するが、本発明のセルロースエステルフィルムの
製造方法により、薄膜でありながら面配向度が低く維持できるのである。膜厚方向のリタ
デーションＲｔは下式に示すように面配向度と膜厚ｄ（ｎｍ）の積で表されるが、本発明
によれば単に膜厚が薄いことによってＲｔが低く維持できるというだけでなく、面配向度
を小さくできることによって、極めて低いＲｔを有するセルロースエステルフィルムを提
供することができたのである。
薄くなると面配向度が高くなる傾向を有するが、本発明のセルロースエステルフィルムの
製造方法により、薄膜でありながら面配向度が低く維持できるのである。膜厚方向のリタ
デーションＲｔは下式に示すように面配向度と膜厚ｄ（ｎｍ）の積で表されるが、本発明
によれば単に膜厚が薄いことによってＲｔが低く維持できるというだけでなく、面配向度
を小さくできることによって、極めて低いＲｔを有するセルロースエステルフィルムを提
供することができたのである。
Ｒｔ＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄ
本発明において、面配向度、リタデーション値の測定は、３５ｍｍ四方にカットした試
料を２３℃、５５％ＲＨ条件下に８時間放置した後、同条件下にて自動複屈折率計ＫＯＢ
ＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、波長が５９０ｎｍにおいて、３次
元屈折率測定を行い、屈折率Ｎｘ、Ｎｙ、Ｎｚを求めることにより得られる。
本発明において、面配向度、リタデーション値の測定は、３５ｍｍ四方にカットした試
料を２３℃、５５％ＲＨ条件下に８時間放置した後、同条件下にて自動複屈折率計ＫＯＢ
ＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、波長が５９０ｎｍにおいて、３次
元屈折率測定を行い、屈折率Ｎｘ、Ｎｙ、Ｎｚを求めることにより得られる。
本発明に係る偏光板について説明する。
本発明に係る偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例えば、本発明のセル
ロースエステルフィルムをアルカリ処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の
両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。上
記記載のアルカリケン化処理とは、このときの水系接着剤の濡れを良くし、接着性を向上
させるために、セルロースエステルフィルムを高温の強アルカリ液中に浸ける処理を示す
。
ロースエステルフィルムをアルカリ処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の
両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。上
記記載のアルカリケン化処理とは、このときの水系接着剤の濡れを良くし、接着性を向上
させるために、セルロースエステルフィルムを高温の強アルカリ液中に浸ける処理を示す
。
偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であ
り、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これ
はポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させた
ものがある。これらは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染
色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行った
ものが用いられている。該偏光膜の面上に本発明のセルロースエステルフィルムによる偏
光板用保護フィルムである透明なプラスチックフィルムが張り合わされて偏光板を形成す
る。
り、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これ
はポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させた
ものがある。これらは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染
色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行った
ものが用いられている。該偏光膜の面上に本発明のセルロースエステルフィルムによる偏
光板用保護フィルムである透明なプラスチックフィルムが張り合わされて偏光板を形成す
る。
以上のようにして得られるセルロースエステルフィルムは、透明性に優れ、光学的に等
方性であり、引き裂き強度に代表される機械的強度も十分あり、しかもカールが小さいの
で光学用フィルム、特に偏光板用保護フィルムとして有用であり、更に、反射防止加工、
帯電防止加工、クリアハードコート加工、防眩加工を適宜行うことも出来る。又、プラズ
マＣＶＤあるいは大気圧プラズマ処理によって、金属酸化物層をはじめとする各種機能層
を形成することもできる。
方性であり、引き裂き強度に代表される機械的強度も十分あり、しかもカールが小さいの
で光学用フィルム、特に偏光板用保護フィルムとして有用であり、更に、反射防止加工、
帯電防止加工、クリアハードコート加工、防眩加工を適宜行うことも出来る。又、プラズ
マＣＶＤあるいは大気圧プラズマ処理によって、金属酸化物層をはじめとする各種機能層
を形成することもできる。
面配向度０．００００１〜０．０００４の本発明のセルロースエステルフィルムあるい
はこれを用いた偏光板を用いることによって、これまで以上に液晶表示装置の設計に合わ
せた光学フィルムを提供することができ、液晶表示装置の表示性能（コントラスト、黒の
しまり具合等）を更に向上させることができ、必要に応じて位相差フィルムあるいは光学
補償フィルムと自在に組み合わせることができるようになった。
はこれを用いた偏光板を用いることによって、これまで以上に液晶表示装置の設計に合わ
せた光学フィルムを提供することができ、液晶表示装置の表示性能（コントラスト、黒の
しまり具合等）を更に向上させることができ、必要に応じて位相差フィルムあるいは光学
補償フィルムと自在に組み合わせることができるようになった。
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに
限定されるものではない。
限定されるものではない。
実施例１
〈試料１の作製〉
（ドープ組成物１）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
７０ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
３０ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
トリフェニルフォスフェート ８ｋｇ
エチルフタリルエチルグリコレート ３ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ３９１ｋｇ
エタノール ３４ｋｇ
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温・攪拌しながら完全に溶解させ
た。アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）はあらかじめ添加するエタノールの一
部と混合して分散し、これを密閉容器に投入した。これを、流延する温度まで冷却した後
、静置して脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用
して濾過し、ドープ１を得た。
〈試料１の作製〉
（ドープ組成物１）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
７０ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
３０ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
トリフェニルフォスフェート ８ｋｇ
エチルフタリルエチルグリコレート ３ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ３９１ｋｇ
エタノール ３４ｋｇ
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温・攪拌しながら完全に溶解させ
た。アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）はあらかじめ添加するエタノールの一
部と混合して分散し、これを密閉容器に投入した。これを、流延する温度まで冷却した後
、静置して脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用
して濾過し、ドープ１を得た。
ドープ組成物をドープ組成物２〜１２に変更した以外は同様にして、各々の組成物から
溶液を調製し、ドープ２〜１２を調製した。
溶液を調製し、ドープ２〜１２を調製した。
（ドープ組成物２）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９６
８５ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９６
１５ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
ＫＥ−６０４ （荒川化学（株）製） ７．５ｋｇ
ＫＥ−８５ （荒川化学（株）製） ７．５ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ４１２ｋｇ
エタノール ３９．５ｋｇ
（ドープ組成物３）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．８８
８０ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．８８
２０ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
０．４ｋｇ
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
０．３ｋｇ
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
０．３ｋｇ
アラルダイドＧＹ２６０ （旭チバ（株）製） １１ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ３９１ｋｇ
エタノール ３４ｋｇ
（ドープ組成物４）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
９０ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
１０ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
ＫＥ−６０４ （荒川化学（株）製） １０ｋｇ
ＫＥ−８５ （荒川化学（株）製） １０ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ３９２ｋｇ
エタノール ２６ｋｇ
（ドープ組成物５）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
７０ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
３０ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
１ｋｇ
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
１ｋｇ
トリフェニルフォスフェート ８ｋｇ
エチルフタリルエチルグリコレート ３ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ３６８ｋｇ
エタノール ２４．５ｋｇ
（ドープ組成物６）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９４
８１ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９４
１９ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
０．５ｋｇ
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
１．０ｋｇ
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
１．０ｋｇ
