JP2015091576A - 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いたパターンの形成方法 - Google Patents
硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いたパターンの形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015091576A JP2015091576A JP2014204769A JP2014204769A JP2015091576A JP 2015091576 A JP2015091576 A JP 2015091576A JP 2014204769 A JP2014204769 A JP 2014204769A JP 2014204769 A JP2014204769 A JP 2014204769A JP 2015091576 A JP2015091576 A JP 2015091576A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- part containing
- portion including
- pattern
- curable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【課題】速硬化性に優れた硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた、簡便なパターンの製造方法を提供すること。【解決手段】（Ａ）分子中に２個以上のアルケニル基を含有するアルケニル基含有ポリオルガノシロキサン；（Ｂ）ケイ素原子に結合した水素原子を、分子中に２個以上有するポリオルガノハイドロジェンシロキサン；及び（Ｃ）白金系触媒を含み、（Ａ）のアルケニル基の個数ＶｉＡに対する、（Ｂ）のケイ素原子に結合した水素原子の個数ＨＢの比が０．５〜１００であり、（Ｃ）が、白金系金属原子として、０．５ｐｐｍ以上である、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた、パターンの製造方法であって、基材を準備する工程、及び基材の上に、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の部分を適用して、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を配置することにより、パターンを形成する工程を含む、パターンの製造方法。【選択図】なし
Description
本発明は、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いたパターンの形成方法に関する。
特許文献１には、１分子中に加水分解性シリル基を平均して少なくとも一個有する化合物、及び、１分子中に重合性の炭素−炭素二重結合を平均して少なくとも一個有する化合物を含有するフラットパネルディスプレイ表示モジュール／透明カバーボード間充填用硬化性組成物が開示されている。特許文献１に記載された組成物は、光によって速硬化可能で、かつ光の当らない部分についても大気中の湿気と反応して硬化する硬化性ポリオルガノシロキサン組成物である。また、特許文献２には、加熱により硬化する２成分系の付加反応型シリコーンゲルが開示されている。
特許文献３には、インクジェット式液滴塗布装置を用いて、基材上に、２液反応硬化型接着剤であるエポキシ樹脂を塗布してパターンを形成する技術が開示されている。
特許文献１に開示されている組成物では、塗布装置内で硬化が発生するため、塗布装置の詰まりを生じる問題や、そもそも湿気との反応時間が長く、硬化反応が非常に遅いという問題があった。特許文献２に開示されている熱硬化型の組成物を表示装置及び保護板に介在させ熱硬化させた際に、硬化時間が長いという問題があった。特許文献３には、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物への応用は開示されていない。
以上のように、硬化反応において放射線の照射装置や加熱装置など特別な装置を用いる必要がない、新たな硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた簡便なパターンの形成方法に対する要望が高まっている。
本発明は、速硬化性に優れた硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた、簡便なパターンの製造方法を提供することを目的とする。
本発明及びその好適な態様としては、以下が挙げられる。
［１］（Ａ）分子中に２個以上のアルケニル基を含有するアルケニル基含有ポリオルガノシロキサン；
（Ｂ）ケイ素原子に結合した水素原子を、分子中に２個以上有するポリオルガノハイドロジェンシロキサン；及び
（Ｃ）白金系触媒
を含み、
（Ａ）のアルケニル基の個数ＶｉＡに対する、（Ｂ）のケイ素原子に結合した水素原子の個数ＨＢの比が０．５〜１００であり、
（Ｃ）が、白金系金属原子として、０．５ｐｐｍ以上である、
硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた、パターンの製造方法であって、
基材を準備する工程、及び
基材の上に、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の部分を適用して、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を配置することにより、パターンを形成する工程
を含む、パターンの製造方法。
［２］インクジェット式液滴塗布装置を用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の部分を適用する、［１］の製造方法。
［３］インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分を適用し、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を適用する、［１］又は［２］の製造方法。
［４］インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて形成した、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分の液滴と同一の位置に、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分の液滴を形成する、［１］〜［３］のいずれか一項記載の製造方法。
［５］基材を準備する工程が、さらに
別の基材の準備する工程、及び
２つの基材の間に隙間を形成する工程を含み、
パターンを形成する工程が、２つの基材の間に形成された隙間の端部に、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の硬化性部分を適用する工程を含む、［１］〜［４］のいずれかの製造方法。
［６］隙間が１〜２，０００μｍである、［５］の製造方法。
［７］（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分の粘度が、２３℃で、５０〜８，０００ｃＰである、［１］〜［６］のいずれかの製造方法。
［８］基材が、画像表示装置の画像表示部を有する基部であり、別の基材が、画像表示装置の透光性の保護部である、［５］〜［７］のいずれかの製造方法。
［１］（Ａ）分子中に２個以上のアルケニル基を含有するアルケニル基含有ポリオルガノシロキサン；
（Ｂ）ケイ素原子に結合した水素原子を、分子中に２個以上有するポリオルガノハイドロジェンシロキサン；及び
（Ｃ）白金系触媒
を含み、
（Ａ）のアルケニル基の個数ＶｉＡに対する、（Ｂ）のケイ素原子に結合した水素原子の個数ＨＢの比が０．５〜１００であり、
（Ｃ）が、白金系金属原子として、０．５ｐｐｍ以上である、
硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた、パターンの製造方法であって、
基材を準備する工程、及び
基材の上に、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の部分を適用して、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を配置することにより、パターンを形成する工程
を含む、パターンの製造方法。
［２］インクジェット式液滴塗布装置を用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の部分を適用する、［１］の製造方法。
［３］インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分を適用し、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を適用する、［１］又は［２］の製造方法。
［４］インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて形成した、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分の液滴と同一の位置に、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分の液滴を形成する、［１］〜［３］のいずれか一項記載の製造方法。
［５］基材を準備する工程が、さらに
別の基材の準備する工程、及び
２つの基材の間に隙間を形成する工程を含み、
パターンを形成する工程が、２つの基材の間に形成された隙間の端部に、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の硬化性部分を適用する工程を含む、［１］〜［４］のいずれかの製造方法。
［６］隙間が１〜２，０００μｍである、［５］の製造方法。
［７］（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分の粘度が、２３℃で、５０〜８，０００ｃＰである、［１］〜［６］のいずれかの製造方法。
［８］基材が、画像表示装置の画像表示部を有する基部であり、別の基材が、画像表示装置の透光性の保護部である、［５］〜［７］のいずれかの製造方法。
本発明によれば、速硬化性に優れた硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた、簡便なパターンの製造方法が提供される。
＜硬化性ポリオルガノシロキサン組成物＞
パターンの製造方法において、基材の上に配置される、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物（以下、単に「組成物」ともいう。）に含まれる各成分について説明する。
パターンの製造方法において、基材の上に配置される、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物（以下、単に「組成物」ともいう。）に含まれる各成分について説明する。
（Ａ）アルケニル基含有ポリオルガノシロキサンは、本発明の硬化性ポリオルガノシロキサン組成物において、ベースポリマーとなる成分である。（Ａ）を配合することによって、硬化時に架橋反応による安定した３次元構造を確保し、硬化収縮を制御し、良好な視認性を確保することができる。（Ａ）は、ケイ素原子に結合したアルケニル基を１分子中に平均で２個以上有し、（Ｂ）のＳｉ−Ｈ結合との付加反応により、網状構造を形成することができるものであれば、どのようなものであってもよい。代表的には、一般式（Ｉ）：
（Ｒａ）ｎ１（Ｒｂ）ｎ２ＳｉＯ（４−ｎ１−ｎ２）/２ （Ｉ）
（式中、
Ｒａは、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基（例えば、ビニル、アリル、３−ブテニル、５−ヘキセニル）であり；
Ｒｂは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル）又はフェニルであり；
ｎ１は、１又は２であり；
ｎ２は、０〜２の整数であり、ただし、ｎ１＋ｎ２は１〜３である）
