JP2012015555A5 - - Google Patents
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Claims (26)
- GaN系半導体光素子であって、
第1のGaN系半導体からなり、該第1のGaN系半導体のc軸に沿って延びる基準軸に直交する面から該第1のGaN系半導体のm軸の方向に67度以上80度未満の範囲の傾斜角で傾斜した主面を有する基板と、
前記主面上に設けられたGaN系半導体エピタキシャル領域と、
前記GaN系半導体エピタキシャル領域上に設けられ、活性層のための半導体エピタキシャル層と
を備え、
前記半導体エピタキシャル層は第2のGaN系半導体からなり、前記第2のGaN系半導体はインジウムを含み、
前記活性層は、480nm以上600nm以下の波長範囲の光を生成するように設けられており、
前記基準軸の向きは、前記第1のGaN系半導体の[0001]軸及び[000−1]軸のいずれかの方向である、ことを特徴とするGaN系半導体光素子。 - 前記基板の前記主面は、該第1のGaN系半導体のm軸の方向に前記基準軸に直交する面から70度以上の角度で傾斜している、ことを特徴とする請求項1に記載されたGaN系半導体光素子。
- 前記基板の前記主面は、該第1のGaN系半導体のm軸の方向に前記基準軸に直交する面から71度以上79度以下の角度で傾斜している、ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載されたGaN系半導体光素子。
- 前記第1のGaN系半導体のa軸方向のオフ角は−3度以上+3度以下の範囲にある、ことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載されたGaN系半導体光素子。
- 前記活性層上に設けられた第2導電型GaN系半導体層を備え、
前記GaN系半導体エピタキシャル領域は、第1導電型GaN系半導体層を含み、
前記活性層は、所定の軸の方向に交互に配置された井戸層及び障壁層を含み、
前記井戸層は前記半導体エピタキシャル層からなると共に、前記障壁層はGaN系半導体からなり、
前記第1導電型GaN系半導体層、前記活性層及び前記第2導電型GaN系半導体層は、所定の軸の方向に配列されると共に、前記基準軸の方向は前記所定の軸の方向と異なる、ことを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載されたGaN系半導体光素子。 - 前記基板の前記主面は、該第1のGaN系半導体の(20−21)面及び(20−2−1)面のいずれかから−3度以上+3度以下の範囲の角度で傾斜した半導体面である、ことを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載されたGaN系半導体光素子。
- 前記基準軸は前記[0001]軸の方向に向く、ことを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載されたGaN系半導体光素子。
- 前記基準軸は前記[000−1]軸の方向に向く、ことを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれか一項に記載されたGaN系半導体光素子。
- 前記基板はGaNからなる、ことを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか一項に記載されたGaN系半導体光素子。
- 前記基板の前記主面の表面モフォロジは複数のマイクロステップを有しており、該マイクロステップの主要な構成面は、少なくともm面及び(10−11)面を含む、ことを特徴とする請求項1〜請求項9のいずれか一項に記載されたGaN系半導体光素子。
- GaN系半導体光素子を作製する方法であって、
第1のGaN系半導体からなるウエハを熱処理する工程と、
前記ウエハの主面上に、GaN系半導体エピタキシャル領域を成長する工程と、
前記GaN系半導体エピタキシャル領域の主面上に、活性層のための半導体エピタキシャル層を形成する工程と
を備え、
前記ウエハの前記主面は、該第1のGaN系半導体のc軸に沿って延びる基準軸に直交する面から前記第1のGaN系半導体のm軸の方向に67度以上80度未満の範囲の傾斜角で傾斜しており、
前記半導体エピタキシャル層は第2のGaN系半導体からなり、前記第2のGaN系半導体は構成元素としてインジウムを含み、
前記活性層は、480nm以上600nm以下の波長範囲の光を生成するように設けられており、