アラルダイドＧＹ２６０ （旭チバ（株）製） １９ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ３８７ｋｇ
エタノール ２５．５ｋｇ
（ドープ組成物７）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
８５ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
１５ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
０．５ｋｇ
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
１．０ｋｇ
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
１．０ｋｇ
ＫＥ−６０４ （荒川化学（株）製） １０ｋｇ
ＫＥ−８５ （荒川化学（株）製） ９ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ４１９ｋｇ
エタノール ３６ｋｇ
（ドープ組成物８）
木材パルプから合成されたセルロースアセテートプロピオネート
アセチル基置換度２．０ プロピオニル基置換度０．９ １００ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
ＫＥ−６０４ （荒川化学（株）製） １０ｋｇ
ＫＥ−８５ （荒川化学（株）製） １０ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
酢酸メチル ３１９ｋｇ
エタノール １３６ｋｇ
（ドープ組成物９）
木材パルプから合成されたセルロースアセテートプロピオネート
アセチル基置換度２．０ プロピオニル基置換度０．９ １００ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
アラルダイドＧＹ２６０ （旭チバ（株）製） ２０ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ４１９ｋｇ
エタノール ３６ｋｇ
（ドープ組成物１０）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
１００ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
１．０ｋｇ
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
１．０ｋｇ
トリフェニルフォスフェート ８ｋｇ
エチルフタリルエチルグリコレート ３ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ４１５ｋｇ
エタノール ２６．５ｋｇ
（ドープ組成物１１）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．８８
６０ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．８８
４０ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
トリフェニルフォスフェート １３ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ４６０ｋｇ
エタノール ４０ｋｇ
（ドープ組成物１２）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．８２
５０ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．８４
５０ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
トリフェニルフォスフェート ８ｋｇ
エチルフタリルエチルグリコレート ３ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ４３７ｋｇ
エタノール ３８ｋｇ
次にセルロースエステルフィルムの作製について述べるが、作製はいずれも図１に示す
装置を用いた。
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９６
８５ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９６
１５ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
ＫＥ−６０４ （荒川化学（株）製） ７．５ｋｇ
ＫＥ−８５ （荒川化学（株）製） ７．５ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ４１２ｋｇ
エタノール ３９．５ｋｇ
（ドープ組成物３）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．８８
８０ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．８８
２０ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
０．４ｋｇ
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
０．３ｋｇ
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
０．３ｋｇ
アラルダイドＧＹ２６０ （旭チバ（株）製） １１ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ３９１ｋｇ
エタノール ３４ｋｇ
（ドープ組成物４）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
９０ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
１０ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
ＫＥ−６０４ （荒川化学（株）製） １０ｋｇ
ＫＥ−８５ （荒川化学（株）製） １０ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ３９２ｋｇ
エタノール ２６ｋｇ
（ドープ組成物５）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
７０ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
３０ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
１ｋｇ
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
１ｋｇ
トリフェニルフォスフェート ８ｋｇ
エチルフタリルエチルグリコレート ３ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ３６８ｋｇ
エタノール ２４．５ｋｇ
（ドープ組成物６）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９４
８１ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９４
１９ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
０．５ｋｇ
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
１．０ｋｇ
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
１．０ｋｇ
アラルダイドＧＹ２６０ （旭チバ（株）製） １９ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ３８７ｋｇ
エタノール ２５．５ｋｇ
（ドープ組成物７）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
８５ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
１５ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
０．５ｋｇ
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
１．０ｋｇ
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）
１．０ｋｇ
ＫＥ−６０４ （荒川化学（株）製） １０ｋｇ
ＫＥ−８５ （荒川化学（株）製） ９ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ４１９ｋｇ
エタノール ３６ｋｇ
（ドープ組成物８）
木材パルプから合成されたセルロースアセテートプロピオネート
アセチル基置換度２．０ プロピオニル基置換度０．９ １００ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
ＫＥ−６０４ （荒川化学（株）製） １０ｋｇ
ＫＥ−８５ （荒川化学（株）製） １０ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
酢酸メチル ３１９ｋｇ
エタノール １３６ｋｇ
（ドープ組成物９）
木材パルプから合成されたセルロースアセテートプロピオネート
アセチル基置換度２．０ プロピオニル基置換度０．９ １００ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
アラルダイドＧＹ２６０ （旭チバ（株）製） ２０ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ４１９ｋｇ
エタノール ３６ｋｇ
（ドープ組成物１０）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．９２
１００ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
１．０ｋｇ
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
１．０ｋｇ
トリフェニルフォスフェート ８ｋｇ
エチルフタリルエチルグリコレート ３ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ４１５ｋｇ
エタノール ２６．５ｋｇ
（ドープ組成物１１）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．８８
６０ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．８８
４０ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
トリフェニルフォスフェート １３ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ４６０ｋｇ
エタノール ４０ｋｇ
（ドープ組成物１２）
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．８２
５０ｋｇ
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート 置換度２．８４
５０ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）
０．５ｋｇ
チヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）
０．５ｋｇ
トリフェニルフォスフェート ８ｋｇ
エチルフタリルエチルグリコレート ３ｋｇ
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製） ０．２ｋｇ
メチレンクロライド ４３７ｋｇ
エタノール ３８ｋｇ
次にセルロースエステルフィルムの作製について述べるが、作製はいずれも図１に示す
装置を用いた。
本発明のセルロースエステルフィルム１の作製
３０℃に温度調整されたドープ１を用いて、裏面から３０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト（支持体）上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上
のドープ膜（ウエブ）に２５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から４５秒後
にベルトの裏面から５５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に５５℃（Ｔ３