で示されるアルケニル基含有シロキサン単位を、分子中に少なくとも平均で２個有するアルケニル基含有ポリオルガノシロキサンである。アルケニル基は、分子中に平均で２〜１００個存在することが好ましく、より好ましくは２〜５０個である。
（Ｒａ）ｎ１（Ｒｂ）ｎ２ＳｉＯ（４−ｎ１−ｎ２）/２ （Ｉ）
（式中、
Ｒａは、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基（例えば、ビニル、アリル、３−ブテニル、５−ヘキセニル）であり；
Ｒｂは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル）又はフェニルであり；
ｎ１は、１又は２であり；
ｎ２は、０〜２の整数であり、ただし、ｎ１＋ｎ２は１〜３である）
で示されるアルケニル基含有シロキサン単位を、分子中に少なくとも平均で２個有するアルケニル基含有ポリオルガノシロキサンである。アルケニル基は、分子中に平均で２〜１００個存在することが好ましく、より好ましくは２〜５０個である。
（Ａ）のシロキサン骨格は、直鎖状でも分岐状でもよい。合成および平均重合度の制御が容易なことから、（Ａ）は、直鎖状のものが好ましい。また、これらの混合物を用いてもよい。
Ｒａは、合成が容易で、また硬化前の流動性や、硬化物の耐熱性を損ねないという点から、ビニル基が好ましい。Ｒａは、（Ａ）のポリオルガノシロキサン分子鎖の末端又は途中のいずれに存在してもよく、その両方に存在してもよいが、硬化後の組成物に優れた機械的性質を与えるためには、少なくともその両末端に存在していることが好ましい。
Ｒｂは、合成が容易で、流動性や硬化後の機械的強度等のバランスが優れているという点から、メチル基が特に好ましい。
ｎ１は、合成が容易なことから、１が好ましい。
（Ａ）は、作業性の観点から、２３℃における粘度が、１〜１００，０００ｃＰであることが好ましく、１〜５０，０００ｃＰがより好ましく、１〜１５，０００ｃＰが特に好ましい。これらの粘度範囲になるように、（Ａ）の重量平均分子量を調整することが好ましい。また、これらの粘度範囲になるように、粘度の高い（Ａ）と粘度の低い（Ａ）を併用することがより好ましい。
なお、本発明における粘度は、回転粘度計を用いて、２３℃の条件で測定した値である。
なお、本発明における粘度は、回転粘度計を用いて、２３℃の条件で測定した値である。
よって、（Ａ）としては、式（Ｉａ）：
（式中、
Ｒａは、独立して、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基（例えば、ビニル、アリル、３−ブテニル、５−ヘキセニル、好ましくはビニル）であり、
Ｒｂは、独立して、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、好ましくはメチル）又はフェニル基であり、
ｍ１は、（Ａ）の２３℃における粘度を１〜１００，０００ｃＰ（好ましくは１〜５０，０００ｃＰ、より好ましくは１〜１５，０００ｃＰ）にする数である）で示されるアルケニル基含有直鎖状ポリオルガノシロキサンが好ましい。
（式中、
Ｒａは、独立して、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基（例えば、ビニル、アリル、３−ブテニル、５−ヘキセニル、好ましくはビニル）であり、
Ｒｂは、独立して、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、好ましくはメチル）又はフェニル基であり、
ｍ１は、（Ａ）の２３℃における粘度を１〜１００，０００ｃＰ（好ましくは１〜５０，０００ｃＰ、より好ましくは１〜１５，０００ｃＰ）にする数である）で示されるアルケニル基含有直鎖状ポリオルガノシロキサンが好ましい。
さらに、（Ａ）としては、両末端がジメチルビニルシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位からなるポリメチルビニルシロキサンであって、２３℃における粘度が１〜１００，０００ｃＰ（好ましくは５〜５０，０００ｃＰ、より好ましくは１０〜１５，０００ｃＰ）である、アルケニル基含有直鎖状ポリオルガノシロキサンがより好ましい。
（Ｂ）のポリオルガノハイドロジェンシロキサンは、分子中に含まれるヒドロシリル基が、（Ａ）のＲａとの間で付加反応することにより、（Ａ）の架橋剤として機能するものである。硬化物を網状化するために、該付加反応に関与するケイ素原子に結合した水素原子を、平均で２個以上有しているものであれば、特に限定されない。このようなポリオルガノハイドロジェンシロキサンは、代表的には、一般式（II）：
（Ｒｃ）ｎ３（Ｒｄ）ｎ４ＳｉＯ（４−ｎ３−ｎ４）/２ （II）
（式中、
Ｒｃは、水素原子であり、
Ｒｄは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、好ましくはメチル）又はフェニル基であり；
ｎ３は、１又は２であり；
ｎ４は、０〜２の整数であり、ただし、ｎ３＋ｎ４は１〜３である）
で示される単位を分子中に２個以上有する。
（Ｒｃ）ｎ３（Ｒｄ）ｎ４ＳｉＯ（４−ｎ３−ｎ４）/２ （II）
（式中、
Ｒｃは、水素原子であり、
Ｒｄは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、好ましくはメチル）又はフェニル基であり；
ｎ３は、１又は２であり；
ｎ４は、０〜２の整数であり、ただし、ｎ３＋ｎ４は１〜３である）
で示される単位を分子中に２個以上有する。
Ｒｄは、好ましいものも含め、前述の（Ａ）におけるＲｂと同様のものが例示される。また、合成が容易なことから、ｎ３は１が好ましい。
（Ｂ）におけるシロキサン骨格は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよく、直鎖状又は環状が好ましい。また、これらの混合物を用いてもよい。
（Ｂ）は、２３℃における粘度が１〜１０，０００ｃＰであるのが好ましく、１〜１，０００ｃＰであるのがより好ましく、１〜２００ｃＰであるのがさらに好ましく、１〜５０ｃＰであるのが特に好ましい。
（Ｂ）が環状の場合、（Ｂ１）Ｒｅ ２ＨＳｉＯ１／２単位（式中、Ｒｅは水素原子又はＣ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、好ましくはメチル）である）及びＳｉＯ４／２単位からなり、一分子中に、ケイ素原子に結合した水素原子を２個以上有する、環状ポリオルガノハイドロジェンシロキサンが挙げられる。
（Ｂ１）は、Ｒｅ ２ＨＳｉＯ１／２単位及びＳｉＯ４／２単位からなり、一分子中に、ケイ素原子に結合した水素原子を２個以上有する、環状ポリオルガノハイドロジェンシロキサンである。（Ｂ１）における水素原子は、一分子中、３〜１００個であることが好ましく、３〜５０個であるのがより好ましい。Ｃ１−Ｃ６アルキル基としてのＲｅは、合成の容易さ等の点から、メチルが好ましい。
（Ｂ１）としては、Ｒｅ ２ＨＳｉＯ１／２単位とＳｉＯ４／２単位の比率が、ＳｉＯ４／２単位１モルに対してＲｅ ２ＨＳｉＯ１／２単位１．５〜２．２モルが好ましく、１．８〜２．１モルがさらに好ましい。典型的には、［Ｒｅ ２ＨＳｉＯ１／２］８［ＳｉＯ４／２］４又は［Ｒｅ ２ＨＳｉＯ１／２］１０［ＳｉＯ４／２］５のように、３〜５個のＳｉＯ４／２単位が環状シロキサン骨格を形成し、各ＳｉＯ４／２単位に２個のＲｅ ２ＨＳｉＯ１／２単位が結合しているものが、好ましく、特に好ましくは、各ＳｉＯ４／２単位に２個の（ＣＨ３）２ＨＳｉＯ１／２単位が結合しているものである。
（Ｂ１）の粘度は、１〜１００ｃＰが好ましく、１〜５０ｃＰがより好ましい。
（Ｂ）が直鎖状の場合、両末端が、それぞれ独立して、Ｒ３ＳｉＯ１／２単位で閉塞され、中間単位がＲ２ＳｉＯ２／２単位からなり（式中、Ｒは、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルであり、好ましくはメチルである）又はフェニル基であるが、ただし、Ｒのうち、少なくとも２つは水素原子である）、２３℃における粘度が１〜１０，０００ｃＰ（好ましくは１〜５，０００ｃＰ、より好ましくは１〜１，０００ｃＰ）である、直鎖状ポリオルガノハイドロジェンシロキサンである。ケイ素原子に結合する水素原子は、末端に存在していても、中間単位に存在していてもよい。
例えば、（Ｂ２）式（III）：
（式中、
Ｒｃは、水素原子であり、
Ｒｄは、独立して、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、好ましくはメチル）又はフェニル基であり、
ｍ２は、（Ｂ２）の２３℃における粘度を１〜１０，０００ｃＰ（好ましくは１〜５，０００ｃＰ、より好ましくは１〜１，０００ｃＰ）とする数である）で示される、直鎖状ポリオルガノハイドロジェンシロキサン；
（Ｂ３）両末端がＲｄ ３ＳｉＯ１／２単位で閉塞され、中間単位がＲｃＲｄＳｉＯ２／２単位及びＲｄ ２ＳｉＯ２／２単位（式中、Ｒｃは、水素原子であり、Ｒｄは、独立して、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、好ましくはメチル）又はフェニル基である）からなり、２３℃における粘度が１〜１０，０００ｃＰ（好ましくは１〜５，０００ｃＰ、より好ましくは１〜１，０００ｃＰ）である、直鎖状ポリオルガノハイドロジェンシロキサン；及び
（Ｂ４）両末端がＲｃＲｄ ２ＳｉＯ１／２単位で閉塞され、中間単位がＲｃＲｄＳｉＯ２／２単位及びＲｄ ２ＳｉＯ２／２単位（式中、Ｒｃは、水素原子であり、Ｒｄは、独立して、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、好ましくはメチル）又はフェニル基である）からなり、２３℃における粘度が１〜１０，０００ｃＰ（好ましくは１〜５，０００ｃＰ、より好ましくは１〜１，０００ｃＰ）とする数である）である、直鎖状ポリオルガノハイドロジェンシロキサンが挙げられる。
（式中、
Ｒｃは、水素原子であり、
Ｒｄは、独立して、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、好ましくはメチル）又はフェニル基であり、
ｍ２は、（Ｂ２）の２３℃における粘度を１〜１０，０００ｃＰ（好ましくは１〜５，０００ｃＰ、より好ましくは１〜１，０００ｃＰ）とする数である）で示される、直鎖状ポリオルガノハイドロジェンシロキサン；
（Ｂ３）両末端がＲｄ ３ＳｉＯ１／２単位で閉塞され、中間単位がＲｃＲｄＳｉＯ２／２単位及びＲｄ ２ＳｉＯ２／２単位（式中、Ｒｃは、水素原子であり、Ｒｄは、独立して、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、好ましくはメチル）又はフェニル基である）からなり、２３℃における粘度が１〜１０，０００ｃＰ（好ましくは１〜５，０００ｃＰ、より好ましくは１〜１，０００ｃＰ）である、直鎖状ポリオルガノハイドロジェンシロキサン；及び
（Ｂ４）両末端がＲｃＲｄ ２ＳｉＯ１／２単位で閉塞され、中間単位がＲｃＲｄＳｉＯ２／２単位及びＲｄ ２ＳｉＯ２／２単位（式中、Ｒｃは、水素原子であり、Ｒｄは、独立して、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、好ましくはメチル）又はフェニル基である）からなり、２３℃における粘度が１〜１０，０００ｃＰ（好ましくは１〜５，０００ｃＰ、より好ましくは１〜１，０００ｃＰ）とする数である）である、直鎖状ポリオルガノハイドロジェンシロキサンが挙げられる。
（Ｂ２）は、式（III）で示される、直鎖状ポリオルガノハイドロジェンシロキサンである。
（Ｂ２）におけるＲｄとしては、合成が容易で、機械的強度および硬化前の流動性などの特性のバランスが優れているという点から、メチル基が好ましい。
（Ｂ２）としては、両末端がジメチルハイドロジェンシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位からなるポリメチルハイドロジェンシロキサンが好ましい。
（Ｂ２）の粘度は、１〜１０，０００ｃＰであり、１〜５，０００ｃＰがより好ましく、１〜１，０００ｃＰがさらに好ましい。