前記基準軸は、前記第1のGaN系半導体の[0001]軸及び[000−1]軸のいずれかの方向に向いている、ことを特徴とする方法。 - 前記ウエハの前記主面は、前記第1のGaN系半導体のm軸の方向に前記基準軸に直交する面から70度以上の範囲の角度で傾斜している、ことを特徴とする請求項11に記載された方法。
- 前記ウエハの前記主面は、該第1のGaN系半導体のm軸の方向に前記基準軸に直交する面から71度以上79度以下の角度で傾斜している、ことを特徴とする請求項11又は請求項12に記載された方法。
- 前記活性層は、所定の軸の方向に交互に配置された井戸層及び障壁層を含む量子井戸構造を有しており、
前記半導体エピタキシャル層は前記井戸層であり、
前記障壁層はGaN系半導体からなり、
当該方法は、
前記半導体エピタキシャル層上に前記障壁層を形成する工程と、
前記活性層上に、第2導電型GaN系半導体層を成長する工程と
を備え、
前記GaN系半導体エピタキシャル領域は、第1導電型GaN系半導体層を含み、
前記第1導電型GaN系半導体層、前記活性層及び前記第2導電型GaN系半導体層は、所定の軸の方向に配列されると共に、前記基準軸の方向は前記所定の軸の方向と異なる、ことを特徴とする請求項11〜請求項13のいずれか一項に記載された方法。 - 前記第1のGaN系半導体のa軸方向のオフ角は−3度以上+3度以下の範囲にある、ことを特徴とする請求項11〜請求項14のいずれか一項に記載された方法。
- 前記ウエハの前記主面における前記傾斜角は、該第1のGaN系半導体の(20−21)面及び(20−2−1)面のいずれかの結晶面から−3度以上+3度以下の範囲で分布している、ことを特徴とする請求項11〜請求項15のいずれか一項に記載された方法。
- 前記ウエハはInSAlTGa1−S−TN(0≦S≦1、0≦T≦1、0≦S+T<1)からなる、ことを特徴とする請求項11〜請求項16のいずれか一項に記載された方法。
- 前記ウエハはGaNからなる、ことを特徴とする請求項11〜請求項17のいずれか一項に記載された方法。
- 前記ウエハの前記主面の表面モフォロジは複数のマイクロステップを有しており、該マイクロステップの主要な構成面は、少なくともm面及び(10−11)面を含む、ことを特徴とする請求項11〜請求項18のいずれか一項に記載された方法。
- GaN系半導体光素子のためのエピタキシャルウエハであって、
第1のGaN系半導体からなり、該第1のGaN系半導体のc軸に沿って延びる基準軸に直交する面から該第1のGaN系半導体のm軸の方向に67度以上80度未満の範囲の傾斜角で傾斜した主面を有する基板と、
前記主面上に設けられたGaN系半導体エピタキシャル領域と、
前記GaN系半導体エピタキシャル領域上に設けられ、活性層のための半導体エピタキシャル層と
を備え、
前記半導体エピタキシャル層は第2のGaN系半導体からなり、前記第2のGaN系半導体はインジウムを含み、
前記活性層は、480nm以上600nm以下の波長範囲の光を生成するように設けられており、
前記基準軸の向きは、前記第1のGaN系半導体の[0001]軸及び[000−1]軸のいずれかの方向である、ことを特徴とするエピタキシャルウエハ。 - 前記ウエハの前記主面は、該第1のGaN系半導体のm軸の方向に前記基準軸に直交する面から71度以上79度以下の角度で傾斜している、ことを特徴とする請求項20に記載されたエピタキシャルウエハ。
- GaN系半導体膜を成長する方法であって、
主要な構成面として少なくともm面及び(10−11)面を含む複数のマイクロステップを有する表面を有するGaN系半導体領域を形成する工程と、
前記GaN系半導体領域の前記表面上に、構成元素としてInを含むGaN系半導体膜を成長する工程と
を備え、
前記GaN系半導体領域の前記表面は、該GaN系半導体領域のc軸に沿って延びる基準軸に直交する面から該GaN系半導体領域のm軸の方向に67度以上80度未満の範囲の傾斜角で傾斜している、ことを特徴とする方法。 - 前記GaN系半導体領域の前記表面は、該GaN系半導体領域のm軸の方向に前記基準軸に直交する面から71度以上79度以下の角度で傾斜している、ことを特徴とする請求項22に記載された方法。
- GaN系半導体光素子を作製する方法であって、
第1のGaN系半導体からなるウエハを熱処理する工程と、
前記ウエハの主面上に、第1導電型GaN系半導体層を含むGaN系半導体エピタキシャル領域を成長する工程と、
前記GaN系半導体エピタキシャル領域の主面上に、活性層のための半導体エピタキシャル層を成長する工程と、
前記活性層上に第2導電型GaN系半導体層を形成して、エピタキシャルウエハを作製する工程と、
前記エピタキシャルウエハを形成した後に、前記GaN系半導体光素子のためのアノード電極及びカソード電極を形成して基板生産物を作製する工程と、