）の温風をあてて乾燥させ、流延から９０秒後に、剥離張力１８０Ｎ／ｍで剥離し、多数
のロールで搬送張力１５０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステ
ンレスベルトの温度は１２℃とした。剥離時の残留溶媒量は２６質量％であった。又、支
持体上で乾燥中のウエブをサンプリングして流延後の時間経過と残留溶媒量を求めたとこ
ろ、流延後１８秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、
５０℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥
ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１１５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１０分間搬送
させて、乾燥を行った。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２０００ｍ、膜厚４７μ
ｍの本発明のセルロースエステルフィルム１を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．３％
であった。
３０℃に温度調整されたドープ１を用いて、裏面から３０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト（支持体）上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上
のドープ膜（ウエブ）に２５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から４５秒後
にベルトの裏面から５５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に５５℃（Ｔ３
）の温風をあてて乾燥させ、流延から９０秒後に、剥離張力１８０Ｎ／ｍで剥離し、多数
のロールで搬送張力１５０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステ
ンレスベルトの温度は１２℃とした。剥離時の残留溶媒量は２６質量％であった。又、支
持体上で乾燥中のウエブをサンプリングして流延後の時間経過と残留溶媒量を求めたとこ
ろ、流延後１８秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、
５０℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥
ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１１５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１０分間搬送
させて、乾燥を行った。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２０００ｍ、膜厚４７μ
ｍの本発明のセルロースエステルフィルム１を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．３％
であった。
本発明のセルロースエステルフィルム２の作製
３０℃に温度調整されたドープ１を用いて、裏面から３０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から３５秒後にベルトの
裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から７５秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１２℃とした。剥離時の残留溶媒量は４０質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５０℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１１５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１０分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム２を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％であ
った。
３０℃に温度調整されたドープ１を用いて、裏面から３０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から３５秒後にベルトの
裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から７５秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１２℃とした。剥離時の残留溶媒量は４０質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５０℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１１５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１０分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム２を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％であ
った。
本発明のセルロースエステルフィルム３の作製
３０℃に温度調整されたドープ２を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から３５秒後にベルトの
裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から７５秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１２℃とした。剥離時の残留溶媒量は２８質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１０秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム３を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
３０℃に温度調整されたドープ２を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から３５秒後にベルトの
裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から７５秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１２℃とした。剥離時の残留溶媒量は２８質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１０秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム３を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
本発明のセルロースエステルフィルム４の作製
３０℃に温度調整されたドープ３を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２０秒後にベルトの
裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から４０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１２℃とした。剥離時の残留溶媒量は８０質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム４を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
３０℃に温度調整されたドープ３を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２０秒後にベルトの
裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から４０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１２℃とした。剥離時の残留溶媒量は８０質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム４を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
本発明のセルロースエステルフィルム５の作製
３０℃に温度調整されたドープ４を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２０秒後にベルトの
裏面から４１℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４１℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から４０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７６質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１６秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２７℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム５を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
３０℃に温度調整されたドープ４を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２０秒後にベルトの
裏面から４１℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４１℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から４０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７６質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１６秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２７℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム５を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
本発明のセルロースエステルフィルム６の作製
３０℃に温度調整されたドープ５を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２０秒後にベルトの
裏面から４１℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４１℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から４０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７４質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２７℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム６を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
３０℃に温度調整されたドープ５を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２０秒後にベルトの
裏面から４１℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４１℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から４０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７４質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２７℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム６を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