（Ｂ３）は、両末端がＲｄ ３ＳｉＯ１／２単位で閉塞され、中間単位がＲｃＲｄＳｉＯ２／２単位、及び、Ｒｄ ２ＳｉＯ２／２単位からなるポリオルガノハイドロジェンシロキサンである。（Ｂ３）におけるＲｃは、一分子中、２〜５，０００個であることが好ましく、より好ましくは３〜５，０００個であり、さらに好ましくは２０〜１，０００個である。（Ｂ３）におけるＲｄとしては、合成が容易で、機械的強度および硬化前の流動性などの特性のバランスが優れているという点から、メチル基が好ましい。
（Ｂ３）としては、ＲｃＲｄＳｉＯ２／２単位とＲｄ ２ＳｉＯ２／２単位の比率が、Ｒｄ ２ＳｉＯ２／２単位１モルに対して、ＲｃＲｄＳｉＯ２／２単位が０．１〜２．０モルであるものが好ましく、０．５〜１．５モルがさらに好ましい。よって、（Ｂ３）として、両末端がトリメチルシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位及びメチルハイドロジェンシロキサン単位からなり、ジメチルシロキサン単位１モルに対して、メチルハイドロジェンシロキサン単位が０．１〜２．０モルであるポリメチルハイドロジェンシロキサンが好ましい。
（Ｂ３）の粘度は、１〜１０，０００ｃＰであり、１〜５，０００ｃＰがより好ましく、１〜１，０００ｃＰがさらに好ましい。
（Ｂ４）は、両末端がＲｃＲｄ ２ＳｉＯ１／２単位で閉塞され、中間単位がＲｃＲｄＳｉＯ２／２単位及びＲｄ ２ＳｉＯ２／２単位からなるポリオルガノハイドロジェンシロキサンである。（Ｂ４）におけるＲｃは、一分子中、２〜５，０００個であることが好ましく、より好ましくは３〜５，０００個であり、さらに好ましくは３〜１，０００個である。（Ｂ４）におけるＲｄとしては、合成が容易で、機械的強度および硬化前の流動性などの特性のバランスが優れているという点から、メチル基が好ましい。
（Ｂ４）としては、ＲｃＲｄＳｉＯ２／２単位とＲｄ ２ＳｉＯ２／２単位の比率が、Ｒｄ ２ＳｉＯ２／２単位１モルに対して、ＲｃＲｄＳｉＯ２／２単位が０．１〜２．０モルであるものが好ましく、０．５〜１．５モルがさらに好ましい。よって、（Ｂ４）として、両末端がジメチルハイドロジェンシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位及びメチルハイドロジェンシロキサン単位からなり、ジメチルシロキサン単位１モルに対して、メチルハイドロジェンシロキサン単位が０．１〜２．０モルであるポリメチルハイドロジェンシロキサンが好ましい。
（Ｂ４）の粘度は、１〜１０，０００ｃＰであり、１〜５，０００ｃＰがより好ましく、１〜１，０００ｃＰがさらに好ましい。
（Ｂ）は、分岐状ポリオルガノハイドロジェンシロキサンであってもよく、例えば、Ｒ２ＨＳｉＯ１／２単位（式中、Ｒは、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、好ましくはメチル）又はフェニル基を表す）及びＳｉＯ４／２単位からなり、一分子中に、ケイ素原子に結合した水素原子を３個以上有するポリアルキルハイドロジェンシロキサンが挙げられる。また、Ｒ３ＳｉＯ１／２単位、Ｒ２ＳｉＯ単位及びＲＳｉＯ３／２単位（式中、Ｒは、水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、好ましくはメチル）又はフェニル基を表す）からなり、一分子中に、ケイ素原子に結合した水素原子を２個以上有するポリアルキルハイドロジェンシロキサンが挙げられる。分岐状ポリオルガノハイドロジェンシロキサンの２３℃における粘度は、１〜１０，０００ｃＰであり、１〜５，０００ｃＰがより好ましく、１〜１，０００ｃＰがさらに好ましい。
（Ｂ）は、単独でも、２種以上を併用してもよい。（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｂ３）及び（Ｂ４）は、単独で用いることも、組み合わせて用いることもできる。硬化性を高くするという観点から、（Ｂ）は（Ｂ１）及び（Ｂ２）の組合せであるのが好ましい。（Ｂ）として、（Ｂ１）及び（Ｂ２）を併用するとき、硬化物の衝撃に対する応力緩和の観点から（Ｂ１）及び（Ｂ２）の水素の総量に対する（Ｂ１）の水素の量（ＨＢ1／（ＨＢ1＋ＨＢ２））が、好ましくは０．０５〜０．６０であり、より好ましくは０．１０〜０．５０である。
適切な硬化速度の確保の観点から、（Ａ）のケイ素原子に結合したアルケニル基の個数ＶiＡの合計に対する、（Ｂ）におけるケイ素原子に結合した水素原子の個数ＨＢの合計との比（ＨＢ／ＶiＡ）が、０．５〜１００であり、０．５〜５０．０であるのが好ましく、０．５〜０．９であるのがより好ましい。（ＨＢ／ＶiＡ）が、０．５未満であると、硬化に十分な架橋剤が拡散できないために硬化せず、１００超であると、架橋点が少なく硬化しない。
本発明の組成物に含まれる（Ｃ）は、（Ａ）のアルケニル基と、（Ｂ）のＳｉ−Ｈ基との間の付加反応を促進するための触媒である。触媒活性が良好な観点から、白金、ロジウム、パラジウムのような白金系金属（白金族元素）の化合物が好適に用いられ、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコールの反応生成物、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、白金−ケトン錯体、白金−ホスフィン錯体のような白金化合物、ロジウム−ホスフィン錯体、ロジウム−スルフィド錯体のようなロジウム化合物、パラジウム−ホスフィン錯体のようなパラジウム化合物が好ましく、白金化合物がより好ましく、白金−ビニルシロキサン錯体がさらに好ましい。
（Ｃ）は、硬化物の透明性の確保及び適切な硬化速度の確保の観点から、（Ａ）〜（Ｃ）の合計重量に対して、白金系金属原子換算で、０．５ｐｐｍ以上であり、０．５〜１，０００ｐｐｍであるのが好ましく、０．５〜５００ｐｐｍであるのがより好ましく、０．５〜２００ｐｐｍであるのが特に好ましい。０．５ｐｐｍ未満であると、硬化反応が遅い。１，０００ｐｐｍ以下であると、黄変がより低減され、透明性がより向上した硬化物が得られる。
組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、（Ｄ）窒素原子を有する安定化剤、（Ｅ）希釈剤、（Ｆ）接着付与剤、（Ｇ）無機質充填剤等を含むことができる。なお、本発明の組成物は、（Ｄ）成分を含まないのが好ましい。
組成物は、（Ｄ）窒素原子を有する安定化剤を含んでいてもよい。（Ｄ）は、（Ｃ）白金系触媒を安定化することができる成分である。（Ｄ）としては、例えば、一般式：（Ｒ１）２Ｎ−Ｒ３−Ｎ（Ｒ２）２（式中、Ｒ１は、それぞれ独立して、Ｃ１−Ｃ６アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル）であり、Ｒ２はＲ１と同一の意味を有するか、又は水素原子であり、Ｒ３は、Ｃ２−Ｃ４アルキレン基（例えば、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン）である。）で示されるアミン化合物が挙げられる。
（Ｄ）として、具体的には、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，３‐プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，４−ブタンジアミンが挙げられ、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミンが好ましい。（Ｄ）は、単独又は２種以上を併用することができる。
（Ｄ）の配合量は、（Ｃ）の白金系金属原子１ｍｏｌに対して０．００１〜０．５ｍｏｌの範囲であり、好ましくは０．０１〜０．１ｍｏｌである。このような範囲であれば、得られる触媒の経時的な外観不良を防止し、変色が抑えられるとともに、（Ｃ）の触媒活性を極端に低下させずに、所望の時間での硬化が達成できる。
組成物は、（Ｅ）希釈剤を含んでいてもよい。（Ｅ）を含むことにより、組成物の粘度が調整される。（Ｅ）は、硬化反応に関与するアルケニル基を含有しないシリコーンオイルであり、両末端がトリメチルシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位からなるポリメチルシロキサンが好ましい。（Ｅ）は、２３℃における粘度が、１〜５，０００ｃＰであるのが好ましく、５〜１，０００ｃＰであるのがより好ましい。（Ｅ）の配合量は、（Ａ）〜（Ｃ）の合計１００重量部に対して、５０重量部以下であるのが好ましく、３０重量部以下であるのがより好ましく、２０重量部以下であるのがさらに好ましい。
組成物は、（Ｆ）接着付与剤を含んでいてもよい。（Ｆ）接着付与剤として、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシランのようなジ、トリ、テトラアルコキシシラン類；３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピル（メチル）ジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピル（メチル）ジエトキシシランのような３−グリシドキシプロピル基含有アルコキシシラン類；２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル（メチル）ジメトキシシランのような２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基含有アルコキシシラン類；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、メチルビニルジメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、メチルアリルジメトキシシランのようなアルケニルアルコキシシラン類；３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピル（メチル）ジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピル（メチル）ジメトキシシランのような（メタ）アクリロキシプロピルアルコキシシラン類；１，１，３，５，７−ペンタメチルシクロテトラシロキサンと３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランとの反応生成物などの有機ケイ素化合物が挙げられる。
有機ケイ素化合物として、例えば、具体的には、下記式：
（式中、Ｑ１およびＱ２は、互いに独立して、アルキレン基、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキレン基を表し、Ｒ３は、Ｃ１−Ｃ４アルキル基を表す）で示される側鎖を有する有機ケイ素化合物が挙げられる。
（式中、Ｑ１およびＱ２は、互いに独立して、アルキレン基、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキレン基を表し、Ｒ３は、Ｃ１−Ｃ４アルキル基を表す）で示される側鎖を有する有機ケイ素化合物が挙げられる。
このような有機ケイ素化合物としては、下記の化合物が好ましい。
組成物は、（Ｇ）無機質充填剤を含んでいてもよい。（Ｇ）無機質充填剤としては、煙霧質シリカ、アークシリカのような乾式微粉末シリカが例示され、煙霧質シリカが好ましい。また、このようなシリカの表面を、ヘキサメチルジシラザン、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザンのようなシラザン化合物；オクタメチルシクロテトラシロキサンのようなポリオルガノシロキサン等で処理したものであってもよい。
＜パターンの製造方法＞
パターンの製造方法は、基材を準備する工程を含む。
パターンの製造方法は、基材を準備する工程を含む。
（基材）
基材として、アルミニウム、鉄、亜鉛、銅、マグネシウム合金等の金属、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ＡＢＳ、ＰＡ、ＰＢＴ、ＰＣ、ＰＰＳ、ＳＰＳ等のプラスチック、及びガラスが挙げられ、ブラウン管、液晶、プラズマ、有機ＥＬ等の画像表示装置の画像表示部の基部と透光性の保護部であるのが好ましい。基材の形状は、特に限定されないが、板状であるのが好ましい。
基材の厚みは、特に制限されないが、０．１〜１０ｍｍが好ましい。