前記第1のGaN系半導体のm軸方向に合わせて、前記基板生産物の主面の表面にスクライブを行う工程と、
前記基板生産物にスクライブを行った後に、前記基板生産物のへき開を行ってへき開面を形成する工程と
を備え、
前記基板生産物は、GaN系半導体エピタキシャル領域、半導体エピタキシャル層及び第2導電型GaN系半導体層を含む半導体積層を含み、
前記半導体積層は、前記基板生産物の前記主面と前記ウエハの前記主面との間にあり、
前記へき開面はa面を含み、
前記ウエハは、該第1のGaN系半導体のc軸に沿って延びる基準軸に直交する面から前記第1のGaN系半導体のm軸の方向に67度以上80度未満の範囲の傾斜角で傾斜した主面を有しており、
前記半導体エピタキシャル層は第2のGaN系半導体からなり、前記第2のGaN系半導体は構成元素としてインジウムを含み、
前記基準軸は、前記第1のGaN系半導体の[000−1]軸の方向に向いている、ことを特徴とする方法。 - 前記ウエハの前記主面は、該第1のGaN系半導体のm軸の方向に前記基準軸に直交する面から71度以上79度以下の角度で傾斜している、ことを特徴とする請求項24に記載された方法。
- GaN系半導体光素子を作製する方法であって、
第1のGaN系半導体からなるウエハを熱処理する工程と、
前記ウエハの主面上に、第1導電型GaN系半導体層を含むGaN系半導体エピタキシャル領域を成長する工程と、
前記GaN系半導体エピタキシャル領域の主面上に、活性層のための半導体エピタキシャル層を成長する工程と、
前記活性層上に第2導電型GaN系半導体層を形成して、エピタキシャルウエハを作製する工程と、
前記エピタキシャルウエハを形成した後に、前記GaN系半導体光素子のためのアノード電極及びカソード電極を形成して基板生産物を作製する工程と、
前記第1のGaN系半導体のm軸方向に合わせて、前記基板生産物の主面の反対側の裏面にスクライブを行う工程と、
前記基板生産物にスクライブを行った後に、前記基板生産物のへき開を行ってへき開面を形成する工程と
を備え、
前記基板生産物は、GaN系半導体エピタキシャル領域、半導体エピタキシャル層及び第2導電型GaN系半導体層を含む半導体積層を含み、
前記半導体積層は、前記基板生産物の前記主面と前記ウエハの前記主面との間にあり、
前記へき開面はa面を含み、
前記ウエハの主面は(20−21)面を有しており、
前記半導体エピタキシャル層は第2のGaN系半導体からなり、前記第2のGaN系半導体は構成元素としてインジウムを含み、
前記第1のGaN系半導体のc軸に沿って延びる基準軸は、前記第1のGaN系半導体の[0001]軸の方向に向いている、ことを特徴とする方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011228092A JP5182407B2 (ja) | 2008-08-04 | 2011-10-17 | GaN系半導体光素子、GaN系半導体光素子を作製する方法、エピタキシャルウエハ及びGaN系半導体膜を成長する方法 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008201039 | 2008-08-04 | ||
JP2008201039 | 2008-08-04 | ||
JP2009094335 | 2009-04-08 | ||
JP2009094335 | 2009-04-08 | ||
JP2011228092A JP5182407B2 (ja) | 2008-08-04 | 2011-10-17 | GaN系半導体光素子、GaN系半導体光素子を作製する方法、エピタキシャルウエハ及びGaN系半導体膜を成長する方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010021503A Division JP2010263184A (ja) | 2008-08-04 | 2010-02-02 | GaN系半導体光素子、GaN系半導体光素子を作製する方法、エピタキシャルウエハ及びGaN系半導体膜を成長する方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012015555A JP2012015555A (ja) | 2012-01-19 |
JP2012015555A5 true JP2012015555A5 (ja) | 2012-03-22 |
JP5182407B2 JP5182407B2 (ja) | 2013-04-17 |
Family
ID=43361004