本発明のセルロースエステルフィルム７の作製
３０℃に温度調整されたドープ６を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２２秒後にベルトの
裏面から４１℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４１℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から４５秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７８質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２７℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム７を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
３０℃に温度調整されたドープ６を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２２秒後にベルトの
裏面から４１℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４１℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から４５秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７８質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２７℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム７を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
本発明のセルロースエステルフィルム８の作製
３５℃に温度調整されたドープ７を用いて、裏面から４５℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に４５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２５秒後にベルトの
裏面から６０℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に６０℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から５０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は４０質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１８秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム８を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
３５℃に温度調整されたドープ７を用いて、裏面から４５℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に４５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２５秒後にベルトの
裏面から６０℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に６０℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から５０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は４０質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１８秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム８を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
本発明のセルロースエステルフィルム９の作製
３０℃に温度調整されたドープ８を用いて、裏面から３５℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に３５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から３０秒後にベルトの
裏面から５７℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に５７℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から６０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７０質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム９を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
３０℃に温度調整されたドープ８を用いて、裏面から３５℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に３５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から３０秒後にベルトの
裏面から５７℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に５７℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から６０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７０質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム９を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満
であった。
本発明のセルロースエステルフィルム１０の作製
３５℃に温度調整されたドープ９を用いて、裏面から４５℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に４５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２５秒後にベルトの
裏面から６０℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に６０℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から５０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は４０質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム１０を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未
満であった。
３５℃に温度調整されたドープ９を用いて、裏面から４５℃（Ｔ２）の温風で加熱した
エンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜
（ウエブ）に４５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２５秒後にベルトの
裏面から６０℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に６０℃（Ｔ３）の温風を
あてて乾燥させ、流延から５０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベル
トの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は４０質量％であった。又、支持体上で乾
燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム１０を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未
満であった。
本発明のセルロースエステルフィルム１１の作製
３５℃に温度調整されたドープ１０を用いて、裏面から３０℃（Ｔ２）の温風で加熱し
たエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ
膜（ウエブ）に３０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から１８秒後にベルト
の裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風
をあてて乾燥させ、流延から３６秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロール
で搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベ
ルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は６３質量％であった。又、支持体上で
乾燥中のウエブは、流延後９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９５℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム１１を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％未
満であった。
３５℃に温度調整されたドープ１０を用いて、裏面から３０℃（Ｔ２）の温風で加熱し
たエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ
膜（ウエブ）に３０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から１８秒後にベルト
の裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風
をあてて乾燥させ、流延から３６秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロール
で搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベ
ルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は６３質量％であった。又、支持体上で
乾燥中のウエブは、流延後９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９５℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム１１を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％未
満であった。
本発明のセルロースエステルフィルム１２の作製
３５℃に温度調整されたドープ１０を用いて、裏面から３５℃（Ｔ２）の温風で加熱し
たエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ
膜（ウエブ）に３５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から１５秒後にベルト
の裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風
をあてて乾燥させ、流延から３０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロール
で搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベ
ルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７６質量％であった。又、支持体上で
乾燥中のウエブは、流延後９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９５℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム１２を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％未
満であった。
３５℃に温度調整されたドープ１０を用いて、裏面から３５℃（Ｔ２）の温風で加熱し
たエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ
膜（ウエブ）に３５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から１５秒後にベルト
の裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風
をあてて乾燥させ、流延から３０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロール
で搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベ
ルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７６質量％であった。又、支持体上で
乾燥中のウエブは、流延後９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離された
フィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９５℃に設定さ
れた第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで
１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．
０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの
本発明のセルロースエステルフィルム１２を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％未
満であった。
比較のセルロースエステルフィルム１の作製
３０℃に温度調整されたドープ１１を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱し
たエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ
膜（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から１５０秒後に、剥
離張力１８０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１５０Ｎ／ｍで搬送させながら乾
燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶
媒量は２０質量％であった又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後３２秒で剥離残溶量
が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５０℃に設定された第１乾燥ゾ
ーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さ
らに１１５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾
燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き
取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの比較のセルロースエステルフィルム１を得た
。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であった。
３０℃に温度調整されたドープ１１を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱し
たエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ
膜（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から１５０秒後に、剥
離張力１８０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１５０Ｎ／ｍで搬送させながら乾
燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶
媒量は２０質量％であった又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後３２秒で剥離残溶量
が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５０℃に設定された第１乾燥ゾ
ーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さ
らに１１５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾
燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き
取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの比較のセルロースエステルフィルム１を得た
。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であった。
比較のセルロースエステルフィルム２の作製
３０℃に温度調整されたドープ１２を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱し
たエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ
膜（ウエブ）に２５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させ、流延から１２０秒後に、剥離張
力１８０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１５０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥さ
せた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量
は２６質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後３０秒で剥離残溶量が
２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５０℃に設定された第１乾燥ゾー
ンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さら
に１１５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥
ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取
る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの比較のセルロースエステルフィルム２を得た。
巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であった。
３０℃に温度調整されたドープ１２を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱し
たエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ
膜（ウエブ）に２５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させ、流延から１２０秒後に、剥離張
力１８０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１５０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥さ
せた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量
は２６質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後３０秒で剥離残溶量が
２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５０℃に設定された第１乾燥ゾー
ンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さら
に１１５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥
ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取
る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの比較のセルロースエステルフィルム２を得た。
巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であった。
得られた本発明のセルロースエステルフィルム１〜１２及び比較のセルロースエステル
フィルム１及び２について、面配向度Ｓ、面内リターデーションＲ０、遅相軸方向とフィ
ルムの製膜方向とのなす角度θ（°）を求めた。得られた結果を表１に示す。
フィルム１及び２について、面配向度Ｓ、面内リターデーションＲ０、遅相軸方向とフィ
ルムの製膜方向とのなす角度θ（°）を求めた。得られた結果を表１に示す。
〈支持体上ドープ膜の残留溶媒量の測定 乾燥速度、時間の算出〉
流延後の支持体上のドープ膜を、一定時間毎にサンプリングし、流延から剥離までの残
留溶媒量の変化をグラフにプロットした。そして、グラフより流延後残留溶媒量２００質
量％に達する時間Ｔ２００と流延後残留溶媒量１２０質量％に達する時間Ｔ１２０を求め
、その差を求めた。又、その時間から乾燥速度を求めた。
流延後の支持体上のドープ膜を、一定時間毎にサンプリングし、流延から剥離までの残
留溶媒量の変化をグラフにプロットした。そして、グラフより流延後残留溶媒量２００質
量％に達する時間Ｔ２００と流延後残留溶媒量１２０質量％に達する時間Ｔ１２０を求め
、その差を求めた。又、その時間から乾燥速度を求めた。
乾燥速度Ｓ２００（質量％／秒）＝
（残留溶媒量２００質量％−残留溶媒量１２０質量％）／（Ｔ２００−Ｔ１２０）
Ｓ２００ Ｔ２００−Ｔ１２０
（質量％／秒） （秒）
本発明のセルロースエステルフィルム１ ５．２ １５．５
本発明のセルロースエステルフィルム２ ５．０ １６
本発明のセルロースエステルフィルム３ ４．８ １６．７
本発明のセルロースエステルフィルム４ ７．０ １１．５
本発明のセルロースエステルフィルム５ ６．７ １２．０
本発明のセルロースエステルフィルム６ ６．４ １２．５
本発明のセルロースエステルフィルム７ ６．４ １２．５
本発明のセルロースエステルフィルム８ ６．８ １１．７
本発明のセルロースエステルフィルム９ ５．０ １６
本発明のセルロースエステルフィルム１０ ７．５ １０．６
本発明のセルロースエステルフィルム１１ ６．８ １１．８
本発明のセルロースエステルフィルム１２ ７．２ １１．１
比較のセルロースエステルフィルム１ ３．９ ２０．５
比較のセルロースエステルフィルム２ ３．８ ２１
〈面配向度の測定〉
自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、
５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長において、３次元屈折率測定を行い、屈折率Ｎ
ｘ、Ｎｙ、Ｎｚを求めた。請求項１の式（Ｉ）に従って、面配向度Ｓと、請求項３の式に
従って、Ｒ０を算出した。
（残留溶媒量２００質量％−残留溶媒量１２０質量％）／（Ｔ２００−Ｔ１２０）
Ｓ２００ Ｔ２００−Ｔ１２０
（質量％／秒） （秒）
本発明のセルロースエステルフィルム１ ５．２ １５．５
本発明のセルロースエステルフィルム２ ５．０ １６
本発明のセルロースエステルフィルム３ ４．８ １６．７
本発明のセルロースエステルフィルム４ ７．０ １１．５
本発明のセルロースエステルフィルム５ ６．７ １２．０
本発明のセルロースエステルフィルム６ ６．４ １２．５
本発明のセルロースエステルフィルム７ ６．４ １２．５
本発明のセルロースエステルフィルム８ ６．８ １１．７
本発明のセルロースエステルフィルム９ ５．０ １６
本発明のセルロースエステルフィルム１０ ７．５ １０．６
本発明のセルロースエステルフィルム１１ ６．８ １１．８
本発明のセルロースエステルフィルム１２ ７．２ １１．１
比較のセルロースエステルフィルム１ ３．９ ２０．５
比較のセルロースエステルフィルム２ ３．８ ２１
〈面配向度の測定〉
自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、
５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長において、３次元屈折率測定を行い、屈折率Ｎ