基材として、アルミニウム、鉄、亜鉛、銅、マグネシウム合金等の金属、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ＡＢＳ、ＰＡ、ＰＢＴ、ＰＣ、ＰＰＳ、ＳＰＳ等のプラスチック、及びガラスが挙げられ、ブラウン管、液晶、プラズマ、有機ＥＬ等の画像表示装置の画像表示部の基部と透光性の保護部であるのが好ましい。基材の形状は、特に限定されないが、板状であるのが好ましい。
基材の厚みは、特に制限されないが、０．１〜１０ｍｍが好ましい。
（パターンの形成方法）
パターンは、基材の上に、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の部分を適用して、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を配置することにより形成する。本明細書において、「パターン」とは硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物をいう。
ここで、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分は、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物における硬化剤成分に相当する。これらを、まとめて「第１成分」ともいう。（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分は、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物における主剤成分に相当する。これらを、まとめて「第２成分」ともいう。
また、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を、まとめて「硬化性部分」ともいう。
パターンは、基材の上に、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の部分を適用して、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を配置することにより形成する。本明細書において、「パターン」とは硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物をいう。
ここで、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分は、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物における硬化剤成分に相当する。これらを、まとめて「第１成分」ともいう。（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分は、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物における主剤成分に相当する。これらを、まとめて「第２成分」ともいう。
また、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を、まとめて「硬化性部分」ともいう。
硬化性部分は単独では硬化しないが、各部分に含まれる（Ｂ）及び（Ｃ）が、硬化時のみに接触し、架橋反応が進行する。なお、第１成分は（Ｂ）を含まず、第２成分は（Ｃ）を含まない。硬化性部分は、各成分の存在により区別をすることができる。例えば、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分と（Ｂ）を含む部分とは、（Ａ）の存在によって区別することができる。また、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分と（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分とは、（Ｂ）及び（Ｃ）の存在によって区別することができる。
適用される硬化性部分の数及びその種類は、適用される硬化性部分を合わせた組成が、上記した硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の組成であれば、特に限定されない。例えば、適用される硬化性部分が２つの部分からなる場合、適用される硬化性部分は、（Ｂ）を含む部分と（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分であるか、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分と（Ｃ）を含む部分であるか、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分と（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分である。
配置される硬化性ポリオルガノシロキサン組成物が、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を複数含む場合、架橋反応を均一に進行させるために、各（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分に含まれる（Ａ）は同じであるのが好ましい。同じ理由により、配置される硬化性ポリオルガノシロキサン組成物が、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分を複数含む場合、各（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分に含まれる（Ａ）は同じであるのが好ましい。
硬化性部分は、上記した（Ｄ）〜（Ｆ）成分を含むことができる。
（Ｃ）を含む部分、並びに、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分は、速硬化性および黄変防止の観点から、（Ｆ）、又は、（Ｅ）及び（Ｆ）をさらに含むのが好ましい。
（Ｂ）を含む部分、並びに、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分は、硬化性部分が適用される基材との接着性の観点から、（Ｆ）をさらに含むのが好ましい。
（Ｃ）を含む部分、並びに、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分は、速硬化性および黄変防止の観点から、（Ｆ）、又は、（Ｅ）及び（Ｆ）をさらに含むのが好ましい。
（Ｂ）を含む部分、並びに、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分は、硬化性部分が適用される基材との接着性の観点から、（Ｆ）をさらに含むのが好ましい。
適用される硬化性部分の形状は、特に限定されないが、線状、柱状、円状、球状、液滴状及び層状であることができる。適用される硬化性部分の形状は、適用する装置に応じて適宜設定できる。
適用される硬化性部分の領域に相当する、適用される硬化性部分の大きさは特に限定されず、適用する装置に応じて適宜設定できる。適用される硬化性部分の厚みは、特に限定されないが、適用する手段及び装置に応じて適宜設定できる。適用される硬化性部分の厚みは、２〜２，０００μｍであるのが好ましく、２〜１，０００μｍであるのがより好ましく、１０〜５００μｍであるのが特に好ましい。
［適用方法］
硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の各部分を適用する方法は、特に限定されず、スロットダイコーター、スピンコーター、ロールコーター、スルレーコーター、バーコーター、ディスペンサー、インクジェット式液滴塗布装置（ジェットディスペンサー）等が挙げられ、インクジェット式液滴塗布装置を用いた方法が好ましい。インクジェット式液滴塗布装置を用いることにより、硬化性部分の塗布量、硬化性部分の液滴の着弾位置を精密に制御することができ、高密度なパターン（すなわち、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物）を形成することができる。
硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の各部分を適用する方法は、特に限定されず、スロットダイコーター、スピンコーター、ロールコーター、スルレーコーター、バーコーター、ディスペンサー、インクジェット式液滴塗布装置（ジェットディスペンサー）等が挙げられ、インクジェット式液滴塗布装置を用いた方法が好ましい。インクジェット式液滴塗布装置を用いることにより、硬化性部分の塗布量、硬化性部分の液滴の着弾位置を精密に制御することができ、高密度なパターン（すなわち、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物）を形成することができる。
インクジェット式液滴吐出装置は、液滴状で組成物の各成分を吐出できるものであれば特に限定されない。例えば、複数の吐出口（塗布ノズル）を有するインクジェット式液滴吐出装置が挙げられる。塗布ノズルの数は特に限定されず、用途に応じて選択できる。例えば、インクジェット式液滴吐出装置は、粘度調整のための（Ａ）のみを装填した更なるノズル等を有していてもよい。
塗布ノズル径は、特に限定されないが、５０〜２００μｍであるのが好ましく、１００〜１５０μｍであるのが特に好ましい。塗布ノズル径が５０μｍ以上であれば、安定して、液滴塗布を行うことができ、塗布ノズル径が２００μｍ以下であれば、短時間でより多量の液滴塗布を行うことができる。
ディスペング頻度は、特に限定されないが、１ｍｓ／ショット〜１０ｓ／ショットが好ましく、１ｍｓ／ショット〜１０ｍｓ／ショットが好ましい。
ノズルの移動速度は、特に限定されないが、１〜３００ｍｍ／ｓｅｃが好ましく、５０〜１００ｍｍ／ｓｅｃがより好ましい。
ディスペング頻度及びノズルの移動速度は、装置及び目的に応じて適宜設定できる。
ディスペング頻度は、特に限定されないが、１ｍｓ／ショット〜１０ｓ／ショットが好ましく、１ｍｓ／ショット〜１０ｍｓ／ショットが好ましい。
ノズルの移動速度は、特に限定されないが、１〜３００ｍｍ／ｓｅｃが好ましく、５０〜１００ｍｍ／ｓｅｃがより好ましい。
ディスペング頻度及びノズルの移動速度は、装置及び目的に応じて適宜設定できる。
インクジェット式液滴塗布装置における、第１部分及び第２部分の液滴の吐出方式は、インクジェット式液滴塗布装置において通常使用される方式であれば特に制限はなく、例えばピエゾ方式、サーマルヘッド方式等が挙げられる。
インクジェット式液滴塗布装置は、公知のインクジェットプリンタが備える機構、例えば、液体供給ユニット、温度センサー、駆動装置等を有していてもよい。
このような、インクジェット式液滴塗布装置として、ＰＩＣＯジェット（ノードソン社製）、ＣｙｂｅｒＪｅｔ（武蔵エンジニアリング社製）、ＡｅｒｏＪｅｔ（武蔵エンジニアリング社製）等が挙げられる。
インクジェット式液滴塗布装置は、公知のインクジェットプリンタが備える機構、例えば、液体供給ユニット、温度センサー、駆動装置等を有していてもよい。
このような、インクジェット式液滴塗布装置として、ＰＩＣＯジェット（ノードソン社製）、ＣｙｂｅｒＪｅｔ（武蔵エンジニアリング社製）、ＡｅｒｏＪｅｔ（武蔵エンジニアリング社製）等が挙げられる。
インクジェット式液滴吐出装置を用いた部分の適用する方法は、インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分を適用し、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を適用する方法が好ましい。このようなインクジェット式液滴塗布装置を用いた場合、装置内で組成物の硬化が起こらず、塗布装置の詰まりの問題がない。
第１のノズル及び第２のノズルから液滴を適用する順番は特に限定されない。例えば、
インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分を適用した後、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を適用してもよく、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を適用した後、インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分を適用してもよい。また、インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分を適用すると同時に、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を適用してもよい。
インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分を適用した後、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を適用してもよく、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を適用した後、インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分を適用してもよい。また、インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分を適用すると同時に、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を適用してもよい。
（Ｃ）は、（Ｂ）を含む部分並びに（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分に拡散しやすいため、より効率的に硬化反応が進行する。よって、インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分を適用した後、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を適用するのが好ましい。
また、基材の一部に一方の成分（例えば、第２成分）を形成した直後に、一方の成分上にもう一方の成分（例えば、第１成分）を重ねて形成することができ、基材の一部に一方の成分（例えば、第２成分）を形成すると同時に、一方の成分が形成されていない基材の一部にもう一方の成分（例えば、第１成分）を形成することができる。また、基材の同位置に、複数の一方の成分（例えば、第１成分）を同時に形成することができ、第１成分及び第２成分を同時に形成することもできる。
第１のノズルを用いて形成した第２成分の液滴と同一の位置に、第２のノズルを用いて第１成分の液滴を形成する。これにより、第２成分と第１成分とが着弾時に混ざり、その後、硬化反応が開始する。
インクジェット式液滴塗布装置の塗布ノズルを用いて形成される、硬化性部分の液滴の直径は、特に限定されないが、１〜５，０００μｍであるのが好ましく、１〜１，０００μｍであるのがより好ましく、1〜５００μｍであるのが特に好ましい。
インクジェット式液滴塗布装置の塗布ノズルを用いて形成される、硬化性部分の液滴の厚みは、特に限定されず、インクジェット式液滴塗布装置に応じて適宜設定することができる。例えば、第１成分及び第２成分の塗布厚みは、１〜１，０００μｍであるのが好ましく、１〜５００μｍであるのがより好ましく、１〜３００μｍであるのが特に好ましい。ここで、第１成分と第２成分とは多層に形成してもよい。これにより、配置される硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の厚みを調節できる。
インクジェット式液滴塗布装置の塗布ノズルを用いて形成される、硬化性部分の液滴の厚みは、特に限定されず、インクジェット式液滴塗布装置に応じて適宜設定することができる。例えば、第１成分及び第２成分の塗布厚みは、１〜１，０００μｍであるのが好ましく、１〜５００μｍであるのがより好ましく、１〜３００μｍであるのが特に好ましい。ここで、第１成分と第２成分とは多層に形成してもよい。これにより、配置される硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の厚みを調節できる。
インクジェット式液滴塗布装置を用いる場合、第１成分は、２３℃における粘度が、１〜８，０００ｃＰであるのが好ましく、５０〜８，０００ｃＰであるのがより好ましく、１００〜５，０００ｃＰであるのがさらに好ましく、２００〜２，０００ｃＰであるのが特に好ましく、５００〜１，０００ｃＰであるのがより特に好ましい。
また、インクジェット式液滴塗布装置を用いる場合、第２成分は、２３℃における粘度が、１〜８，０００ｃＰであるのが好ましく、５０〜８，０００ｃＰであるのがより好ましく、１００〜５，０００ｃＰであるのがさらに好ましく、２００〜２，０００ｃＰであるのが特に好ましく、５００〜１，５００ｃＰであるのがより特に好ましく、５００〜１，０００ｃＰであるのがさらに特に好ましい。
このような第１成分及び第２成分の粘度であれば、インクジェット式液滴塗布装置を用いて液滴を安定的に形成でき、作業性が向上し、また、塗布時の展延性が良好である。さらに、第１成分及び第２成分が接触する時、第１成分及び第２成分に含まれる各成分が混合しやすく反応性が向上し、硬化時間がさらに短縮される。
また、インクジェット式液滴塗布装置を用いる場合、第２成分は、２３℃における粘度が、１〜８，０００ｃＰであるのが好ましく、５０〜８，０００ｃＰであるのがより好ましく、１００〜５，０００ｃＰであるのがさらに好ましく、２００〜２，０００ｃＰであるのが特に好ましく、５００〜１，５００ｃＰであるのがより特に好ましく、５００〜１，０００ｃＰであるのがさらに特に好ましい。
このような第１成分及び第２成分の粘度であれば、インクジェット式液滴塗布装置を用いて液滴を安定的に形成でき、作業性が向上し、また、塗布時の展延性が良好である。さらに、第１成分及び第２成分が接触する時、第１成分及び第２成分に含まれる各成分が混合しやすく反応性が向上し、硬化時間がさらに短縮される。
このような第１成分を得る観点からは、（Ａ）が、２３℃における粘度が１，０００〜１００，０００ｃＰであるポリオルガノシロキサンと、２３℃における粘度が５０〜５００ｃＰであるポリオルガノシロキサンとの混合物であるのが好ましい。また、第１成分が、（Ａ）及び（Ｃ）を含む部分、（Ａ）、（Ｃ）及び（Ｆ）を含む部分、又は、（Ｃ）、（Ｅ）及び（Ｆ）を含む部分であるのが好ましい。
このような第２成分を得る観点からは、第２成分が、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分であるのが好ましい。ここで、（Ａ）は、２３℃における粘度が１，０００〜１００，０００ｃＰであるポリオルガノシロキサンと、２３℃における粘度が５０〜５００ｃＰであるポリオルガノシロキサンとの混合物であるか、２３℃における粘度が１，０００〜１００，０００ｃＰであるポリオルガノシロキサンであるのが好ましい。また、第２成分が、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｆ）を含む部分であるのが好ましい。
パターンの形成方法において、（Ｃ）を含む部分並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分は、（Ｃ）及びさらに必要に応じて配合される他の成分を、万能混練機、ニーダー、ハンドミキサーなどの混合手段によって均一に混練して調製することができる。また、（Ｂ）を含む部分並びに（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分は、（Ｂ）及びさらに必要に応じて配合される他の成分を用いて、第１成分と同様にして調製することができる。
＜パターンの製造方法の別の態様＞
パターンの製造方法は、基材を準備する工程が、さらに、別の基材の準備する工程、及び２つの基材の間に隙間を形成する工程を含むことができる。また、パターンの製造方法は、パターンを形成する工程が、隙間の端部に、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の硬化性部分を適用する工程であることができる。
パターンの製造方法は、基材を準備する工程が、さらに、別の基材の準備する工程、及び２つの基材の間に隙間を形成する工程を含むことができる。また、パターンの製造方法は、パターンを形成する工程が、隙間の端部に、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の硬化性部分を適用する工程であることができる。
別の基材は、好ましいものも含め、基材について前記したとおりである。
基材及び別の基材の組として、例えば、ディスプレイパネルにおける液晶パネルと金属枠が挙げられる。ディスプレイパネルは、液晶パネルの外側に金属枠を有しており、液晶パネルと金属枠とにより隙間が形成される。
基材及び別の基材の組として、例えば、ディスプレイパネルにおける液晶パネルと金属枠が挙げられる。ディスプレイパネルは、液晶パネルの外側に金属枠を有しており、液晶パネルと金属枠とにより隙間が形成される。
隙間は、２つの基材の間に形成される空間である。２つの基材が平面基材である場合、２つの基材は平行に配置されるのが好ましい。この場合、隙間の距離は、基板間の距離である。隙間を形成するための方法は特に限定されず、２つの基材の間にスペーサーを配置する方法が挙げられる。スペーサーとしては、特に限定されず、樹脂性フィルム、テープ（片面テープ、両面テープ）等が挙げられる。なお、スペーサーは、２つの基材の一方又は両方に取り付けられていてもよい。
隙間の距離は、特に限定されず、例えば、０．０１μｍ〜１０ｍｍが挙げられる。隙間の距離は、０．１μｍ〜５，０００μｍであるのが好ましく、１μｍ〜３，０００μｍであるのがより好ましい。
隙間の距離は、特に限定されず、例えば、０．０１μｍ〜１０ｍｍが挙げられる。隙間の距離は、０．１μｍ〜５，０００μｍであるのが好ましく、１μｍ〜３，０００μｍであるのがより好ましい。
本発明者らは、隙間が１μｍ〜２，０００μｍである場合、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を隙間の端部に配置することにより、隙間の大きさによって発生する毛細管現象によって、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物が隙間内部に浸透しつつ、隙間の端部が塞がれるように、隙間の一部又は全部が組成物の硬化物で充填されることを見出した。
隙間の距離は、１μｍ〜２，０００μｍがより好ましく、１０μｍ〜１，０００μｍがより好ましく、５０μｍ〜５００μｍがさらに好ましく１００μｍ〜２００μｍが特に好ましい。このような隙間の距離であれば、毛細管現象がより効率的に発生し、隙間の端部が塞がれるようにして、隙間の一部又は全部をポリオルガノシロキサン組成物の硬化物で効率的に充填することができる。
隙間の端部に硬化性部分を適用する方法は、例えば、隙間の端部（又は、２つの基材により形成される開口部）の上から４つの硬化性部分のいずれかを滴下（好ましくは、インクジェット式塗布装置を用いて滴下）することにより行うことができる。硬化性組成物を２つの基材の隙間の端部に適用する方法は特に限定されない。例えば、２つの基材の上から、液滴塗布する際に、液滴の一部が一方の基材に接触し、液滴の一部がもう一方の基材に接触する塗布方法が挙げられる。
例えば、滴下により、隙間を形成する２つの基材において、一方の基材の端に着弾するとともに、もう一方の基材にも着弾する。これにより、２つの基材の隙間の端部に硬化性部分が形成される。この滴下を繰り返すことにより、硬化性部分の塗布厚みが隙間の端部における隙間の距離になったとき、２つの基材の隙間の端部に存在する硬化性組成物が、隙間の大きさによって発生する毛細管現象によって、隙間の内部に浸透し、隙間の一部又は全部が満たされる。その後、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物は硬化し、パターンが形成する。ここで、隙間の端部から、隙間の内部に浸透しない硬化性ポリオルガノシロキサン組成物は、その場で硬化し、隙間の端部に相当する開口部をパターンで塞ぐことができる。
