JP2015097253A - 多層配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】コンフォーマル工法又はダイレクトレーザ工法を用いて、上層配線用の金属箔から内層配線に到るビアホール用穴と、このビアホール用穴の開口部に形成される上層配線用の金属箔の飛び出しと、この金属箔の飛び出しと前記ビアホール用穴の内壁との間に形成される下方空間と、を設ける工程(1)と、前記ビアホール用穴内及び上層配線用の金属箔上に電解フィルドめっき層を形成することによって前記ビアホール用穴を穴埋めする工程(2)と、を有し、前記工程(2)における、電解フィルドめっき層の形成によるビアホール用穴の穴埋めが、電解フィルドめっきの電流密度を電解フィルドめっきの途中で一旦低下させ、再び増加させて行われる多層配線基板の製造方法。
【選択図】図1
Description
1. 内層配線を形成した内層材と絶縁層と上層配線用の金属箔とを積層一体化し、コンフォーマル工法又はダイレクトレーザ工法を用いて、前記上層配線用の金属箔及び絶縁層に、前記上層配線用の金属箔から内層配線に到るビアホール用穴と、このビアホール用穴の開口部に形成される上層配線用の金属箔の飛び出しと、この金属箔の飛び出しと前記ビアホール用穴の内壁との間に形成される下方空間と、を設ける工程(1)と、前記ビアホール用穴内及び上層配線用の金属箔上に、下地無電解めっき層を形成した後、電解フィルドめっき層を形成することによって前記ビアホール用穴を穴埋めし、前記上層配線用金属箔と内層配線とを接続するビアホールを形成する工程(2)と、前記電解フィルドめっき層を形成後の上層配線用金属箔を配線形成して、上層配線を形成する工程(3)と、を有する多層配線基板の製造方法であって、前記工程(2)における、電解フィルドめっき層の形成によるビアホール用穴の穴埋めが、電解フィルドめっきの電流密度を電解フィルドめっきの途中で一旦低下させ、再び増加させて行われ、前記工程(2)における、電解フィルドめっきの電流密度を一旦低下させるタイミングが、ビアホール用穴の開口部に形成された上層配線用の金属箔の飛び出しと前記ビアホール用穴の内壁との間の下方空間を電解フィルドめっきが充填し、かつ、ビアホール用穴の底面に析出した電解フィルドめっき層の厚みが前記ビアホール用穴の内壁及び前記上層配線用金属箔上に析出した電解フィルドめっき層の厚み以下のときである多層配線基板の製造方法。
2. 項1において、前記工程(2)における、電解フィルドめっきの電流密度を一旦低下させるタイミングが、ビアホールの断面形状が、ビアホール用穴の開口部に形成された上層配線用の金属箔の飛び出しと前記ビアホール用穴の内壁との間の下方空間を電解フィルドめっきが充填し、かつ、ビアホール用穴の底面に析出した電解フィルドめっき層の厚みが前記ビアホール用穴の内壁及び前記上層配線用金属箔上に析出した電解フィルドめっき層の厚み以下のときであって、前記電解フィルドめっき前のビアホール用穴の開口径に対するビアホール用穴の深さの比であるアスペクト比と同等以上のアスペクト比が維持されるときである多層配線基板の製造方法。
3. 項1又は2において、前記工程(2)における、電解フィルドめっきの電流密度を一旦低下させるタイミングが、ビアホール用穴の開口部に形成された上層配線用の金属箔の飛び出しと前記ビアホール用穴の内壁との間の下方空間を電解フィルドめっきが充填し、かつ、めっきボイドが形成される前である多層配線基板の製造方法。
4. 項1から3の何れかにおいて、前記工程(2)における、電解フィルドめっきの電流密度を電解フィルドめっきの途中で一旦低下させる際の電流密度の低下率が、低下させる直前の50%以上である多層配線基板の製造方法。
5. 項記1から4の何れかにおいて、前記工程(2)における、電解フィルドめっきの電流密度を電解フィルドめっきの途中で一旦低下させた後、再び増加させる際の電流密度が、前記一旦低下させる直前の電流密度以上である多層配線基板の製造方法。