ｘ、Ｎｙ、Ｎｚを求めた。請求項１の式（Ｉ）に従って、面配向度Ｓと、請求項３の式に
従って、Ｒ０を算出した。
このように、本発明のセルロースエステルフィルムは面配向度が低く、光学的等方性に
優れることがわかる。
優れることがわかる。
実施例２
本発明のセルロースエステルフィルム１を４０℃の２．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウ
ム水溶液で６０秒間アルカリ処理し、３分間水洗して鹸化処理層を形成し、アルカリ処理
フィルムを得た。
本発明のセルロースエステルフィルム１を４０℃の２．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウ
ム水溶液で６０秒間アルカリ処理し、３分間水洗して鹸化処理層を形成し、アルカリ処理
フィルムを得た。
次に、厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを沃素１ｋｇ、ホウ酸４ｋｇを
含む水溶液１００ｋｇに浸漬し、５０℃で４倍に延伸して偏光膜を作った。この偏光膜の
両面に前記アルカリ処理フィルムを完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤
として各々貼り合わせ本発明の偏光板１を作製した。
含む水溶液１００ｋｇに浸漬し、５０℃で４倍に延伸して偏光膜を作った。この偏光膜の
両面に前記アルカリ処理フィルムを完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤
として各々貼り合わせ本発明の偏光板１を作製した。
同様に、セルロースエステルフィルム２〜１２又は比較のセルロースエステルフィルム
１〜２を用いてそれぞれ本発明の偏光板２〜１２及び比較の偏光板１〜２を得た。
１〜２を用いてそれぞれ本発明の偏光板２〜１２及び比較の偏光板１〜２を得た。
偏光板の評価
得られた偏光板の偏光度を、４００〜７００ｎｍの光線領域にて、５０ｎｍごとに２枚
の偏光板を平行に配置した場合と直交に配置した場合の光透過率を求め、その平均値から
下式に従って求めた。
得られた偏光板の偏光度を、４００〜７００ｎｍの光線領域にて、５０ｎｍごとに２枚
の偏光板を平行に配置した場合と直交に配置した場合の光透過率を求め、その平均値から
下式に従って求めた。
偏光度＝｛（Ｈ０−Ｈ９０）／（Ｈ０＋Ｈ９０）｝１／２×１００
ただし、式中Ｈ０は平均平行透過率、Ｈ９０は平均直交透過率である。８０℃、９０％
ＲＨで５００時間処理した前後での偏光度の変化も調べた。その結果、本発明の偏光板１
〜１２はいずれも初期の偏光度が８８〜９０であり、８０℃、９０％ＲＨで５００時間処
理した後の偏光度は８６以上であったが、比較の偏光板１〜２は初期の偏光度が８８であ
り、８０℃、９０％ＲＨで５００時間処理した後の偏光度は８５未満であり、本発明の偏
光板が優れていることが確認された。
ただし、式中Ｈ０は平均平行透過率、Ｈ９０は平均直交透過率である。８０℃、９０％
ＲＨで５００時間処理した前後での偏光度の変化も調べた。その結果、本発明の偏光板１
〜１２はいずれも初期の偏光度が８８〜９０であり、８０℃、９０％ＲＨで５００時間処
理した後の偏光度は８６以上であったが、比較の偏光板１〜２は初期の偏光度が８８であ
り、８０℃、９０％ＲＨで５００時間処理した後の偏光度は８５未満であり、本発明の偏
光板が優れていることが確認された。
１ エンドレスステンレスベルト
２ ダイ
３ 低温乾燥ゾーン
４ 高温乾燥ゾーン
５ 流延部
６ 剥離部
７ 剥離ロール
８ 第１乾燥ゾーン
９ 搬送ロール
１０ 第２乾燥ゾーン
１１ 第３乾燥ゾーン
１２ 巻き取り部
２ ダイ
３ 低温乾燥ゾーン
４ 高温乾燥ゾーン
５ 流延部
６ 剥離部
７ 剥離ロール
８ 第１乾燥ゾーン
９ 搬送ロール
１０ 第２乾燥ゾーン
１１ 第３乾燥ゾーン
１２ 巻き取り部
１．セルローストリアセテートフィルムの製造方法であって、
少なくともセルローストリアセテート及び有機溶媒を含有するドープを前記有機溶媒の沸点以上の温度で溶解する溶解工程を有し、
製造されたセルローストリアセテートフィルムがリン酸エステル系可塑剤を含有せず、面配向度Ｓが、０．０００４以下であり、且つ、膜厚方向のリタデーションＲｔが１０ｎｍ未満であることを特徴とするセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
少なくともセルローストリアセテート及び有機溶媒を含有するドープを前記有機溶媒の沸点以上の温度で溶解する溶解工程を有し、
製造されたセルローストリアセテートフィルムがリン酸エステル系可塑剤を含有せず、面配向度Ｓが、０．０００４以下であり、且つ、膜厚方向のリタデーションＲｔが１０ｎｍ未満であることを特徴とするセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
式（Ｉ）
Ｓ＝（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ
Ｒｔ＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄ
式中、Ｎｘはセルローストリアセテートフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙは遅相軸方向に対し直角な方向のフィルム面内の屈折率、Ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはセルローストリアセテートフィルムの膜厚（ｎｍ）を表す。
Ｓ＝（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ
Ｒｔ＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄ
式中、Ｎｘはセルローストリアセテートフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙは遅相軸方向に対し直角な方向のフィルム面内の屈折率、Ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはセルローストリアセテートフィルムの膜厚（ｎｍ）を表す。
２．前記ドープを流延用支持体上に流延してウェブを形成する流延工程と、
前記ウェブの溶媒を蒸発させる溶媒蒸発工程と、
前記溶媒が蒸発したウェブを支持体から剥離する剥離工程と、
前記剥離したウェブを乾燥する乾燥工程と、
をさらに有する、１に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
３．前記乾燥工程が、剥離したウェブを１．０５倍以上の延伸倍率で延伸することを含む、１または２に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
４．前記セルローストリアセテートフィルムの膜厚が１０μｍ以上６０μｍ以下であることを特徴とする１〜３の何れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
５．前記面配向度が０．０００２２以下であることを特徴とする１〜４の何れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
６．前記膜厚方向のリタデーションＲｔが８ｎｍ未満であることを特徴とする１〜５の何れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
前記ウェブの溶媒を蒸発させる溶媒蒸発工程と、
前記溶媒が蒸発したウェブを支持体から剥離する剥離工程と、
前記剥離したウェブを乾燥する乾燥工程と、
をさらに有する、１に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
３．前記乾燥工程が、剥離したウェブを１．０５倍以上の延伸倍率で延伸することを含む、１または２に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
４．前記セルローストリアセテートフィルムの膜厚が１０μｍ以上６０μｍ以下であることを特徴とする１〜３の何れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
５．前記面配向度が０．０００２２以下であることを特徴とする１〜４の何れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
６．前記膜厚方向のリタデーションＲｔが８ｎｍ未満であることを特徴とする１〜５の何れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
７．前記面配向度Ｓが０．００００１〜０．０００１５であることを特徴とする１〜６の何れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
８．前記セルローストリアセテートフィルムの下記式で表される面内リタデーションＲｏが２０ｎｍ未満であることを特徴とする１〜７の何れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
９．前記面内リタデーションＲｏが１０ｎｍ未満であることを特徴とする８に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
１０．前記面内リタデーションＲｏが５ｎｍ未満であることを特徴とする９に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
１１．前記面内リタデーションＲｏが０〜１ｎｍであることを特徴とする１０に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
１２．前記セルローストリアセテートフィルムは、分子内に複数の環状構造を有する化合物をセルローストリアセテートに対して１０質量％以上含有することを特徴とする１〜１１の何れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
１３．前記セルローストリアセテートフィルムは、前記分子内に複数の環状構造を有する化合物をセルローストリアセテートに対して１５質量％以上含有することを特徴とする１２に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
１４．前記分子内に複数の環状構造を有する化合物の分子量が３０００以下であることを特徴とする１２又は１３に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
１５．前記分子内に複数の環状構造を有する化合物の分子量が２５０以上２０００以下であることを特徴とする１４に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
１６．前記セルローストリアセテートフィルムは、微粒子を含有し、該微粒子の１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、且つ、見掛け比重が７０ｇ／リットル以上であることを特徴とする１〜１５の何れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
１７．前記セルローストリアセテートの総置換度が２．８５以上３．００以下であることを特徴とする１〜１６の何れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
１８．偏光膜の少なくとも一方の側面に１〜１７の何れか１項に記載の製造方法で製造されたセルローストリアセテートフィルムを貼り合せたことを特徴とする偏光板。
１９．液晶セルの少なくとも一方の側面に１８に記載の偏光板を貼り合せたことを特徴とする表示装置。
参考例のセルロースエステルフィルム１の作製
３０℃に温度調整されたドープ１を用いて、裏面から３０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト（支持体）上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に２５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から４５秒後にベルトの裏面から５５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に５５℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から９０秒後に、剥離張力１８０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１５０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１２℃とした。剥離時の残留溶媒量は２６質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブをサンプリングして流延後の時間経過と残留溶媒量を求めたところ、流延後１８秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５０℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１１５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１０分間搬送させて、乾燥を行った。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２０００ｍ、膜厚４７μｍの参考例のセルロースエステルフィルム１を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．３％であった。