また、隙間の端部であって、液滴が隙間を形成する一方の基材のみに接触するように、液滴を着弾させてもよい。この塗布を繰り返して、硬化性部分の塗布厚みが隙間の端部における隙間の距離になったときに、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物で、隙間の端部を塞ぐことができる。
また、隙間の端部であって、液滴が隙間を形成する一方の基材のみに接触するように、液滴を着弾させてもよい。この塗布を繰り返して、硬化性部分の塗布厚みが隙間の端部における隙間の距離になったときに、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物で、隙間の端部を塞ぐことができる。
（後処理）
パターンの形成方法において、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を配置する工程の後に、場合により５０〜８０℃の温度で加熱する工程を含んでいてもよい。これにより、硬化がより促進される。加熱時間は、適宜設定することができるが、例えば、０．１分〜３時間とすることができる。
パターンの形成方法において、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を配置する工程の後に、場合により５０〜８０℃の温度で加熱する工程を含んでいてもよい。これにより、硬化がより促進される。加熱時間は、適宜設定することができるが、例えば、０．１分〜３時間とすることができる。
（パターンの特性）
パターンの透過率は、特に限定されないが、３０〜１００％であるのが好ましく、５０〜１００％であるのがより好ましく、８０〜１００％でるのがさらに好ましく、９０〜１００％であるのが特に好ましい。また、パターンのイエローインデックスは、特に限定されないが、０．０１〜３０であるのが好ましく、０．０１〜１５であるのがより好ましく、０．０１〜５．０であるのが特に好ましい。透過率が５０％以上であり、イエローインデックスが１５以下である場合、高い透過率及び透明性を有し、視認性の点においても良好である。
パターンの透過率は、特に限定されないが、３０〜１００％であるのが好ましく、５０〜１００％であるのがより好ましく、８０〜１００％でるのがさらに好ましく、９０〜１００％であるのが特に好ましい。また、パターンのイエローインデックスは、特に限定されないが、０．０１〜３０であるのが好ましく、０．０１〜１５であるのがより好ましく、０．０１〜５．０であるのが特に好ましい。透過率が５０％以上であり、イエローインデックスが１５以下である場合、高い透過率及び透明性を有し、視認性の点においても良好である。
（用途）
パターンの製造方法は、画像表示装置の製造方法において、ダム材を形成するための方法に用いることができる。ダム材は、画像表示装置の表示部又は保護部に枠を形成するために用いられ、この枠内に封止剤を適用することにより、封止剤が、表示部等からはみ出したりすることを防止する。例えば、基材が液晶パネルであり、パターンの製造方法により得られるパターンにより、縁取りを行い、その後充填剤である材料を塗布しカバーパネルと張り合わせることにより、充填剤の液晶パネル裏へ回り込みを防ぎ、周辺部への汚染を防ぐことができる。
また、第２のパターンの製造方法は、画像表示装置の製造方法の一部の工程として有用である。すなわち、第２のパターンの製造方法において、基材が、画像表示装置の画像表示部を有する基部であり、別の基材が、画像表示装置の透光性の保護部であるのが好ましい。
パターンの製造方法は、画像表示装置の製造方法において、ダム材を形成するための方法に用いることができる。ダム材は、画像表示装置の表示部又は保護部に枠を形成するために用いられ、この枠内に封止剤を適用することにより、封止剤が、表示部等からはみ出したりすることを防止する。例えば、基材が液晶パネルであり、パターンの製造方法により得られるパターンにより、縁取りを行い、その後充填剤である材料を塗布しカバーパネルと張り合わせることにより、充填剤の液晶パネル裏へ回り込みを防ぎ、周辺部への汚染を防ぐことができる。
また、第２のパターンの製造方法は、画像表示装置の製造方法の一部の工程として有用である。すなわち、第２のパターンの製造方法において、基材が、画像表示装置の画像表示部を有する基部であり、別の基材が、画像表示装置の透光性の保護部であるのが好ましい。
画像表示装置としては、画像表示装置が大型（５０〜１００インチ）のプラズマパネルディスプレイ等や、画像表示装置が小型（１〜５０インチ未満）の携帯電話等が挙げられる。また、これらの画像表示装置は、タッチセンサーを含んでいてもよい。
次に、実施例及び比較例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。表１に示す組成で、各成分を、混合することにより、実施例及び比較例の第１成分及び第２成分を調製した。
使用した各成分は、以下のとおりである。
Ａ１：両末端がジメチルビニルシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位からなるポリメチルビニルシロキサン（２３℃での粘度３，０００ｃＰ）
Ａ２：両末端がジメチルビニルシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位からなるポリメチルビニルシロキサン（２３℃での粘度３５０ｃＰ）
Ａ３：両末端がジメチルビニルシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位からなるポリメチルビニルシロキサン（２３℃での粘度１０，０００ｃＰ）
Ｂ１：平均単位式が［Ｈ（ＣＨ３）２ＳｉＯ１/２］８［ＳｉＯ４/２］４（水素量１．０５重量％）
Ｂ２：両末端がジメチルハイドロジェンシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位からなるポリメチルハイドロジェンシロキサン（２３℃での粘度２０ｃＰ）
Ｃ：塩化白金酸を１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンとモル比１：４で加熱することによって得られ、白金含有量が４．９１重量％である錯体。
Ｅ：両末端がトリメチルシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位からなるポリメチルシロキサン（２３℃での粘度１，０００ｃＰ）
Ｆ１：テトラブトキシシラン
Ｆ２：３−グリシジルオキシプロピル（メチル）ジエトキシシラン
Ｆ３：下記：
で示される化合物。
使用した各成分は、以下のとおりである。
Ａ１：両末端がジメチルビニルシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位からなるポリメチルビニルシロキサン（２３℃での粘度３，０００ｃＰ）
Ａ２：両末端がジメチルビニルシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位からなるポリメチルビニルシロキサン（２３℃での粘度３５０ｃＰ）
Ａ３：両末端がジメチルビニルシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位からなるポリメチルビニルシロキサン（２３℃での粘度１０，０００ｃＰ）
Ｂ１：平均単位式が［Ｈ（ＣＨ３）２ＳｉＯ１/２］８［ＳｉＯ４/２］４（水素量１．０５重量％）
Ｂ２：両末端がジメチルハイドロジェンシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位からなるポリメチルハイドロジェンシロキサン（２３℃での粘度２０ｃＰ）
Ｃ：塩化白金酸を１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンとモル比１：４で加熱することによって得られ、白金含有量が４．９１重量％である錯体。
Ｅ：両末端がトリメチルシロキサン単位で閉塞され、中間単位がジメチルシロキサン単位からなるポリメチルシロキサン（２３℃での粘度１，０００ｃＰ）
Ｆ１：テトラブトキシシラン
Ｆ２：３−グリシジルオキシプロピル（メチル）ジエトキシシラン
Ｆ３：下記：
で示される化合物。
＜実施例１〜５、比較例１〜３＞
１．物性の評価
物性の評価は、下記のようにして行った。
（１）粘度
回転粘度計（ビスメトロン ＶＤＡ−Ｌ）（芝浦システム株式会社製）を用いて、２３℃における粘度を測定した。
（２）タックフリータイム
第１成分０．１ｍｌ及び第２成分０．１ｍｌを接触させ、２つの液が接触した時間を０とし、エチルアルコールで清浄にした指先で表面に軽く触れ、試料が指先に付着しなくなるまでの時間をタックフリータイムとした。本測定方法は、ＪＩＳ−Ｋ６２４９における、タックフリータイム測定に準ずる。
１．物性の評価
物性の評価は、下記のようにして行った。
（１）粘度
回転粘度計（ビスメトロン ＶＤＡ−Ｌ）（芝浦システム株式会社製）を用いて、２３℃における粘度を測定した。
（２）タックフリータイム
第１成分０．１ｍｌ及び第２成分０．１ｍｌを接触させ、２つの液が接触した時間を０とし、エチルアルコールで清浄にした指先で表面に軽く触れ、試料が指先に付着しなくなるまでの時間をタックフリータイムとした。本測定方法は、ＪＩＳ−Ｋ６２４９における、タックフリータイム測定に準ずる。
２．パターンの製造
（１）パターンの製造
塗布口を２つ備える、インクジェット式液滴塗布装置である、ジェットディスペンサー（ノードソン社製、塗布ノズル径１５０μｍ）を用いた。一方の塗布口のための容器に第１成分を充填し、もう一方の塗布口のための容器に第２成分を充填した。それぞれの塗布口から、第１成分をガラス板（５ｃｍ×５ｃｍ×１ｍｍ厚）に、ドット径１，８００μｍ、塗布厚１００μｍ、ディスペング頻度５ｍｓ／ショット、ノズルの移動速度５０ｍ／ｓｅｃで塗布し、次いで、第１成分上に第２成分を、第１成分の塗布条件と同じ条件で塗布して、ガラス板上で第１成分と第２成分とを接触させて、パターンをその上に有するガラス板を得た。ガラス板を室温（例えば、２５℃）で、１０分放置後、上記「（２）タックフリータイム」と同様にして、エチルアルコールで清浄にした指先で、得られたパターンの表面に軽く触れた。実施例１〜５では、試料が指先に付着せず、パターンは硬化していた。一方、比較例１〜３では、試料が指先に付着し、パターンは硬化していなかった。
（１）パターンの製造
塗布口を２つ備える、インクジェット式液滴塗布装置である、ジェットディスペンサー（ノードソン社製、塗布ノズル径１５０μｍ）を用いた。一方の塗布口のための容器に第１成分を充填し、もう一方の塗布口のための容器に第２成分を充填した。それぞれの塗布口から、第１成分をガラス板（５ｃｍ×５ｃｍ×１ｍｍ厚）に、ドット径１，８００μｍ、塗布厚１００μｍ、ディスペング頻度５ｍｓ／ショット、ノズルの移動速度５０ｍ／ｓｅｃで塗布し、次いで、第１成分上に第２成分を、第１成分の塗布条件と同じ条件で塗布して、ガラス板上で第１成分と第２成分とを接触させて、パターンをその上に有するガラス板を得た。ガラス板を室温（例えば、２５℃）で、１０分放置後、上記「（２）タックフリータイム」と同様にして、エチルアルコールで清浄にした指先で、得られたパターンの表面に軽く触れた。実施例１〜５では、試料が指先に付着せず、パターンは硬化していた。一方、比較例１〜３では、試料が指先に付着し、パターンは硬化していなかった。
（２）イエローインデックスの測定
塗布口を２つ備える、インクジェット式液滴塗布装置である、ジェットディスペンサー（ノードソン社製、塗布ノズル径１５０μｍ）を用いた。一方の塗布口のための容器に第１成分を充填し、もう一方の塗布口のための容器に第２成分を充填した。それぞれの塗布口から、第１成分を２ショット分、ガラス板（５ｃｍ×５ｃｍ×１ｍｍ厚）に、ドット径１，８００μｍ、塗布厚１００μｍ、ディスペング頻度５ｍｓ／ショット、ノズルの移動速度５０ｍ／ｓｅｃで塗布した。次いで、第１成分上に第２成分を２ショット分、第１成分の塗布条件と同じ条件で塗布して、ガラス板上で第１成分と第２成分とを接触させて、パターンをその上に有するガラス板を得た。得られたパターンを有するガラスに、予め１８０μｍのスペーサーを配置したガラス板（５ｃｍ×５ｃｍ×１ｍｍ厚）を重ね、貼り合わせ体を得た。２５℃において３０分、７０℃において３０分熱処理して、第１成分及び第２成分の硬化物を介して、２枚のガラス板が接着されている接着体を得た。得られた接着体を２５℃の状態に戻して、イエローインデックスを測定した。イエローインデックスの測定は、分光測式計（（株）ミノルタ製ＣＭ−３５００ｄ）を用いて行なった。