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010021503A Pending JP2010263184A (ja) | 2008-08-04 | 2010-02-02 | GaN系半導体光素子、GaN系半導体光素子を作製する方法、エピタキシャルウエハ及びGaN系半導体膜を成長する方法 |
JP2011228095A Active JP5206854B2 (ja) | 2008-08-04 | 2011-10-17 | GaN系半導体レーザ、GaN系半導体レーザを作製する方法 |
JP2011228092A Active JP5182407B2 (ja) | 2008-08-04 | 2011-10-17 | GaN系半導体光素子、GaN系半導体光素子を作製する方法、エピタキシャルウエハ及びGaN系半導体膜を成長する方法 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010021503A Pending JP2010263184A (ja) | 2008-08-04 | 2010-02-02 | GaN系半導体光素子、GaN系半導体光素子を作製する方法、エピタキシャルウエハ及びGaN系半導体膜を成長する方法 |
JP2011228095A Active JP5206854B2 (ja) | 2008-08-04 | 2011-10-17 | GaN系半導体レーザ、GaN系半導体レーザを作製する方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JP2010263184A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6046383B2 (ja) * | 2012-06-12 | 2016-12-14 | ソウル バイオシス カンパニー リミテッドSeoul Viosys Co.,Ltd. | 量子井戸構造および該量子井戸構造を含む窒化物半導体素子 |
JP6266742B1 (ja) | 2016-12-20 | 2018-01-24 | 古河機械金属株式会社 | Iii族窒化物半導体基板、及び、iii族窒化物半導体基板の製造方法 |
WO2020017223A1 (ja) * | 2018-07-20 | 2020-01-23 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 半導体発光素子および半導体発光素子の製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4307113B2 (ja) * | 2002-03-19 | 2009-08-05 | 宣彦 澤木 | 半導体発光素子およびその製造方法 |
JP2006128661A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-05-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 窒化物系半導体レーザ |
JP4928874B2 (ja) * | 2006-08-31 | 2012-05-09 | 三洋電機株式会社 | 窒化物系半導体発光素子の製造方法および窒化物系半導体発光素子 |
JP2008109066A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-05-08 | Rohm Co Ltd | 発光素子 |
JP5564162B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2014-07-30 | フューチャー ライト リミテッド ライアビリティ カンパニー | 発光ダイオード装置 |
JP2009088230A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体発光素子およびその製造方法 |
-
2010
- 2010-02-02 JP JP2010021503A patent/JP2010263184A/ja active Pending
-
2011
- 2011-10-17 JP JP2011228095A patent/JP5206854B2/ja active Active
- 2011-10-17 JP JP2011228092A patent/JP5182407B2/ja active Active
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