JP2015099872A5 - - Google Patents
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Description
更には、以上に説明した好ましい態様、構成を含む本開示の発光素子において、光出射端面は、更に、第1化合物半導体層の端面から構成された光出射端面第1領域を有しており;光出射端面における仮想垂直面と光出射端面第1領域との成す角度をθ1としたとき、0度≦|θ3|<|θ1|を満足することが好ましく、この場合、|θ1−θ3|>0度、望ましくは、|θ1−θ3|>1.0度を満足することが好ましい。即ち、望ましくは、θ1−θ3>1.0度、あるいは、θ1−θ3<−1.0度を満足することが好ましい。また、第1化合物半導体層はAlX'InY'Ga(1-X'-Y')N層(但し、X’≧0,Y’≧0)の単層あるいは複数層から成る構成とすることができる。後者の具体例として、例えば、GaN層/AlX'InY'Ga(1-X'-Y')N層(但し、X’>0,Y’≧0)/GaN層が積層された構成を挙げることができる。尚、第3化合物半導体層を構成する活性層はInGaN層を含んでいるので、全体として、GaNに対する格子歪み量の値は正である。従って、第1化合物半導体層のGaNに対する格子歪み量の値がゼロである場合であっても、第1化合物半導体層は、第3化合物半導体層に対して、相対的には負の格子歪み量を有することになる。そのため、上述したとおり、θ3とθ1との間に角度差がつく。
更には、XZ仮想平面で積層構造体20を切断したときの光出射端面60の断面形状と光反射端面70の断面形状とは相補的な形状を有する。即ち、光反射端面70は、第2化合物半導体層40の端面から構成された光反射端面第2領域72、及び、第3化合物半導体層50の端面から構成された光反射端面第3領域73、第1化合物半導体層30の端面から構成された光反射端面第1領域71を有しており、光反射端面70における仮想垂直面(YZ仮想平面)と光反射端面第2領域72との成す角度をθ2’、光反射端面第3領域73との成す角度をθ3’、光反射端面第1領域71との成す角度をθ1’としたとき、θ2=θ2’,θ3=θ3’,θ1=θ1’を満足している。
積層構造体20は、発光素子製造用基板上に形成されている。具体的には、積層構造体20は、半極性の主面を有するフリースタンドのn型GaN基板11から成る発光素子製造用基板上、より具体的には、n型GaN基板11の{20−21}面上に形成されている。但し、これに限定するものではなく、例えば、{1−102}r面上、{1−101}面上、{11−22}面上、{2−201}面上、{0001}面上等に形成することもできる。即ち、積層構造体20は、GaN基板11上に、具体的には、n型GaN基板11の{20−21}面上(あるいは、{1−102}r面上、{1−101}面上、{11−22}面上、{2−201}面上、{0001}面上等)に、第1化合物半導体層30、第3化合物半導体層50及び第2化合物半導体層40がこの順に積層されて成る。
[工程−110]
次いで、第2化合物半導体層40の上にエッチング用マスクを形成し、次いで、少なくとも第2化合物半導体層40の一部分をエッチングして(具体的には、第2化合物半導体層40の一部分をエッチングして)、リッジストライプ構造12を形成する。より具体的には、Cl2ガスを用いたRIE法に基づき、第2化合物半導体層40の一部分をエッチングする。
次いで、第2化合物半導体層40の上にエッチング用マスクを形成し、次いで、少なくとも第2化合物半導体層40の一部分をエッチングして(具体的には、第2化合物半導体層40の一部分をエッチングして)、リッジストライプ構造12を形成する。より具体的には、Cl2ガスを用いたRIE法に基づき、第2化合物半導体層40の一部分をエッチングする。
[工程−120]
その後、全面を覆う積層絶縁膜43を形成した後、リッジストライプ構造12の頂面に位置する第2化合物半導体層40の部分の上の積層絶縁膜43を、エッチング法に基づき除去し、露出した第2化合物半導体層40の部分の上に、周知の方法に基づき第2電極82を形成する。また、GaN基板11の裏面に、周知の方法に基づき第1電極81を形成する。
その後、全面を覆う積層絶縁膜43を形成した後、リッジストライプ構造12の頂面に位置する第2化合物半導体層40の部分の上の積層絶縁膜43を、エッチング法に基づき除去し、露出した第2化合物半導体層40の部分の上に、周知の方法に基づき第2電極82を形成する。また、GaN基板11の裏面に、周知の方法に基づき第1電極81を形成する。
Claims (12)
- 第1導電型を有する第1化合物半導体層、活性層を含む第3化合物半導体層、及び、第1導電型とは異なる第2導電型を有する第2化合物半導体層が積層されて成り、光出射端面及び光反射端面を有する積層構造体を備えており、
光出射端面は、少なくとも、第2化合物半導体層の端面から構成された光出射端面第2領域、及び、第3化合物半導体層の端面から構成された光出射端面第3領域を有しており、
光出射端面における仮想垂直面と光出射端面第2領域との成す角度をθ2、光出射端面第3領域との成す角度をθ3としたとき、
0度≦|θ3|<|θ2|
を満足する発光素子。 - |θ3|≦2.0度を満足する請求項1に記載の発光素子。
- |θ2−θ3|>2.0度を満足する請求項1又は請求項2に記載の発光素子。
- 積層構造体はAlGaInN系化合物半導体から成る請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の発光素子。
- 第2化合物半導体層は、GaNに対して格子歪み量の値が負であり、且つ、格子歪み量の絶対値が0.02%以上である混晶から成る請求項4に記載の発光素子。
- 活性層はInXGa(1-X)N層を含み、
第2化合物半導体層は少なくともAlXInYGa(1-X-Y)N層(但し、X>0,Y≧0)を含む請求項5に記載の発光素子。 - 光出射端面は、更に、第1化合物半導体層の端面から構成された光出射端面第1領域を有しており、
光出射端面における仮想垂直面と光出射端面第1領域との成す角度をθ1としたとき、
0度≦|θ3|<|θ1|
を満足する請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の発光素子。 - 第1化合物半導体層はAlX'InY'Ga(1-X'-Y')N層(但し、X’≧0,Y’≧0)を含む請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の発光素子。
- 積層構造体は、GaN基板の半極性あるいは無極性の主面上に形成される請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の発光素子。
- 積層構造体は、GaN基板上に、第1化合物半導体層、第3化合物半導体層及び第2化合物半導体層がこの順に積層されて成る請求項9に記載の発光素子。
- 光出射端面から光反射端面に向かう積層構造体の軸線方向をX方向、積層構造体の厚さ方向をZ方向としたとき、XZ仮想平面で積層構造体を切断したときの光出射端面の断面形状と光反射端面の断面形状とは相補的な形状を有する請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載の発光素子。
- 第1化合物半導体層は、少なくとも第1クラッド層から成り、
第3化合物半導体層は、第1化合物半導体層側から、第1光ガイド層、活性層及び第2光ガイド層が積層されて成り、
第2化合物半導体層は、少なくとも第2クラッド層から成る請求項1乃至請求項11のいずれか1項に記載の発光素子。
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