塗布口を２つ備える、インクジェット式液滴塗布装置である、ジェットディスペンサー（ノードソン社製、塗布ノズル径１５０μｍ）を用いた。一方の塗布口のための容器に第１成分を充填し、もう一方の塗布口のための容器に第２成分を充填した。それぞれの塗布口から、第１成分を２ショット分、ガラス板（５ｃｍ×５ｃｍ×１ｍｍ厚）に、ドット径１，８００μｍ、塗布厚１００μｍ、ディスペング頻度５ｍｓ／ショット、ノズルの移動速度５０ｍ／ｓｅｃで塗布した。次いで、第１成分上に第２成分を２ショット分、第１成分の塗布条件と同じ条件で塗布して、ガラス板上で第１成分と第２成分とを接触させて、パターンをその上に有するガラス板を得た。得られたパターンを有するガラスに、予め１８０μｍのスペーサーを配置したガラス板（５ｃｍ×５ｃｍ×１ｍｍ厚）を重ね、貼り合わせ体を得た。２５℃において３０分、７０℃において３０分熱処理して、第１成分及び第２成分の硬化物を介して、２枚のガラス板が接着されている接着体を得た。得られた接着体を２５℃の状態に戻して、イエローインデックスを測定した。イエローインデックスの測定は、分光測式計（（株）ミノルタ製ＣＭ−３５００ｄ）を用いて行なった。
（３）透過率の測定
上記「（２）イエローインデックスの測定」と同じ方法で接着体を作成した。接着体について、波長４００ｎｍでの透過率を、分光測式計（（株）ミノルタ製ＣＭ−３５００ｄ）を用いて測定した。
上記「（２）イエローインデックスの測定」と同じ方法で接着体を作成した。接着体について、波長４００ｎｍでの透過率を、分光測式計（（株）ミノルタ製ＣＭ−３５００ｄ）を用いて測定した。
３．別の態様でのパターンの製造
（１）２つの基材の準備
ガラス板（１５ｃｍ×１０ｃｍ×１ｍｍ）（例えば、図１の１）の上に、枠幅５ｍｍのアルミニウム枠（１５ｃｍ×１０ｃｍ×１ｍｍ）（例えば、図１の２）を用意した。ガラス板とアルミニウム枠の隙間の距離（例えば、図２の１１）が２００μｍとなるように、両面テープ（ニチバン社製、ナイスタックＮＷ５）を２枚重ねて、ガラス板の４つの角に配置した。両面テープにより、ガラス板の上にアルミニウム枠を配置した。図１は、アルミニウム枠を配置したガラス板を上から見た概略図である。
（２）パターンの製造
塗布口を２つ備える、インクジェット式液滴塗布装置である、ジェットディスペンサー（ノードソン社製、塗布ノズル径１５０μｍ）を用いた。一方の塗布口のための容器に第１成分を充填し、もう一方の塗布口のための容器に第２成分を充填した。
ガラス板及びアルミニウム枠により形成される隙間の端部の真上に相当する、アルミニウム枠の内側の真上から、液滴の一部がアルミニウム枠に接するように、一方の塗布口から、第１成分を２ショット分塗布して、２つの基材の隙間の端部に第１成分が適用された基材を得た。塗布された第１成分（例えば、図２の３）は、アルミニウム枠に一部が付着し、ガラス板に一部が付着していた。１秒以内に、第１成分上に、第１成分の同じ条件で、第２成分を塗布して、２つの基材の隙間の端部に第１成分及び第２成分が適用された基材を得た。塗布された第２成分（例えば、図３の４）は、アルミニウム枠に付着した第１成分上に一部が付着し、ガラス板に付着した第１成分上に一部が付着していた。１０分放置して、ガラス板とアルミニウム枠板との隙間の端部が、第１成分及び第２成分の硬化物（例えば、図４の５）で塞がれた試験板を得た。得られた試験板を下記（３）にて評価した。
（１）２つの基材の準備
ガラス板（１５ｃｍ×１０ｃｍ×１ｍｍ）（例えば、図１の１）の上に、枠幅５ｍｍのアルミニウム枠（１５ｃｍ×１０ｃｍ×１ｍｍ）（例えば、図１の２）を用意した。ガラス板とアルミニウム枠の隙間の距離（例えば、図２の１１）が２００μｍとなるように、両面テープ（ニチバン社製、ナイスタックＮＷ５）を２枚重ねて、ガラス板の４つの角に配置した。両面テープにより、ガラス板の上にアルミニウム枠を配置した。図１は、アルミニウム枠を配置したガラス板を上から見た概略図である。
（２）パターンの製造
塗布口を２つ備える、インクジェット式液滴塗布装置である、ジェットディスペンサー（ノードソン社製、塗布ノズル径１５０μｍ）を用いた。一方の塗布口のための容器に第１成分を充填し、もう一方の塗布口のための容器に第２成分を充填した。
ガラス板及びアルミニウム枠により形成される隙間の端部の真上に相当する、アルミニウム枠の内側の真上から、液滴の一部がアルミニウム枠に接するように、一方の塗布口から、第１成分を２ショット分塗布して、２つの基材の隙間の端部に第１成分が適用された基材を得た。塗布された第１成分（例えば、図２の３）は、アルミニウム枠に一部が付着し、ガラス板に一部が付着していた。１秒以内に、第１成分上に、第１成分の同じ条件で、第２成分を塗布して、２つの基材の隙間の端部に第１成分及び第２成分が適用された基材を得た。塗布された第２成分（例えば、図３の４）は、アルミニウム枠に付着した第１成分上に一部が付着し、ガラス板に付着した第１成分上に一部が付着していた。１０分放置して、ガラス板とアルミニウム枠板との隙間の端部が、第１成分及び第２成分の硬化物（例えば、図４の５）で塞がれた試験板を得た。得られた試験板を下記（３）にて評価した。
（３）アルミニウム枠下からのシリコーン組成物の流出の有無の測定
実施例１の第一成分１００重量部と、実施例１の第二成分１００重量部及び３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール０．０６重量部の混合物とを混合することにより、シリコーン組成物を製造した。シリコーン組成物の製造直後、このシリコーン組成物（例えば、図５の６）を、上記（１）で得られた試験板のアルミニウム枠の内側に、アルミニウム枠の上面から、シリコーン組成物の液面までの距離（例えば、図５の１２）が、１００μｍになるように注いだ。室温（例えば、２５℃）で２４時間放置した後、アルミニウム枠下（すなわち、ガラス板とアルミニウム枠板との隙間）からの、シリコーン組成物の流出の有無を確認した。なお、シリコーン組成物の表面は、表面張力により保持されているため、アルミニウム枠の上面への流出は無かった。
実施例１の第一成分１００重量部と、実施例１の第二成分１００重量部及び３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール０．０６重量部の混合物とを混合することにより、シリコーン組成物を製造した。シリコーン組成物の製造直後、このシリコーン組成物（例えば、図５の６）を、上記（１）で得られた試験板のアルミニウム枠の内側に、アルミニウム枠の上面から、シリコーン組成物の液面までの距離（例えば、図５の１２）が、１００μｍになるように注いだ。室温（例えば、２５℃）で２４時間放置した後、アルミニウム枠下（すなわち、ガラス板とアルミニウム枠板との隙間）からの、シリコーン組成物の流出の有無を確認した。なお、シリコーン組成物の表面は、表面張力により保持されているため、アルミニウム枠の上面への流出は無かった。
結果を表１にまとめる。なお、イエローインデックス、透過率の測定において、第１成分及び第２成分の硬化物の厚み、すなわち、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物の厚みは１８０μｍであった。
*表１における、ＶｉＡは、Ａ１〜Ａ３に含まれるケイ素原子に結合したビニル基の合計
*ＨＢは、Ｂ１及びＢ２に含まれるケイ素原子に結合した水素原子の合計
*ＨＢ１は、Ｂ１に含まれるケイ素原子に結合した水素原子の合計
*ＨＢ２は、Ｂ２に含まれるケイ素原子に結合した水素原子の合計
*ＨＢ２は、Ｂ２に含まれるケイ素原子に結合した水素原子の合計
*タックフリータイムにおける「３０＜」は、３０分経過した後であっても試料が指に付着するということを示す。また、１日経過してもタックフリータイムには達していない。
*ＨＢは、Ｂ１及びＢ２に含まれるケイ素原子に結合した水素原子の合計
*ＨＢ１は、Ｂ１に含まれるケイ素原子に結合した水素原子の合計
*ＨＢ２は、Ｂ２に含まれるケイ素原子に結合した水素原子の合計
*ＨＢ２は、Ｂ２に含まれるケイ素原子に結合した水素原子の合計
*タックフリータイムにおける「３０＜」は、３０分経過した後であっても試料が指に付着するということを示す。また、１日経過してもタックフリータイムには達していない。
表１において、実施例１〜５は、タックフリータイムが１０分以下であり、硬化性が良好であった。一方、比較例１〜３は、硬化性を発揮するまで３０分以上経過した。また、実施例１〜５は、シリコーン流出試験において、シリコーン組成物の流出はなく、２つの基材の隙間の端部が組成物の硬化物によって塞がれていることがわかった。一方、比較例１〜３は、隙間の端部に存在する組成物が硬化していないため、隙間の端部が、組成物の硬化物によって塞がれていない。そのため、隙間の端部に存在する組成物が、シリコーン組成物と共に、アルミニウム枠とガラス板との隙間を流れてしまい、アルミニウム枠下からのシリコーン組成物の流出が有った。本パターン形成方法によれば、硬化反応において放射線や加熱装置など特別な装置を用いる必要がなく、かつ湿気など外部環境の影響を受けずに硬化反応が可能である。そのため、紫外線が透過しない部材や耐熱性の乏しい部材でも、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物のパターンを形成できる。
１：ガラス板、２：アルミニウム枠、３：第１成分、４：第２成分、５：第１成分及び第２成分の硬化物、６：シリコーン組成物、１１：隙間、１２：アルミニウム枠の上面から、シリコーン組成物の液面までの距離
Claims (8)
- （Ａ）分子中に２個以上のアルケニル基を含有するアルケニル基含有ポリオルガノシロキサン；
（Ｂ）ケイ素原子に結合した水素原子を、分子中に２個以上有するポリオルガノハイドロジェンシロキサン；及び
（Ｃ）白金系触媒
を含み、
（Ａ）のアルケニル基の個数ＶｉＡに対する、（Ｂ）のケイ素原子に結合した水素原子の個数ＨＢの比が０．５〜１００であり、
（Ｃ）が、白金系金属原子として、０．５ｐｐｍ以上である、
硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた、パターンの製造方法であって、
基材を準備する工程、及び
基材の上に、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の部分を適用して、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を配置することにより、パターンを形成する工程
を含む、パターンの製造方法。 - インクジェット式液滴塗布装置を用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の部分を適用する、請求項１記載の製造方法。
- インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分を適用し、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分を適用する、請求項１又は２記載の製造方法。
- インクジェット式液滴塗布装置の第１のノズルを用いて形成した、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分の液滴と同一の位置に、インクジェット式液滴塗布装置の第２のノズルを用いて、（Ｃ）を含む部分、（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分の液滴を形成する、請求項１〜３のいずれか一項記載の製造方法。
- 基材を準備する工程が、さらに
別の基材の準備する工程、及び
２つの基材の間に隙間を形成する工程を含み、
パターンを形成する工程が、２つの基材の間に形成された隙間の端部に、（Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分からなる群より選択される２以上の硬化性部分を適用する工程を含む、請求項１〜４のいずれか一項記載の製造方法。 - 隙間が１〜２，０００μｍである、請求項５記載の製造方法。