３０℃に温度調整されたドープ１を用いて、裏面から３０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト（支持体）上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に２５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から４５秒後にベルトの裏面から５５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に５５℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から９０秒後に、剥離張力１８０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１５０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１２℃とした。剥離時の残留溶媒量は２６質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブをサンプリングして流延後の時間経過と残留溶媒量を求めたところ、流延後１８秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５０℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１１５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１０分間搬送させて、乾燥を行った。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２０００ｍ、膜厚４７μｍの参考例のセルロースエステルフィルム１を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．３％であった。
参考例のセルロースエステルフィルム２の作製
３０℃に温度調整されたドープ１を用いて、裏面から３０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から３５秒後にベルトの裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から７５秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１２℃とした。剥離時の残留溶媒量は４０質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後１９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５０℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１１５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１０分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの参考例のセルロースエステルフィルム２を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％であった。
３０℃に温度調整されたドープ１を用いて、裏面から３０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から３５秒後にベルトの裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から７５秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１２℃とした。剥離時の残留溶媒量は４０質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後１９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５０℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１１５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１０分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの参考例のセルロースエステルフィルム２を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％であった。
参考例のセルロースエステルフィルム６の作製
３０℃に温度調整されたドープ５を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２０秒後にベルトの裏面から４１℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４１℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から４０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７４質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２７℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの参考例のセルロースエステルフィルム６を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であった。
３０℃に温度調整されたドープ５を用いて、裏面から２０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２０秒後にベルトの裏面から４１℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４１℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から４０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７４質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２７℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの参考例のセルロースエステルフィルム６を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であった。
参考例のセルロースエステルフィルム９の作製
３０℃に温度調整されたドープ８を用いて、裏面から３５℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に３５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から３０秒後にベルトの裏面から５７℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に５７℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から６０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７０質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの参考例のセルロースエステルフィルム９を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であった。
３０℃に温度調整されたドープ８を用いて、裏面から３５℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に３５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から３０秒後にベルトの裏面から５７℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に５７℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から６０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７０質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの参考例のセルロースエステルフィルム９を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であった。
参考例のセルロースエステルフィルム１０の作製
３５℃に温度調整されたドープ９を用いて、裏面から４５℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に４５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２５秒後にベルトの裏面から６０℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に６０℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から５０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は４０質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの参考例のセルロースエステルフィルム１０を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であった。
３５℃に温度調整されたドープ９を用いて、裏面から４５℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に４５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から２５秒後にベルトの裏面から６０℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に６０℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から５０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は４０質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの参考例のセルロースエステルフィルム１０を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であった。
参考例のセルロースエステルフィルム１１の作製
３５℃に温度調整されたドープ１０を用いて、裏面から３０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に３０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から１８秒後にベルトの裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から３６秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は６３質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９５℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの参考例のセルロースエステルフィルム１１を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％未満であった。