なお、電解フィルドめっき前のビアホール用穴の開口径に対するビアホール用穴の深さの比であるアスペクト比が、1.5から2程度と比較的大きい場合には、ビアホール用穴の底面に対しても、上層配線用金属箔上と同様に、抑制剤の作用によって電解フィルドめっき析出が抑制される。このため、ビアホール用穴の底面の電解フィルドめっき層厚みが上層配線用金属箔上と同等、あるいはそれ以下となりやすいので好ましい。
まず、図1の工程(1−1)に示すように、内層配線1を形成した内層材2に、絶縁層3となる樹脂フィルムの厚みが30μmで、上層配線10用の銅箔4となる銅箔4の厚みが5μmの片面銅箔付樹脂フィルムを、120℃、2MPaの条件で真空ラミネートした。次に、この上層配線10用の銅箔4の表面に、厚さ0.3〜0.5μmの黒化処理層8を形成した後、図1の工程(1−2)に示すように、CO2レーザによるダイレクトレーザ工法により、直径30μmのビアホール用穴5を加工した。つまり、このビアホール用穴5は、深さが、樹脂フィルムの厚さ(30μm)と銅箔4の厚さ(5μm)を合わせた35μmであり、銅箔4の開口部の直径が35μmであった。このため、アスペクト比は、約1.0であった。ビアホール用穴5の開口部に上層配線10用の銅箔4の飛び出し12が生じ、この上層配線10用の銅箔4の飛び出し12とビアホール用穴5の内壁18との間に下方空間13が形成した。銅箔4の飛び出し量は、ビアホール用穴5の片側で約8μmであった。また、上層配線10用の銅箔4の飛び出し12とビアホール用穴5の内壁との間に形成される下方空間13の中でも、上層配線10用の銅箔4の飛び出し12の裏面近傍の領域には、直下部17が形成した。
実施例1と同様にして、図1の工程(1−1)〜、図2の工程(2−1)までを進めた。次に、図2の工程(2−2)に示すように、上層配線10用の銅箔4上の厚さとしては2μm、ビアホール用穴5内の底面19の厚さとして2〜15μmの一段目の電解フィルド銅めっき層7を形成する。電解フィルド銅めっき液には、実施例1と同じものを用いた。このときの一段目の電解フィルド銅めっきの条件は、1.0A/dm2の電流密度で、約8分であった。
実施例1と同様にして、図1の工程(1−1)〜、図2の工程(2−1)までを進めた。次に、図2の工程(2−2)に示すように、上層配線10用の銅箔4上の厚さとしては2μm、ビアホール用穴5内の底面19の厚さとして2〜15μmの一段目の電解フィルド銅めっき層7を形成する。電解めっき液には、実施例1と同じものを用いた。このときの一段目の電解フィルド銅めっきの条件は、1.0A/dm2の電流密度で、約8分であった。
実施例1と同様にして、図1の工程(1−1)〜、図2の工程(2−1)までを進めた。次に、図2の工程(2−2)に示すように、上層配線10用の銅箔4上の厚さとしては2μm、ビアホール用穴5内の底面19の厚さとして2〜15μmの一段目の電解フィルド銅めっき層7を形成する。電解めっき液には、実施例1と同じものを用いた。このとき、一段目の電解フィルド銅めっきの条件は、1.0A/dm2の電流密度で、約8分であった。
実施例1と同様にして、図1の工程(1−1)〜、図2の工程(2−1)までを進めた。次に、図2の工程(2−2)に示すように、上層配線10用の銅箔4上の厚さとしては1μm、ビアホール用穴5内の底面19の厚さとして1〜7μmの一段目の電解フィルド銅めっき層7を形成する。電解フィルドめっき液には、実施例1と同じものを用いた。このとき、一段目の電解フィルド銅めっきの条件は、1.0A/dm2の電流密度で、約4分であった。
実施例1と同様にして、図1の工程(1−1)〜、図2の工程(2−1)までを進めた。次に、図5の工程(2−2)に示すように、上層配線10用の銅箔4上の厚さとしては20μmの一段目の電解フィルド銅めっき層7を、1段階で形成した。電解フィルド銅めっき液には、実施例1と同じものを用いた。このとき、一段目の電解フィルド銅めっきの条件は、1.0A/dm2の電流密度で、約88分であった。次に、実施例1と同様にして、図3の工程(3−1)から(3−3)までを進めた。