- （Ｂ）を含む部分、（Ｂ）及び（Ａ）を含む部分、（Ｃ）を含む部分、並びに（Ｃ）及び（Ａ）を含む部分の粘度が、２３℃で、５０〜８，０００ｃＰである、請求項１〜６のいずれか一項記載の製造方法。
- 基材が、画像表示装置の画像表示部を有する基部であり、別の基材が、画像表示装置の透光性の保護部である、請求項５〜７のいずれか１項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014204769A JP2015091576A (ja) | 2013-10-04 | 2014-10-03 | 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いたパターンの形成方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013209571 | 2013-10-04 | ||
| JP2013209571 | 2013-10-04 | ||
| JP2014204769A JP2015091576A (ja) | 2013-10-04 | 2014-10-03 | 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いたパターンの形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015091576A true JP2015091576A (ja) | 2015-05-14 |
Family
ID=53195112
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014204769A Pending JP2015091576A (ja) | 2013-10-04 | 2014-10-03 | 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いたパターンの形成方法 |
| JP2015124888A Pending JP2015214703A (ja) | 2013-10-04 | 2015-06-22 | 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた接着体、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた接着体の製造方法、並びにその使用 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015124888A Pending JP2015214703A (ja) | 2013-10-04 | 2015-06-22 | 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた接着体、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた接着体の製造方法、並びにその使用 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP2015091576A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019054371A1 (ja) | 2017-09-15 | 2019-03-21 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 電子部品またはその前駆体、それらの製造方法 |
| WO2019054370A1 (ja) | 2017-09-15 | 2019-03-21 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物およびパターン形成方法 |
| WO2020031773A1 (ja) * | 2018-08-07 | 2020-02-13 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェット用インク、それを用いた膜形成方法、インク塗膜、硬化シリコーンゴム膜及び多機能性膜 |
| WO2020080326A1 (ja) | 2018-10-18 | 2020-04-23 | ダウ・東レ株式会社 | 耐寒性に優れる硬化性オルガノポリシロキサン組成物、パターン形成方法および電子部品等 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6383885B2 (ja) * | 2017-01-27 | 2018-08-29 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | 熱伝導性ポリオルガノシロキサン組成物 |
| CN110234711B (zh) * | 2017-01-27 | 2022-02-11 | 迈图高新材料日本合同公司 | 导热性聚硅氧烷组合物 |
| US11680194B2 (en) | 2017-04-20 | 2023-06-20 | Dow Toray Co., Ltd. | Method for producing silicone-based adhesive |
| KR102513551B1 (ko) * | 2021-07-21 | 2023-03-23 | 주식회사 지엔지나노텍 | 단일벽 탄소나노튜브를 포함하는 고투명 대전방지 점착제 |
-
2014
- 2014-10-03 JP JP2014204769A patent/JP2015091576A/ja active Pending
-
2015
- 2015-06-22 JP JP2015124888A patent/JP2015214703A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019054371A1 (ja) | 2017-09-15 | 2019-03-21 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 電子部品またはその前駆体、それらの製造方法 |
| WO2019054370A1 (ja) | 2017-09-15 | 2019-03-21 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物およびパターン形成方法 |
| KR20200053517A (ko) | 2017-09-15 | 2020-05-18 | 다우 도레이 캄파니 리미티드 | 경화성 올가노폴리실록산 조성물 및 패턴 형성 방법 |
| JPWO2019054371A1 (ja) * | 2017-09-15 | 2020-11-19 | ダウ・東レ株式会社 | 電子部品またはその前駆体、それらの製造方法 |
| US11384244B2 (en) | 2017-09-15 | 2022-07-12 | Dow Toray Co., Ltd. | Curable organopolysiloxane composition, and pattern forming method |
| US11551988B2 (en) | 2017-09-15 | 2023-01-10 | Dow Toray Co., Ltd. | Electronic component or precursor thereof, and method for manufacturing same |
| JP7264817B2 (ja) | 2017-09-15 | 2023-04-25 | ダウ・東レ株式会社 | 電子部品またはその前駆体、それらの製造方法 |
| WO2020031773A1 (ja) * | 2018-08-07 | 2020-02-13 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェット用インク、それを用いた膜形成方法、インク塗膜、硬化シリコーンゴム膜及び多機能性膜 |
| WO2020080326A1 (ja) | 2018-10-18 | 2020-04-23 | ダウ・東レ株式会社 | 耐寒性に優れる硬化性オルガノポリシロキサン組成物、パターン形成方法および電子部品等 |
| KR20210080433A (ko) | 2018-10-18 | 2021-06-30 | 다우 도레이 캄파니 리미티드 | 내한성이 우수한 경화성 오가노폴리실록산 조성물, 패턴 형성 방법 및 전자 부품 등 |
| JP7432519B2 (ja) | 2018-10-18 | 2024-02-16 | ダウ・東レ株式会社 | 耐寒性に優れる硬化性オルガノポリシロキサン組成物、パターン形成方法および電子部品等 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2015214703A (ja) | 2015-12-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2015091576A (ja) | 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いたパターンの形成方法 | |
| WO2013191279A1 (ja) | 二剤型の硬化性ポリオルガノシロキサン組成物及びその使用 | |
| JP5010762B2 (ja) | 熱硬化型ポリオルガノシロキサン組成物及びその使用 | |
| KR102306232B1 (ko) | 실리콘 점착제용 박리제 조성물, 박리 필름 및 적층체 | |
| JP7053124B2 (ja) | 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光学ディスプレイ | |
| JP5308564B1 (ja) | 二剤型の硬化性ポリオルガノシロキサン組成物及びその使用 | |
| JP5824130B2 (ja) | 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物の硬化物、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた接着体、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた接着体の製造方法、並びにその使用 | |
| JP7378199B2 (ja) | 光硬化型ポリオルガノシロキサン組成物 | |
| WO2019054370A1 (ja) | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物およびパターン形成方法 | |
| JP5502226B1 (ja) | 二つの基材を含む接着体の製造方法 | |
| TWI722207B (zh) | 硬化性聚有機矽氧烷組成物及其用途 | |
| JP7130316B2 (ja) | 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 | |
| JP6337336B2 (ja) | アルコキシシリル基含有シルセスキオキサンおよびその組成物 | |
| JP5414931B1 (ja) | 二剤型の硬化性ポリオルガノシロキサン組成物及びその使用 | |
| JP7366051B2 (ja) | 硬化性シリコーン組成物及びその硬化物、積層体及びその製造方法、並びに光学装置又は光学ディスプレイ | |
| TWI634160B (zh) | 有機矽金屬複合物、包括其之可固化有機聚矽氧烷組合物及包括此組合物的光學材料 | |
| KR20230106638A (ko) | 자외선 경화성 오가노폴리실록산 조성물 및 그의 용도 | |
| JP2015074663A (ja) | 二剤型の硬化性ポリオルガノシロキサン組成物及びその使用 | |
| JP2015074664A (ja) | 二剤型の硬化性ポリオルガノシロキサン組成物及びその使用 | |
| JP2014006359A (ja) | 熱硬化型ポリオルガノシロキサン組成物及びその使用 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150319 |