３５℃に温度調整されたドープ１０を用いて、裏面から３０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に３０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から１８秒後にベルトの裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から３６秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は６３質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９５℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの参考例のセルロースエステルフィルム１１を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％未満であった。
参考例のセルロースエステルフィルム１２の作製
３５℃に温度調整されたドープ１０を用いて、裏面から３５℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に３５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から１５秒後にベルトの裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から３０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７６質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９５℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの参考例のセルロースエステルフィルム１２を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％未満であった。
３５℃に温度調整されたドープ１０を用いて、裏面から３５℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上のドープ膜（ウエブ）に３５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾燥させた後、流延から１５秒後にベルトの裏面から４５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から３０秒後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は７６質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブは、流延後９秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９５℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの参考例のセルロースエステルフィルム１２を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％未満であった。
得られた本発明のセルロースエステルフィルム３〜５、７、８、参考例のセルロースエステルフィルム１、２、６、９〜１２及び比較のセルロースエステルフィルム１及び２について、面配向度Ｓ、面内リターデーションＲｏ、遅相軸方向とフィルムの製膜方向とのなす角度θ（°）を求めた。得られた結果を表１に示す。
乾燥速度Ｓ２００（質量％／秒）＝
（残留溶媒量２００質量％−残留溶媒量１２０質量％）／（Ｔ２００−Ｔ１２０）
Ｓ２００ Ｔ２００−Ｔ１２０
（質量％／秒） （秒）
参考例のセルロースエステルフィルム１ ５．２ １５．５
参考例のセルロースエステルフィルム２ ５．０ １６
本発明のセルロースエステルフィルム３ ４．８ １６．７
本発明のセルロースエステルフィルム４ ７．０ １１．５
本発明のセルロースエステルフィルム５ ６．７ １２．０
参考例のセルロースエステルフィルム６ ６．４ １２．５
本発明のセルロースエステルフィルム７ ６．４ １２．５
本発明のセルロースエステルフィルム８ ６．８ １１．７
参考例のセルロースエステルフィルム９ ５．０ １６
参考例のセルロースエステルフィルム１０ ７．５ １０．６
参考例のセルロースエステルフィルム１１ ６．８ １１．８
参考例のセルロースエステルフィルム１２ ７．２ １１．１
比較のセルロースエステルフィルム１ ３．９ ２０．５
比較のセルロースエステルフィルム２ ３．８ ２１
〈面配向度の測定〉
自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、
５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長において、３次元屈折率測定を行い、屈折率Ｎ
ｘ、Ｎｙ、Ｎｚを求めた。請求項１の式（Ｉ）に従って、面配向度Ｓと、請求項８の式に
従って、Ｒ０を算出した。
（残留溶媒量２００質量％−残留溶媒量１２０質量％）／（Ｔ２００−Ｔ１２０）
Ｓ２００ Ｔ２００−Ｔ１２０
（質量％／秒） （秒）
参考例のセルロースエステルフィルム１ ５．２ １５．５
参考例のセルロースエステルフィルム２ ５．０ １６
本発明のセルロースエステルフィルム３ ４．８ １６．７
本発明のセルロースエステルフィルム４ ７．０ １１．５
本発明のセルロースエステルフィルム５ ６．７ １２．０
参考例のセルロースエステルフィルム６ ６．４ １２．５
本発明のセルロースエステルフィルム７ ６．４ １２．５
本発明のセルロースエステルフィルム８ ６．８ １１．７
参考例のセルロースエステルフィルム９ ５．０ １６
参考例のセルロースエステルフィルム１０ ７．５ １０．６
参考例のセルロースエステルフィルム１１ ６．８ １１．８
参考例のセルロースエステルフィルム１２ ７．２ １１．１
比較のセルロースエステルフィルム１ ３．９ ２０．５
比較のセルロースエステルフィルム２ ３．８ ２１
〈面配向度の測定〉
自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、
５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長において、３次元屈折率測定を行い、屈折率Ｎ
ｘ、Ｎｙ、Ｎｚを求めた。請求項１の式（Ｉ）に従って、面配向度Ｓと、請求項８の式に
従って、Ｒ０を算出した。
実施例２
参考例のセルロースエステルフィルム１を４０℃の２．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液で６０秒間アルカリ処理し、３分間水洗して鹸化処理層を形成し、アルカリ処理フィルムを得た。
参考例のセルロースエステルフィルム１を４０℃の２．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液で６０秒間アルカリ処理し、３分間水洗して鹸化処理層を形成し、アルカリ処理フィルムを得た。
次に、厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを沃素１ｋｇ、ホウ酸４ｋｇを
含む水溶液１００ｋｇに浸漬し、５０℃で４倍に延伸して偏光膜を作った。この偏光膜の
両面に前記アルカリ処理フィルムを完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤
として各々貼り合わせ参考例の偏光板１を作製した。
含む水溶液１００ｋｇに浸漬し、５０℃で４倍に延伸して偏光膜を作った。この偏光膜の
両面に前記アルカリ処理フィルムを完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤
として各々貼り合わせ参考例の偏光板１を作製した。
同様に、セルロースエステルフィルム２〜１２又は比較のセルロースエステルフィルム
１〜２を用いてそれぞれ本発明の偏光板３〜５、７、８、参考例の偏光板２、６、９〜１
２及び比較の偏光板１〜２を得た。
１〜２を用いてそれぞれ本発明の偏光板３〜５、７、８、参考例の偏光板２、６、９〜１
２及び比較の偏光板１〜２を得た。
Claims (1)
- 下記式（Ｉ）で表される面配向度Ｓが０．０００４以下であり、且つ、膜厚方向のリタ
デーションＲｔが１０ｎｍ未満であって、前記面配向度Ｓを低下させるための化合物の添
加によって前記面配向度が０．０００２以上低下したものであることを特徴とするセルロ
ースエステルフィルム。
式（Ｉ）
Ｓ＝（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ
Ｒｔ＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄ
式中、Ｎｘはセルロースエステルフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙは遅相軸方
向に対し直角な方向のフィルム面内の屈折率、Ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄは
セルロースエステルフィルムの膜厚（ｎｍ）を表す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JP2015108846A true JP2015108846A (ja) | 2015-06-11 |
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Family Applications (6)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2010180070A Pending JP2011012269A (ja) | 2000-12-18 | 2010-08-11 | セルロースエステルフィルム並びに偏光板及び表示装置 |
| JP2012247850A Pending JP2013065030A (ja) | 2000-12-18 | 2012-11-09 | セルロースエステルフィルム並びに偏光板及び表示装置 |
| JP2014012721A Pending JP2014095925A (ja) | 2000-12-18 | 2014-01-27 | セルロースエステルフィルム |
| JP2015024488A Expired - Lifetime JP6176269B2 (ja) | 2000-12-18 | 2015-02-10 | セルロースエステルフィルム |
| JP2016138849A Pending JP2016186090A (ja) | 2000-12-18 | 2016-07-13 | セルロースエステルフィルム |
| JP2017197836A Pending JP2018009193A (ja) | 2000-12-18 | 2017-10-11 | セルロースエステルフィルム |
Family Applications Before (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (6) | JP2011012269A (ja) |
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2010
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2012
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2014
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2015
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2016
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2013065030A (ja) | 2013-04-11 |
| JP2014095925A (ja) | 2014-05-22 |
| JP2018009193A (ja) | 2018-01-18 |
| JP2011012269A (ja) | 2011-01-20 |
| JP6176269B2 (ja) | 2017-08-09 |
| JP2016186090A (ja) | 2016-10-27 |
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|
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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