実施例1と同様にして、図1の工程(1−1)〜、図2の工程(2−1)までを進めた。次に、図4の工程(2−2)に示すように、上層配線10用の銅箔4上の厚さとしては0.5μm、ビアホール用穴5内の底面19の厚さとして0.5〜3μmの一段目の電解フィルド銅めっき層7を形成する。電解フィルド銅めっき液には、実施例1と同じものを用いた。このとき、一段目の電解フィルド銅めっきの条件は、1.0A/dm2の電流密度で、約2分であった。このとき、一段目の電解フィルド銅めっき層7を形成したビアホール15の断面形状は、一段目の電解フィルド銅めっき層7が下方空間13を充填していなかった。
2.内層材
3.プリプレグ又は絶縁層
4.金属箔又は銅箔
5.ビアホール用穴
6.無電解めっき層又は無電解銅めっき層
7.一段目の電解フィルドめっき層又は一段目の電解フィルド銅めっき層
8.黒化処理層
9.二段目の電解フィルドめっき層又は二段目の電解フィルド銅めっき層
10.上層配線
11.エッチングレジスト
12.金属箔の飛び出し
13.下方空間
14.凹み
15.ビアホール又は層間接続
16.ボイド
17.直下部
18.内壁
19.底部又は底面
20.(内部の)直径
21.(開口部の)直径
Claims (5)
- 内層配線を形成した内層材と絶縁層と上層配線用の金属箔とを積層一体化し、コンフォーマル工法又はダイレクトレーザ工法を用いて、前記上層配線用の金属箔及び絶縁層に、前記上層配線用の金属箔から内層配線に到るビアホール用穴と、このビアホール用穴の開口部に形成される上層配線用の金属箔の飛び出しと、この金属箔の飛び出しと前記ビアホール用穴の内壁との間に形成される下方空間と、を設ける工程(1)と、前記ビアホール用穴内及び上層配線用の金属箔上に、下地無電解めっき層を形成した後、電解フィルドめっき層を形成することによって前記ビアホール用穴を穴埋めし、前記上層配線用金属箔と内層配線とを接続するビアホールを形成する工程(2)と、前記電解フィルドめっき層を形成後の上層配線用金属箔を配線形成して、上層配線を形成する工程(3)と、を有する多層配線基板の製造方法であって、
前記工程(2)における、電解フィルドめっき層の形成によるビアホール用穴の穴埋めが、電解フィルドめっきの電流密度を電解フィルドめっきの途中で一旦低下させ、再び増加させて行われ、
前記工程(2)における、電解フィルドめっきの電流密度を一旦低下させるタイミングが、ビアホール用穴の開口部に形成された上層配線用の金属箔の飛び出しと前記ビアホール用穴の内壁との間の下方空間を電解フィルドめっきが充填し、かつ、ビアホール用穴の底面に析出した電解フィルドめっき層の厚みが前記ビアホール用穴の内壁及び前記上層配線用金属箔上に析出した電解フィルドめっき層の厚み以下のときである多層配線基板の製造方法。 - 請求項1において、前記工程(2)における、電解フィルドめっきの電流密度を一旦低下させるタイミングが、ビアホールの断面形状が、ビアホール用穴の開口部に形成された上層配線用の金属箔の飛び出しと前記ビアホール用穴の内壁との間の下方空間を電解フィルドめっきが充填し、
かつ、ビアホール用穴の底面に析出した電解フィルドめっき層の厚みが前記ビアホール用穴の内壁及び前記上層配線用金属箔上に析出した電解フィルドめっき層の厚み以下のときであって、
前記電解フィルドめっき前のビアホール用穴の開口径に対するビアホール用穴の深さの比であるアスペクト比と同等以上のアスペクト比が維持されるときである多層配線基板の製造方法。 - 請求項1又は2において、前記工程(2)における、電解フィルドめっきの電流密度を一旦低下させるタイミングが、ビアホール用穴の開口部に形成された上層配線用の金属箔の飛び出しと前記ビアホール用穴の内壁との間の下方空間を電解フィルドめっきが充填し、かつ、めっきボイドが形成される前である多層配線基板の製造方法。
- 請求項1から3の何れかにおいて、前記工程(2)における、電解フィルドめっきの電流密度を電解フィルドめっきの途中で一旦低下させる際の電流密度の低下率が、低下させる直前の50%以上である多層配線基板の製造方法。
- 請求項1から4の何れかにおいて、前記工程(2)における、電解フィルドめっきの電流密度を電解フィルドめっきの途中で一旦低下させた後、再び増加させる際の電流密度が、前記一旦低下させる直前の電流密度以上である多層配線基板の製造方法。
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